「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

By using the above composition, a fine pattern with rich flexibility can be formed, a coating film excellent in solder heat resistance, electroless plating resistance, chemical resistance or the like can be formed, and the composition is suitable to be used as a solder resist for the flexible printed circuit board.例文帳に追加

その結果、可撓性に富み、微細なパターンを形成でき、はんだ耐熱性、耐無電解めっき性、耐薬品性等に優れた被膜を形成でき、フレキシブルプリント配線板のソルダーレジストとして好適に用いることができる。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition capable of improving roughness characteristics, an exposure latitude and a development defect performance, and suppressing a standing wave, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード（Exposure Latitude）、及び現像欠陥性能の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition having high surface smoothness, heat resistance, toughness, developability, and insulation property, a curable film using the curable composition, a curable laminate, a method for forming a permanent pattern, and a printed substrate.例文帳に追加

表面平滑性、耐熱性、強靭性、現像性、及び絶縁性に優れた硬化性組成物、並びに該硬化性組成物を用いた硬化性フィルム、硬化性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板を提供することである。 - 特許庁

To provide a curable composition excelling in surface smoothness, heat resistance, toughness, developability and insulation, and to provide a curable film, a curable laminate, a permanent pattern forming method and a printed board that uses the curable composition.例文帳に追加

表面平滑性、耐熱性、強靭性、現像性及び絶縁性に優れた硬化性組成物、並びに、該硬化性組成物を用いた硬化性フィルム、硬化性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, a film of which even when cured at ≤250°C, after curing ensures physical properties comparable to those of a film cured at a high temperature, to provide a method of manufacturing a pattern-cured film using the resin composition, and to provide electronic components.例文帳に追加

２５０℃以下で硬化しても、硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with reduced blob defects, which is suitable for not only a normal dry process but for an immersion process, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、ブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that attains formation of a resist pattern having superior adhesion to a substrate, good image forming property and les bleeding or sublimation products of the composition, even at long-term use, and to provide a photosensitive resin laminate.例文帳に追加

基材との密着性に優れ、画像形成性が良く、長時間使用されても組成物の染み出しや昇華生成物が少ないレジストパターンが形成できる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition having high sensitivity, with which a resist pattern with high resolution can be prepared and a semiconductor device having a high integration degree can be manufactured with high productivity, and to provide a compound that can be used for the composition.例文帳に追加

高感度で、高解像度のレジストパターンを作製することができ、集積度の高い半導体素子を高い生産性で作製することが可能となるレジスト組成物およびそれに用いることができる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can suppress contamination of a lens barrel, which has high etching durability, which can solve problems about edge roughness or the like and which has having high sensitivity, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

本発明は、鏡塔汚染を抑制可能でかつ高エッチング耐性を有し、エッジラフネス等の問題を解決でき高感度な、感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A compound used for the photosensitive composition and a pattern-forming method that uses the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）特定の一般式で表され、且つヘテロ原子を有する芳香族基を少なくとも１つ有する多価スルホニウム塩を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitable for use as a material of protective films and insulating films of electronic parts which cannot be subjected to high temperature treatment and electronic parts which require alkali resistance and to provide a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

高温処理ができないような電子部品や耐アルカリ性を必要とする電子部品の保護膜、絶縁膜の材料として好適な感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or a radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, excellent roughness characteristics and the reduction of development defects, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像度、良好なラフネス特性、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in pattern accuracy and adhesion, developable with a dilute alkali solution and suitable for a resistive element, a phosphor, a partition wall, a ceramic substrate, a conductor circuit or the like and a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

パターン精度、密着性に優れ、希アルカリ溶液で現像ができ、抵抗体、蛍光体、隔壁、セラミック基板あるいは導体回路等に適する感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a colored composition to be used for a relief reverse offset printing method by which a uniform ink film is formed on a silicone blanket and a precise pattern having a long duration time of transferability can be formed, and to provide a color filter formed by the relief reverse offset printing method using the above colored composition.例文帳に追加

