「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition (resist) which allows formation of a thin line pattern excellent in development property and adhesion to a substrate, so that a black matrix for a color filter having high light blocking effect and high reliability can be created, and to provide a method for producing the composition.例文帳に追加

現像特性及び基板密着性の優れた細線パターンの形成を可能とし、高遮光性で高信頼性を持つカラーフィルター用のブラックマトリックスの作成が可能となる感光性樹脂組成物（レジスト）及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition allowing all of flame retardance, prevention of bleed-out of flame retardant components and resistance to plating bath contamination; a photosensitive film, a photosensitive laminate, a permanent pattern formation method and a printed substrate using the photosensitive composition.例文帳に追加

難燃性、難燃剤成分のブリードアウト防止、及び耐めっき浴汚染性の全てを備えた感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

When forming the light-shielding pattern by using the photosensitive resin composition, a resin layer formed using the photosensitive resin composition will not yellow due to ultraviolet exposure and therefore the transmission type screen excellent in color expression can be provided.例文帳に追加

またこの感光性樹脂組成物を用いて遮光パターンを形成すると、前記感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂層が紫外線暴露によっても黄変しないため、色表現に優れた透過型スクリーンとすることができる。 - 特許庁

There is provided the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition wherein transmittance for light of wavelength 193 nm for film thickness of 100 nm is 55-80%, and the pattern forming method using the composition.例文帳に追加

膜厚１００ｎｍにおける波長１９３ｎｍの光に対する透過率が５５％以上８０％以下であることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having a thermocompression bonding property enabling improvement of connection reliability, and to provide a film adhesive, an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with an adhesive layer, and a semiconductor device using the composition.例文帳に追加

接続信頼性の向上を可能とする熱圧着性を有する感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having sufficiently high resolution, photosensitivity and adhesion property and sufficiently low contamination property for a plating bath, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board by using the above composition.例文帳に追加

解像度、光感度および密着性が十分に高く、めっき浴汚染性が十分に低い感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing solution composition capable of improving development properties, such as sensitivity, resolution, pattern features, and film residual rate in a photolithographic process which uses a photosensitive composition containing a polyarylene resin having a crosslinking functional group.例文帳に追加

架橋性官能基を有するポリアリーレン樹脂を含有する感光性組成物を使用したフォトリソグラフィ方法において、感度、解像度、パターン形状、残膜率などの現像性を向上させることができる現像液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which, when used as a resist material, can be decomposed and removed at a low temperature and ensures a very small residual amount of undecomposed components, and a method for forming an electrically conductive pattern using the positive photosensitive composition.例文帳に追加

レジスト材料として用いた場合に低温で分解除去することができ、未分解成分の残存量が極めて少ないポジ型感光性組成物、及び該ポジ型感光性組成物を用いる導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant cation-curable composition for inkjet which, as a solder resist ink, can carry out direct drawing on a printed wiring board with an inkjet printer; a cured product thereof; and a printed wiring board prepared by forming a solder resist pattern by using the composition.例文帳に追加

プリント配線基板にインクジェットプリンターを用いてソルダーレジストインクとして直接描画可能な耐熱性のあるカチオン硬化性組成物及びその硬化物、並びにそれを用いてソルダーレジストパターンを形成したプリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition which is suitable for a color filter material excellent in exposure sensitivity, developability, a pattern sectional shape, and excellent in adhesion to an overcoat layer, and to provide a color filter substrate formed by using the composition.例文帳に追加

露光感度、現像性、パターン断面形状が良好であり、かつ、オーバーコート層との密着性に優れたカラーフィルタ材料として好適な感光性着色組成物、及び該組成物を用いて形成されたカラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition from which a small amount of substance elutes into a liquid for immersion exposure kept in contact with the composition in immersion exposure, and which excels in sensitivity and resolution and can form a resist film giving a good pattern profile.例文帳に追加

液浸露光時に、接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、感度及び解像度に優れ、得られるパターン形状が良好なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive patterning composition having photosensitivity which can be patterned by a photolithographic method and which can develop the conductivity by heat treatment at a relatively low temperature and to provide a method for manufacturing a conductive pattern film by using the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターニングすることができる感光性を有し、かつ比較的低温の加熱処理で導電性を発現させることができる導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法を得る。 - 特許庁

This is a pattern forming method which uses sulfonium salt (A) having cation having -SO_2-coupling which is a compound generating acid by irradiation with active light or radioactive ray, a photosensitive composition containing sulfonium salt, and this photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物である−ＳＯ_2−結合を有するカチオンを有するスルホニウム塩（Ａ）、当該スルホニウム塩を含有する感光性組成物、及び、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film, from which a resist underlay film having excellent etching durability can be formed, and the composition which has excellent filling performance for a stepped substrate and generates less outgas during forming a resist underlay film, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

