「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemical amplification type positive photoresist composition having superior sensitivity and resolution, capable of giving a good section shape of a resist pattern and less susceptible to a light proximity effect, that is, ensuring a small size difference between an isolated resist pattern and a dense resist pattern.例文帳に追加

感度、解像性が優れ、かつ良好なレジストパターン断面形状を与えることができるという特性に加えて、光近接効果による影響の少ない、すなわち孤立レジストパターンと密集レジストパターンのサイズの差が少ない化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which suppresses occurrence of shape anomaly and can form a fine and high-definition resist pattern with good dimensional accuracy, and to provide a resist pattern forming method by which a fine and high-definition resist pattern can be efficiently formed with good dimensional accuracy, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

形状異常の発生を抑制し微細かつ高精細なレジストパターンを寸法精度よく形成可能なレジスト組成物、微細かつ高精細なレジストパターンを効率的かつ寸法精度よく形成可能なレジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.例文帳に追加

光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁

To provide new high molecular compound useful as a base material component of positive resist composition, compound useful as a monomer of this high molecular compound, positive resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography excellent in solubility of resist materials, a resist pattern forming method using the resist composition for liquid immersion lithography, and a fluorine-containing resin useful as an additive for use in the resist composition for liquid immersion lithography.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can form a high-definition baked product pattern, and can form the pattern without causing missing lines due to undercut, in a bus electrode having a double-layered structure that includes a black layer and a white layer, and to provide a baked product pattern using the same and a plasma display panel having the baked product pattern.例文帳に追加

高精細な焼成物パターンの形成を可能とし、また、白黒二層構造のバス電極においては、さらにアンダーカットによるライン欠損を生じることなくパターンの形成を可能とした感光性樹脂組成物及びそれを用いた焼成物パターン並びにその焼成物パターンを備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which has favorable sensitivity and with which a colored pixel pattern with a good profile can be formed and to provide a method for forming a colored pixel pattern with a good profile, a color filter containing a colored pixel pattern with a good profile, and a liquid crystal display having a color filter containing a colored pixel pattern with a good profile.例文帳に追加

形状良好な着色画素パターンを作成でき感度が良好な着色感光性樹脂組成物、形状良好な着色画素パターンの形成方法、形状良好な着色画素パターンを含むカラーフィルタ、および形状良好な着色画素パターンを含むカラーフィルタを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat resistant negative photoresist composition having satisfactory adaptability even when a photosensitive polyimide precursor has any structure and also having excellent sensitivity and resolution, to provide a method for producing a pattern giving a pattern of a good shape with excellent sensitivity, resolution and heat resistance by using the composition and to provide high reliability electronic parts by imparting such a pattern.例文帳に追加

感光性を有するポリイミド前駆体がいかなる構造であっても充分に対応でき，しかも感度や解像度も優れる耐熱性ネガ型フォトレジスト組成物、前記組成物の使用により、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法並びに形状と特性のパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photocuring blue colorant composition for color filter excellent in pattern forming property by UV light laser which is excellent in hue and with which the chipping and peeling of the pattern-like film formed can be suppressed and which is good in pixel shape and can form a coloring pattern excellent in contact hole formation property, a color filter in which the composition is used, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display apparatus having the color filter.例文帳に追加

色相に優れ、且つ、形成されたパターン状の膜における欠けや剥がれが抑制され、画素形状が良好であり、コンタクトホール形成性にも優れた着色パターンを形成しうる、紫外光レーザーによるパターン形成性に優れた光硬化性青色着色組成物、それを用いたカラーフィルタ、その製造方法、該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures high shelf stability of a solution of the composition, enhances dissolution contrast between unexposed and exposed parts and forms a pattern with high sensitivity and good resolution while maintaining a high rate of a residual film, a method for producing an accurate pattern of a good shape and high reliability electronic parts with a pattern obtained by the method.例文帳に追加

本発明は、組成物溶液の保存安定性が高く、未露光部と露光部の溶解コントラストを高くし、高い残膜率を維持しながら高感度で解像性の良好なパターンを形成させる感光性樹脂組成物、 良好な形状の精密なパタ−ンの製造法及び前記製造法により得られるパターンを有することにより、信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound capable of constituting a positive type resist pattern having excellent resolution and capable of favorably resolving a resist pattern even by using an acid generating agent having weak strength of an acid generated, a compound suitable for producing the polymer compound and a positive type resist composition containing the polymer compound and to provide a method for forming resist pattern by using the positive type resist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、かつ発生する酸の強度が弱い酸発生剤を用いても良好にレジストパターンを解像できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry film which is useful for pattern formation of a radiation-sensitive resin composition layer, which requires high-accuracy fine working, and which gives a radiation-sensitive resin composition layer excellent in surface smoothness and resolution.例文帳に追加

高精度の微細加工が要求される感放射線性樹脂組成物層のパターン形成に有用な、表面平滑性、解像度に優れる感放射線性樹脂組成物層を与えるドライフィルムの提供。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular fine pattern, and ensuring high in-plane uniformity of a film in coating, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

高感度で矩形な微細パターン形成が可能でかつ塗布時の膜面内均一性が高い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which has excellent photocurability and excellent resolution and can be processed into patterns having high aspect ratios and high accuracy, and to provide a flat panel display having a desired cured pattern formed from the photosensitive paste composition.例文帳に追加