シリコーンブランケット上に均一なインキ皮膜を形成し、転写性持続時間が長く精密なパターンを形成することができる凸版反転オフセット印刷法に使用する着色組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photo-acid generating agent which enhances transparency and can prevent the lowering of sensitivity and of thermal stability, a photoresist composition containing the photo-acid generating agent and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

透明性を向上させた上で、感度及び熱安定性の低下を防止することができるようにした光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance and capable of accurately forming a fine pattern, and a color filter using the alkali developable colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a coloring composition which is high in dye content or high in sensitivity and excellent in pattern form even if a film thickness is large in an excimer laser exposing system for specific wavelengths, and a color filter using the composition.例文帳に追加

特定の波長のエキシマレーザ露光方式において、色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度であると共に、パターン形状に優れた着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供を目的とする。 - 特許庁

This invention relates to (A) a polymerizable imide monomer represented by general formula (1) (wherein R is H or methyl), (B) a photosensitive polymer, (C) a photocuring composition including a photoinitiator, a pattern production method using the composition and an electronic component.例文帳に追加

（Ａ）一般式（１）［式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示す］で表される重合性イミド単量体、（Ｂ）感光性ポリマー及び（Ｃ）光開始剤を含む光硬化性組成物、これを用いたパターンの製造法並びに電子部品。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for a nanoimprint having excellent evenness of a coating film and filtration properties and exhibiting excellent pattern accuracy after curing, a cured product using the above composition, a method for producing the cured product, and a member for a liquid crystal display.例文帳に追加

塗布膜均一性およびろ過性に優れ、かつ硬化後のパターン精度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint, which is excellent in pattern precision, surface hardness, light transmissivity and heat resistance after heating and curing and to provide a cured material made using the curable composition for nanoimprints, a method for producing the cured material, and a member for a liquid crystal display.例文帳に追加

加熱硬化後のパターン精度、表面硬度、光透過性および耐熱性に優れたナノインプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材を提供する。 - 特許庁

To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in resolution, chemical resistance (plating resistance), adhesion property, mechanical strength and flexibility, and to provide a photosensitive element, a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board using the above composition.例文帳に追加

解像度、耐薬品性（耐めっき性）、密着性、機械強度及び柔軟性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, focus latitude, bridge defect preventing performance and dependency of sensitivity on post exposure baking (PEB) temperature, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、フォーカス余裕度、ブリッジ欠陥性能、及び、感度の露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To produce a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution used after the exposure of the resist.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性に優れ、レジストを露光した後に使用する現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物に関する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which avoids cracking of a resist pattern in plating, without having to add any plasticizer, and can obtain a wrinkle-free uniform film thickness when a resist film is formed of the photoresist composition.例文帳に追加

可塑剤を添加しなくてもメッキ時に、レジストパターンにクラック等が生じないフォトレジスト組成物であって、当該フォトレジスト組成物でレジスト膜を形成する場合、しわのない均一な膜厚を得ることができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having good resolution performance and being excellent particularly in property of uniformly forming a resist pattern and in mask reproducibility, and to provide a polymer suitably used in the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

良好な解像性能を有し、特に、レジストパターンの均一形成性及びマスク再現性にすぐれた感放射線性樹脂組成物及びその感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体を提供する。 - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF ALKENYL PHENOL POLYMER, ALKENYL PHENOL POLYMER PRODUCED BY THE PRODUCTION METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING THE ALKENYL PHENOL POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

アルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition containing a new salt and a resin composition, having a good resist performance suitable for an excimer laser lithography, giving an improved line edge roughness and having a good pattern profile.例文帳に追加

新規な塩と樹脂成分を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した、レジスト性能が良好であるとともに、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for formation of an antireflection film having a high antireflection effect, causing no intermixing, and capable of forming a resist pattern excellent in resolution, accuracy or the like, and to provide an antireflection film formed from the composition.例文帳に追加