優れたエッチング耐性を有するレジスト下層膜を形成でき、段差のある基板に対する埋め込み性能に優れ、レジスト下層膜形成時のアウトガスの少ないレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition suitable for use of a dye, excellent in rectangularity of a pattern shape, and having high sensitivity and large latitude to development time, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

染料の使用に好適であり、パターン形状の矩形性に優れ、且つ、高感度で、現像時間に対するラチチュードの広い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive resin composition that has improved clearance property of contact hole pattern in forming a colored picture element by using the colored photosensitive resin composition and leaves no undissolved material not to essentially remain on a substrate in development.例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物を用いて着色画素を形成する際、得られるコンタクトホールパターンの抜け性が良好で、かつ現像時に基板上に本来残るべきでない未溶解物が残らない着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a refractive index variable composition in which the refractive index of the material is varied by an easy method and a refractive index difference can be varied in a desired positive or negative direction, and to provide a method for forming a refractive index pattern from the composition.例文帳に追加

材料の屈折率変化を簡易な方法で行うとともに、屈折率差を正または負の任意の方向に変化することができる屈折率変化性組成物および該組成物から屈折率パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

When conditions for deforming rhythm pattern data are set among integral composition conditions, rhythm pattern feature linking tables for every bar are generated based on the set conditions, the contents of the table are read by every bar, a rhythm pattern data base 34 is retrieved together with other conditions such as rhythm and the number of syllable and a plurality of candidates for rhythm pattern data compatible to the conditions are selected for the bar.例文帳に追加

全体作曲条件のうち、リズムパターンデータを変形するための条件が設定されると、この設定条件に基づいて１小節毎のリズムパターン特徴連結テーブルが生成され、そのテーブル内容が１小節毎に読み出され、拍子や音節数等の他の条件とともに、リズムパターンデータベース３４が検索されて、当該小節に対して、上記条件に適合するリズムパターンデータの候補が複数個選択される。 - 特許庁

This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.例文帳に追加

末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a curable composition excellent in storage stability and having favorable developability, and further, a curable composition excellent in dispersibility and dispersion stability of a pigment, having favorable developability and excellent in pattern forming property even when the composition contains a pigment, and to provide a color filter having a color region formed of the composition, a method for manufacturing the color filter, and a solid-state imaging device having the color filter.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像性が良好な硬化性組成物、さらに、顔料を含む場合であっても、顔料の分散性、分散安定性に優れ、且つ、現像性が良好でパターン形成性に優れた硬化性組成物、それにより形成された着色領域を有するカラーフィルタ、その製造方法、並びに該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A textile cloth containing a thermoplastic fiber is printed with a composition containing a foamable material and a water-soluble binder taking consideration of safety and environmental conservation, foamed by heat-treatment and washed to obtain an arbitrary steric pattern and opal finish pattern at a low cost.例文帳に追加

熱可塑性繊維を含む繊維布帛に安全、環境両面に配慮した発泡体と水溶性バインダ−を含む組成物を印捺後、熱処理による発泡を行い、次いで洗浄処理を行うことで、任意の立体柄や透かし柄を安価で提供できる。 - 特許庁

To provide a curable composition having good pattern forming property and excellent in adhesion to a hard surface as a base, even when a colorant is contained at a high concentration, a color filter obtained by forming a high-resolution colored pattern, and a method for producing the same.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れた硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin composition suitable for use as the resin component of a chemical amplification type positive type photoresist which exhibits superior sensitivity and resolution and gives a pattern having a good cross-sectional shape when a fine resist pattern is formed using radiation, e.g. KrF excimer laser light.例文帳に追加

放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーを用いて微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ポジ型ホトレジストの樹脂成分として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a thick photosensitive film with good adhesiveness even on a substrate of copper, an iron-nickel alloy or the like having inferior adhesiveness and capable of forming a space pattern with good perpendicularity, and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.例文帳に追加

銅や鉄−ニッケル合金等の接着性の悪い基板上に対しても膜厚の感光性膜を接着性よく形成でき、スペースパターンを垂直性よく形成可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition which is used to manufacture a circuit board of a semiconoductor element such as an IC, a liquid crystal display device, a thermal head, etc., and further for lithography processes of other photofabrication, and is not apt to have film reduction and pattern collapse, and a pattern forming method.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel radiation-sensitive composition for a color filter, which is free of undissolved substances remained or a scum on a pattern edge during development, and gives a pixel and a black matrix without chipping in a pattern edge or undercut even when the luminous energy of exposure is low.例文帳に追加

現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える新規なカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The irradiation of the composition with radiations through a pattern mask decomposes the components (C) and (A) at the irradiated part to produce a difference in refractive index between the irradiated part and the unirradiated part, thus forming a pattern different in refractive index.例文帳に追加

