「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a composition for a fluororesin-containing powder coating which gives a coating film having good weatherability and a designed embossed pattern on its surface.例文帳に追加

耐候性が良好でかつ表面に意匠性を有する凹凸模様が形成された塗膜を与えることができる、含フッ素樹脂粉体塗料用組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive photoresist composition having high revolving power, giving a rectangular photoresist and ensuring low edge roughness of a line pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少ないポジ型フォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, FILM-LIKE ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER PROVIDED WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure having good lithography characteristics and also having hydrophobicity suitable for immersion exposure, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

良好なリソグラフィー特性を有し、かつ液浸露光用として好適な疎水性を有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solvent or solvent composition for pattern printing of an organic electroluminescence device, which ensures high solubility of a resin additive such as a binder resin and has low hygroscopicity.例文帳に追加

バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物を提供する。 - 特許庁

The via wiring 5 and the pattern wiring 6 comprise conductive material of the same composition, and the conductive material includes conductive metal and ceramic particles added to the conductive metal.例文帳に追加

ビア配線５とパターン配線６とは、同じ組成の導体材料からなり、この導体材料は、導体金属と、該導体金属に添加されたセラミック粒子とを含む。 - 特許庁

A clear photoresist pattern is formed by using the photoresist composition to improve the reliability of patterning of a lower film, whereby the reliability of a manufacturing process can be improved.例文帳に追加

これによって、鮮明なフォトレジストパターンを形成して、下部膜のパターニングの信頼性を向上させることにより、製造工程の信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good plating resistance, sensitivity, developability and adhesive force, and to provide a photosensitive film, a method for forming a pattern using the photosensitive film, and a printed board.例文帳に追加

耐めっき性、感度、現像性、及び密着性が良好な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、並びにそれを用いたパターン形成方法及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive resin composition capable of forming a high-accuracy pattern, excellent in thermal decomposability of organic components, and ensuring less shrinkage after baking.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができるとともに、有機成分の熱分解性に優れ、かつ、焼成後に収縮の少ない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such characteristics as sensitivity, resolving power, pattern shape and line edge roughness when an electron beam or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像力、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a phase-change material layer pattern, a method of manufacturing a phase-change memory device, and a phase-change material polishing slurry composition for use in the methods.例文帳に追加

相変化物質層パターンの形成方法、相変化メモリー装置の製造方法、及びこれに使用される相変化物質層研磨用スラリー造成物が開示される。 - 特許庁

SILICON-CONTAINING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN-FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL ELEMENT, GATE INSULATING FILM AND THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加

シリコン含有感光性組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition excellent in various characteristics as a resist such as sensitivity, resolution and focal depth and capable of suppressing the occurrence of foreign matter on a resist pattern.例文帳に追加

感度、解像度及び焦点深度などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン上における異物の発生を抑制可能なポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a top coating composition for a photoresist that can be used in a liquid immersion lithography process, and to provide a method for forming a photoresist pattern by a liquid immersion lithography process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ工程に適用されうるフォトレジスト用のトップコーティング組成物、及び液浸リソグラフィ工程によるフォトレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist protection film capable of forming a resist pattern having excellent shape stability, high resolution and excellent depth of focus.例文帳に追加

形状安定性が良好であり、高解像度で、かつ、焦点深度にも優れるレジストパターンを形成することが可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive pattern with excellent conductivity and with high aspect ratio in a cross-section on a surface of a substrate, and to provide a composition for using the method.例文帳に追加

基材表面に、導電性に優れ、断面のアスペクト比が高い導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive resin composition which improves line edge roughness(LER), has high sensitivity and high resolving power and ensures improved surface roughness of a resist pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を改良し、高感度、高解像力を有し、更にレジストパターンの表面荒れが改良されたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter having adhesion to a substrate and satisfactory developability even under low exposure energy and excellent in surface smoothness of a pattern, storage stability, etc.例文帳に追加

基板への密着性、低露光量でも十分な現像性、パターン表面平滑性、保存安定性等に優れたカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供。 - 特許庁