反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度および精度などに優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物およびそれから形成された反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

A positive type resist composition for electron beams, X-rays, and UV, which contains a specific trianylsulfonium compound having benzenesulfonic acid anion having a specific substituent, and the pattern forming method using the composition are provided.例文帳に追加

特定置換基を有するベンゼンスルホン酸アニオンを有する特定のトリアリールスルホニウム化合物を含有することを特徴とする電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an ink composition for water indicator, giving an ink film dissolved by water to collapse the pattern of the film, for example, a water-indicator ink composition for the detection of urine of a disposable diaper.例文帳に追加

水分によってインキ被膜が溶け出し、図柄が崩れ去る等の水分インジケーター用インキ組成物に関し、例えば使い捨ておむつの尿の判定などに利用される水分インジケーター用インキ組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a black photosensitive resin composition forming an insulating film, and to further provide a black photosensitive resin composition forming a film which takes on a more desirable black color and gives a more preferable pattern shape.例文帳に追加

本発明では、絶縁性を有する膜を形成する黒色感光性樹脂組成物を提供し、さらに、より好ましい黒色を呈しパターン形状の良好な膜を形成する黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive white composition for color filter which can maintain excellent pattern adhesion without causing residues, and an applied film and a color filter formed using the photosensitive white composition for color filter.例文帳に追加

残渣を生じることなく良好なパターン密着性維持することができるカラーフィルタ用感光性白色組成物、及びこのカラーフィルタ用感光性白色組成物を用いて形成した塗膜及びカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a large depth of focus (DOF), small line width roughness (LWR) and reduced bridge defects, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly integrated and accurate electronic device, and to provide a chemical amplification resist composition used in the method and a resist film formed from the chemical amplification resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to the electromagnetic wave-shielding materials 10 including a transparent substrate 1 and a projection pattern layer 2 composed of a conductive composition formed in a prescribed pattern on the transparent substrate 1, wherein the conductive composition contains conductive particles and a binder resin, and in observation of a transverse cross section of the projection pattern layer 2 by electron microscopic photography, at least a part of the conductive particles has a fused continuation.例文帳に追加

透明基材１と、透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、凸状パターン層２の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.例文帳に追加

パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which is excellent in a pattern form with uniformity, high sensitivity and high resolution in thick film pattern forming, is excellent in substrate adhesiveness, film leaving property and storage stability, can obtain a high throughput, and can bear a metallic growth stress.例文帳に追加

厚膜パターン形成において、均一性、高感度・高解像度でパターン形状に優れ、基板密着性、残膜性、貯蔵安定性に優れ、高スループットが得られ、かつ金属成長応力に耐え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, good adhesiveness to a substrate and a good trailing shape of a pattern, excellent in pattern shape, ensuring a wide exposure margin and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好でパターン形状に優れ、露光マージンが広く、しかも感度、解像度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a solder resist pattern forming method which allows formation of a high-resolution resist pattern with good reproducibility regardless of the thickness of a solder resist layer and the influence of a blue pigment, and a photosensitive composition suitable for use in the forming method.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good sensitivity to exposure, good developability and good tack property after coating and drying on a substrate and capable of forming a pattern having a good pattern shape, good resolution, and good adhesion to the substrate.例文帳に追加

露光感度、現像性が良好で、基板上に塗布し乾燥させた後のタック性が良好であると共に、パターン形状、解像性、基板密着性がいずれも良好なパターンを形成することができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a printing ink composition excellent in pattern forming property free from unevenness of coating and ink repelling on a substrate in forming coating layer by letterpress reversing offset method, and to provide a method for forming a resist pattern and a method for producing electronic parts and to provide electronic parts.例文帳に追加

凸版反転オフセット法により塗布層を形成する際に、基材上で塗布むらやインキのはじきが発生せず、パターン形成に優れる印刷インキ組成物、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition excellent in roughness characteristics, exposure latitude, focus depth and development defect performance and capable of forming a pattern having a satisfactory shape and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