「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE USING THE SAME AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition excellent in various characteristics such as resolving power, margin for exposure, edge roughness of a pattern and density dependence.例文帳に追加

解像力、露光マージン、パターンのエッジラフネス、疎密依存性の諸特性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is highly sensitive and excellent in cold-heat-shock property, bending resistance, plating resistance, resolution, permanent pattern shapes, and developability.例文帳に追加

高感度であり、冷熱衝撃性、折り曲げ耐性、耐メッキ性、解像性、永久パターン形状、及び現像性に優れた感光性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in storage stability and sensitivity, and capable of forming a cured film with excellent transparency, solvent resistance and pattern shape.例文帳に追加

保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for hair-restoring and growing agent, which is excellent in liquid appearance after preparation, develops excellent hair growth effect, and is especially effective against male pattern alopecia.例文帳に追加

調製後の液外観に優れ、かつ優れた育毛効果を発現でき、特に男性型脱毛症に対して有効な育毛剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable for a liquid immersion exposure process in a resist pattern formation and for image development using an organic solvent.例文帳に追加

レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an insulation pattern forming method and a resin composition capable of forming a multilayer structure easily without performing a complicated etching step, etc.例文帳に追加

煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble silicone resin excellent in weatherability, light resistance and heat resistance, and usable in a photosensitive resin composition enabling fine pattern formation.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物に使用可能なアルカリ可溶性シリコーン樹脂を提供する。 - 特許庁

This invention includes a step of forming the resist pattern by discharging a composition containing a photosensitizer on an object to be processed under reduced pressure.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

To remove red discoloration of the surface of a conductor pattern when forming a flexible printed wiring board using a photosensitive polyimide resin composition to which bismuthiol is added.例文帳に追加

ビスムチオールを添加した感光性ポリイミド樹脂組成物を用いてフレキシブルプリント配線板を作成する際に、導体パターンの表面の赤変色を除去する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in electron beam or EUV lithography, and which provides a pattern having high sensitivity and good line-edge roughness.例文帳に追加

電子線又はＥＵＶリソグラフィーに好適に用いられ、優れた感度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide manufacturing method of a composition containing silver ultrafine particles and a conductive pattern which do not need sintering process and dipping treatment.例文帳に追加

焼結工程および浸漬処理が不要であり、優れた導電性が得られる銀超微粒子含有組成物および導電性パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition from which a fine pattern can be formed in widely varying thickness by irradiation with the light having a wide wavelength range.例文帳に追加

幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a salt, a resist composition or the like which can form a pattern excellent in an outstanding resolution, a mask error factor and a focus margin.例文帳に追加

優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt which is useful as an acid generation agent of a resist composition, capable of forming a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤として有用な塩を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and excellent in low temperature preservability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SUBSTRATE HAVING INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成された基板製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition is used for forming a photoresist film in a method of forming a resist pattern including a predetermined immersion exposure process.例文帳に追加

所定の液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、フォトレジスト膜を形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物である。 - 特許庁

The digital camera executes photographing, when it discriminates that the photographer approaches the preset composition pattern by directional instructions of the four LEDs.例文帳に追加

デジタルカメラが、４つのＬＥＤの方向指示によって、撮影者が予め設定された構図パターンに近づいたと判定したときに撮影を実行する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition superior in uniformity and for improving quality of pattern formation such as sensitivity, resolution, adhesion during development and developability.例文帳に追加

均一性（ユニフォミティー）に優れ、感度、解像性、現像時の密着性や現像性などパターン形成の品質を向上するフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for a thick film, which forms a high-resolution pattern having a high aspect ratio, and has high sensitivity and high storage stability.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION, PERMANENT RESIST USING THE SAME, PREPREG, METAL-CLAD LAMINATED BOARD, SEALING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

硬化性樹脂組成物、これを用いた永久レジスト、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

A layer (1) comprising the radiation sensitive resin composition is formed on a substrate (2), exposed and developed to form a pattern and a transparent film (5) is obtained.例文帳に追加

この感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し、該層（１）を露光したのち現像してパターンを形成して、透明膜（５）を得る。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power and ensuring reduced development defects and improved rectangularity of a pattern.例文帳に追加

高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.例文帳に追加

優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING RESIST RESIN, RESIST RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造されたレジスト用樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin forming excellent fine overcrowded or isolated pattern, and excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and a positive-type photoresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを良好に形成し、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

By utilizing a cured layer of the composition for fine pattern formation formed by the method, other patterns being made finer can be formed.例文帳に追加

この方法により形成された、微細パターン形成用組成物の硬化層を利用することで、別の微細化されたパターンを形成させることもできる。 - 特許庁

To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern even as a desired resolution is produced for a resist layer having a prescribed composition.例文帳に追加

所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having pattern forming properties and sufficient adhesiveness after exposure and little causing exudation from an adhesive layer edge part.例文帳に追加

パターン形成性及び露光後の十分な接着性を有し、かつ、接着剤層端部からの染み出しが少ない感光性接着組成物を提供する。 - 特許庁

The oxime derivative has high sensitivity and very high preservation stability, and can be utilized as a photosensitive composition capable of highly precisely and efficiently forming a pattern.例文帳に追加

高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。 - 特許庁

To provide a pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition which exhibits high durability, particularly high moisture resistance after photocuring, and a colored pattern forming method.例文帳に追加

光硬化後の耐久性、特に耐湿性が高い顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a pattern which use a plastic mold and a visible radiation curable resin composition.例文帳に追加

本発明の目的は、プラスチックモールドおよび可視光硬化性樹脂組成物を用いる、パターン形成方法およびパターン形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an evaluation method of a resist composition, used in a method of forming a resist pattern including an immersion lithography (immersion exposure) process.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィー（浸漬露光）工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a composition which is comprehensively excellent in photocurable properties, adhesion, a mold release property, a membrane-leaving property, a pattern shape, a coating property (I), a coating property (II) and suitability for etching.例文帳に追加

光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性に総合的に優れた組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁

POLYHYDROXYURETHANE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

ポリヒドロキシウレタン化合物及びその製造方法、並びに、硬化性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern (5) is formed and a color filter (6) can be produced.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることによって着色パターン（５）を形成して、カラーフィルター（６）を製造することができる。 - 特許庁

To provide a resin composition giving a cured product having high refractive index, excellent mold releasability, excellent mold pattern reproducibility, excellent adhesiveness, and excellent shape retaining property.例文帳に追加

高屈折率で、離型性、型再現性、密着性、形状保持性に優れた硬化物を与える樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film from the resist composition on an object surface, and exposing and developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像する。 - 特許庁