To provide a resist composition for electron beams, extreme UV rays or X-rays which has excellent sensitivity and resolving properties, and satisfies rectangular pattern shapes, dissolution contrast, and edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、溶解コントラスト、エッジラフネスをも満足する電子線、ＥＵＶ又はＸ線用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

When a photosensitive resin composition layer disposed on the surface of a substrate is exposed through a pattern mask and either the unexposed regions or the unexposed regions and the surface of the substrate under the unexposed regions are sandblasted to form a rugged pattern, a photosensitive resin composition layer containing a urethane-acrylic resin having no carboxyl group as a base polymer is used.例文帳に追加

基材面に設けた感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、未露光部分又は未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して凹凸模様を形成させるにあたり、カルボキシル基を含有しないウレタンアクリル系樹脂を、ベースポリマーとして含む感光性樹脂組成物層を使用する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrically conductive ink composition which can form a good electrically conductive small-gauge wire pattern and enables low temperature firing or curing by ultraviolet irradiation, a printing method which can simply print a good electrically conductive small-gauge wire pattern with the use of the electrically conductive ink composition, and a print formed by the printing method.例文帳に追加

良好な導電性細線パターンを形成することができ、低温焼成もしくは紫外線照射による硬化が可能な導電性インキ組成物、該導電性インキ組成物を用いて良好な導電性細線パターンを簡便に印刷することができる印刷方法、及び該印刷方法により形成された印刷物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition which has high light-shielding properties in an infrared region and high translucency in a visible light region, and with which a pattern having excellent resolution in alkali development can be formed, and which has excellent temporal stability, as well as photosensitive layer, a permanent pattern, a wafer level lens, a solid state imaging element and a pattering method using the composition.例文帳に追加

赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像による解像性に優れたパターンを形成可能であり、更には、経時安定性に優れた重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having re-adherability after exposure, and improved in pattern formability with an alkali developer, heat resistance after re-adhesion and pasting ability at low temperature when formed into a film shape; an adhesion sheet using the composition; an adhesive pattern; a semiconductor wafer with an adhesive layer; and a semiconductor device; and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

アルカリ現像液によるパターン形成性及び再接着後の耐熱性と、フィルム状に形成されたときの低温貼付性の改善された、露光後の再接着性を有する感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosetting resin composition having excellent printing durability to a concavo-convex die upon embossing and forming a fine concavo-convex pattern layer excellent in heat resistance and chemical resistance; and to provide an optical article such as a diffraction grating and a relief hologram having a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed by using the resin composition.例文帳に追加

エンボス成形において凹凸金型への優れた耐刷性を有し、かつ耐熱性、耐薬品性に優れた微細凹凸パターン層を形成することができる光硬化性樹脂組成物を提供し、かつ該樹脂組成物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備える回折格子やレリーフホログラム等の光学物品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with high developing solution dispersion stability, not generating agglomerate, and having high edge phase property, high trackability, and high plating resistance, a photosensitive resin laminated body having a photosensitive resin layer made of the composition, a forming method of a resist pattern using the laminated body, and a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性、高いめっき耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has high transparency for radiations, has excellent resist fundamental physical properties such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern formation, and has high resolution performance and small pattern line edge roughness, to provide a polymer capable of being used for the composition, and to provide a new compound used for synthesizing the polymer.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、解像性能が高く、パターンのラインエッジラフネスが小さい感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a color filter which is superior in chemical resistance, adhesiveness or the like, in an ink composition used in an inkjet method, which is suitable for forming a pixel pattern to an upsized glass substrate and mass-produced at low cost, and to provide a color filter formed by using a cured material, obtained by curing the composition.例文帳に追加

大型化が進むガラス基板に対して画素パターンを形成するのに適していると共に、低コスト化及び量産化が可能なインクジェット法に用いるインキ組成物において、耐薬品性や密着性等に優れたカラーフィルター用組成物、及びこれを硬化して得られた硬化物を用いて形成したカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

To provide a resin having a uniform composition distribution, to provide a production method for supplying the same in excellent reproducibility, to provide a positive type photosensitive composition having an improved resist performance (LER (line edge roughness), further exposure latitude) by a positive type photosensitive composition containing the resin and to provide a method for forming a pattern, using the same.例文帳に追加