この組成物にパターンマスクを介して放射線を照射することにより、放射線照射部の上記（Ｃ）成分および（Ａ）成分が分解し、放射線照射部と放射線未照射部との間に屈折率の差を生じ、屈折率が異なるパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of being coated in slit coating at a high speed, obtaining a pattern-like thin film having desired pattern size even in a low exposure amount and superior in strength and being developed in a short time period.例文帳に追加

スリット塗布における高速塗布が可能であり、低露光量であっても所望のパターン寸法を有し且つ強度に優れるパターン状薄膜が得られ、短い時間で現像可能である感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for print which is used to give a pattern to textile products such as cloth, and in which also when pressed in the status that high temperature is given, which can give a decoration pattern on cloth which hardly generates neither deformation nor discoloration.例文帳に追加

布帛などの繊維製品に模様を付すために用いられるプリント用組成物であって、高熱がかかる状態でプレスした際も、変形や変色が生じにくい加飾模様を布帛上に付与できる樹脂プリント用組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

A composition vinyl polymer floor tile high in designability comprises a colored opaque pattern part and a translucent pattern part containing 30-70 wt.% of an opaque filler and 10-50 wt.% of talc.例文帳に追加

本発明は、コンポジションビニル床タイルにおいて、着色不透明模様部分と、不透明充填材量が３０〜７０重量％であって、タルクが１０〜５０重量％含有された半透明模様部分とからなる意匠性の高いコンポシションビニル床タイルが得られる。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of expanding the width of selectivity of a usable material, excellent in antistatic effect, having high sensitivity, and capable of efficiently forming a high-resolution fine resist pattern free of pattern defects and dislocation in a simple and easy way at a low cost.例文帳に追加

使用可能な材料の選択性の幅を広くすることができ、帯電防止効果に優れ高感度であり、パターン欠落や位置ずれ等がなく、高解像度で微細なレジストパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁

A resist pattern forming method includes: a resist film forming step of forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition; an exposure step of selectively irradiating the resist film with exposure light; and a development step of developing a pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対し露光光を選択的に照射する露光工程と、パターンを現像する現像工程とを含む。 - 特許庁

To provide an electroconductive resin composition having an excellent conductivity in a formed minute electroconductive pattern and capable of reducing cost, and an electronic circuit board excellent in the conductivity of the electroconductive pattern and capable of reducing cost.例文帳に追加

形成される微細な導電性パターンにおいて、良好な導電性を有し、低コスト化を図ることが可能な導電性樹脂組成物、及び導電性パターンの導電性が良好であるとともに、低コスト化を図ることが可能な電子回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a great affinity for an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for suppressing the generation of residues after the development of a resist film thereof, while maintaining good adhesion of the resist film to a substrate so as to form a fine resist pattern, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an etching composition for completely removing such a metallic content as to deposit on a part other than a wiring pattern and cause the lowering of insulation reliability, without eroding the surface of the wiring pattern formed of a layer of a conductor such as copper.例文帳に追加

銅などの導体層による配線パターンの表面を浸食することなく、配線パターン以外の部分に付着する絶縁信頼性を低下させる原因となる金属成分を完全に除去することが可能な新規なエッチング処理組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for an ArF excimer laser which excels in basic physical properties as a resist, such as transparency, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile, in particular, excels in solubility in a resist solvent, and reduces the roughness on a pattern side wall after development.例文帳に追加

透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減するＡｒＦエキシマレーザー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a pattern of ≤0.8 μm width with good perpendicularity and having no dependence on baking when a resist film of ≥3.0 μm is patterned on a stepped board and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.例文帳に追加

３．０μｍ以上のレジスト被膜を段差基板上に、幅０．８μｍ以下のパターンを形成する際、垂直性のよく形成でき、ベーク処理に依存性がないポジ型ホトレジスト組成物と感光性膜付基板とレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

(1) This manufacturing method of the composition floor tile having the cloud-shaped pattern or the marble pattern of the clear contour is characterized by continuously cutting a surface of a plate-like material or a sheet-like material provided by calender molding by a cutting machine having a rotary blade.例文帳に追加

（１）カレンダー成形で得られる板状物又はシート状物の表面を、回転刃を有する切削機械により連続的に切削することを特徴とする、輪郭の鮮明な雲形模様又はマーブル模様を有するコンポジション床タイルの製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer free of remaining of undissolved matter and generation of scum on a pattern edge in developing, causing neither chip nor undercut of a pattern edge even under small exposure energy, and giving pixels and a black matrix.例文帳に追加

現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a polymer excellent in solubility in a resist solvent, to provide a resist composition capable of forming a resist pattern having few defects and a small line edge roughness and to provide a production process capable of producing a substrate having formed thereon a highly accurate fine pattern with few defects.例文帳に追加

レジスト用溶媒への溶解性に優れた重合体；ディフェクトが少なく、ラインエッジラフネスが小さいレジストパターンを形成できるレジスト組成物；および、欠陥の少ない高精度の微細なパターンが形成された基板を製造できる方法を提供する。 - 特許庁