組成分布が均一な樹脂、およびそれをを再現性良く供給できる製造方法を提供し、さらに、それを含有するポジ型感光性組成物によってレジスト性能（ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）・露光ラチチュード）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem wherein a manufacturing line for laminating photosensitive resin composition by coating composition prepared for coating is made large and long when each layer of a color filter is deposited by performing the lamination, pattern exposure and development of the photosensitive resin composition on a transparent plastic sheet.例文帳に追加

カラーフィルターの各層を透明プラスチックシート上に、感光性樹脂組成物の積層、パターン露光、および現像によって形成する際に、感光性樹脂組成物の積層を、塗布用に調製された組成物のコーティングによって行う際の製造ラインが長大化する点を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide a paste composition for forming a heat-resistant electroconductive pattern on a base plate by direct printing, a paste composition for forming a solderable electroconductive circuit to produce a flexible printed circuit board (FPCB) and a paste composition for forming a printed antenna conjunctive with RFID (radio frequency identification) tip.例文帳に追加

耐熱性を有する導電パターンを基板に直接印刷して形成するためのペースト組成物、ＦＰＣＢ（フレキシブルプリント回路板）を製造するために半田付け可能な導電性回路を形成するためのペースト組成物、及びＲＦＩＤチップと接合可能な印刷アンテナを形成するためのペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a base blocking antireflection film, the composition which has excellent coating property and significantly suppresses production of microbubbles and which results in an antireflection film sufficiently decreasing a standing wave effect and having excellent solubility with water and a developing solution, and to provide a method for forming a resist pattern using the above composition.例文帳に追加

優れた塗布性を有し、マイクロバブルの発生が著しく抑制され、形成された反射防止膜が定在波効果を十分低減でき、かつ水および現像液に対する溶解性に優れた塩基遮断性反射防止膜形成用組成物、並びに当該組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The objective pattern forming method includes a step for applying and drying a resin composition containing a polyimide precursor or polybenzoxazole on a substrate, a step for curing the composition by heating, a step for patternwise irradiating the composition with ion beams, a step for developing the polyimide precursor and a step for imidating the polyimide precursor by heating.例文帳に追加

ポリイミド前駆体又はポリベンズオキサゾールを含む樹脂組成物を、基板上に塗布し乾燥する工程、加熱硬化する工程、イオンビームをパターン照射する工程、該ポリイミド前駆体を現像する工程、該ポリイミド前駆体を加熱イミド化する工程を含むことからなる樹脂組成物のパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resin composition for positive photoresist, in which a polymer itself can be solubilized upon irradiation with light, even if the polymer has an adamantane skeleton, and which has high etching resistance (in particular, high dry etching resistance) and can form a fine pattern, using a simple composition with high accuracy.例文帳に追加

アダマンタン骨格を有していても、光照射によりポリマーそのものを可溶化でき、耐エッチング性（特に耐ドライエッチング性）が高く、簡単な組成で微細なパターンを高い精度で形成できるポジ型フォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitable for use as a material of protective films and insulating films of electronic parts which cannot be subjected to high temperature treatment and electronic parts which require heat and alkali resistances and to provide a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

高温処理ができないような電子部品や耐熱性、耐アルカリ性を必要とする電子部品の保護膜、絶縁膜の材料として好適な感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is optimally used for a liquid crystal display device, permits easy pattern formation and has a characteristic excellent in color reproduction, optical stability, heat resistance and reliability, to provide a display device using the photosensitive resin composition and to provide a manufacturing method of the display device.例文帳に追加

液晶表示体装置に最適に用いられる、パターン形成が容易で、色再現性、光安定性、さらに耐熱性、信頼性に優れた特性を有する感光性樹脂組成物、それを用いた表示装置及びその製造方法。 - 特許庁

To provide a curable composition for a color filter which cures with high sensitivity to form an excellent cured film, has a good pattern forming property and excels in adhesion to a hard surface being a substrate, even when the composition contains a colorant in high concentration.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度で硬化して優れた硬化膜を形成し、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