光硬化性や解像度に優れ、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にする感光性ペースト組成物及びそれを用いて所望の焼成物パターンを形成したフラットパネルディスプレイを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and sufficiently suppressing production of sludge, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board by using the composition.例文帳に追加

感度、解像度に優れかつスラッジの発生を十分に抑制することができる感光性樹脂組成物、及びこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a high sensitivity and high resolving degree positive type photosensitive resin composition having characteristic features that the loss of a film thickness is reduced, the pattern shape does not collapse, and there is no scum of the photosensitive resin composition in exposed portions.例文帳に追加

膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で、かつ高解像度であるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high wet heat resistance, a high elastic modulus of a cured product at high temperature and excellent hollow structure retention property, and to provide a method for forming a rib pattern using the composition, and electronic components.例文帳に追加

耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたリブパターンの形成方法、及び電子部品の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition with high sensitivity and high resolution wherein films are hardly decreased, a pattern form is not broken, and scums of the photosensitive resin composition in an exposed area do not remain.例文帳に追加

膜減りが少なく、パターン形状の崩れがなく、更に露光部の感光性樹脂組成物の残り（スカム）がない特性を有する高感度で、かつ高解像度であるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a new development pretreatment agent for lithography which efficiently reduces defects without varying a composition of a resist composition or without inducing quality degradation of a resist pattern to be obtained by using the agent.例文帳に追加

レジスト組成物自体の組成を変えることなく、しかも使用することによって得られるレジストパターンの品質低下を伴わずに、効率よくディフェクトを減少させうる新規なリソグラフィー用現像前処理剤を提供する。 - 特許庁

To provide a light-shielding curable composition which exhibits excellent dispersion property, excellent storage stability, and excellent pattern edge formability, and a wafer level lens and a light-shielding color filter which have a light-shielding section produced using the curable composition.例文帳に追加

パターンエッジの形成性、分散性および保存安定性に優れた遮光性硬化性組成物、並びにそれを使用して作成された遮光部を有するウエハレベルレンズおよび遮光性カラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition improved in adhesiveness of a resin pattern to a substrate, and to provide a color filter formed by using the photosensitive resin composition, and a liquid crystal display having the color filter.例文帳に追加

樹脂パターンの基板への密着性がより向上した感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルター、及び当該カラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a specific sulfonium compound as a compound which decomposes upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid, and the pattern-forming method that uses the photosensitive composition is also provided.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The resist composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation and a specified basic compound, and the method for forming a pattern is carried out, using the resist composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び特定の塩基性化合物を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a photosetting resin composition which has high transparency, resolution and sensitivity and provides uniformity in coating, proper developing capability, pattern shapes, heat resistance, preservability and stability and to provide a display element using the composition.例文帳に追加

高い透明性と高い解像度を併せ持ち、かつ高感度であり、さらに塗布均一性、現像性、パターン形状、耐熱性、保存安定性等を満足する光硬化性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor of the compound and a method of producing the same, an acid generator, a resist composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative photosensitive composition which has high sensitivity and good pattern forming property free of residue on development, while retaining temporal stability, with production of foreign substances suppressed, and adhesion to a substrate, in a dye-containing negative curable composition.例文帳に追加

染料含有のネガ型硬化性組成物における異物発生を抑えた経時安定性及び下地との密着性を保持しつつ、感度及び現像残渣のない良好なパターン形成性を向上する。 - 特許庁

To provide a photosensitive black composition having high light-shielding property and high resistance, excellent developability, resolution (sensitivity), pattern features (linearity) and the like, and to provide a color filter having a black matrix using the composition.例文帳に追加

高い遮光性と高い抵抗値とを有し、現像性、解像性（感度）、及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物、並びにそれを用いたブラックマトリックスを備えたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition giving a reduced fluctuation range of resist pattern width, having high sensitivity to radiation and exhibiting excellent etching resistance, and a copolymer suitably employable for the resin composition.例文帳に追加

レジストパターンの幅の変動が小さく、放射線に対する感度が高く、更にエッチング耐性に優れた感放射線性樹脂組成物及びこの樹脂組成物に好適に用いることができる共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a new oxime ester compound functionable as a highly sensitive radical polymerization initiator, and to provide a curable composition using the same, and to provide a negative-type resist including the composition, and to provide a method for forming an image pattern using the resist.例文帳に追加

高感度なラジカル重合開始剤として機能しうる新規オキシムエステル化合物及びそれを用いた硬化性組成物、及びそれを含むネガ型レジスト及びそれを用いた画像パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a curable resin composition having high definition and capable of forming a resin pattern in which occurrence of a crack is suppressed, and to provide a cured product prepared by curing such a curable resin composition.例文帳に追加

高い解像性を有しつつ、クラックの発生が抑制された樹脂パターンを形成することのできる硬化性樹脂組成物、及びそのような硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for an oxide thin film to be able to produce easily a metal oxide thin film or a metal oxide complex thin film whose composition is definite and uniform and whose pattern is complicated, and its producing method.例文帳に追加

組成が明確で均一であり、かつ複雑にパタ−ン化された金属酸化物薄膜又は金属酸化物複合体薄膜を容易に製造できる酸化物薄膜用組成物及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The buffer membrane formed by using a polymer composition having the above composition has an ashing property to reduce the step for forming a pattern of a semiconductor element and a capacitor and maximize the process efficiency.例文帳に追加

このような組成を有する高分子組成物で形成されたバッファ膜は半導体素子のパターン及びキャパシタを形成する工程の縮小及び工程効率を極大化させることができるアッシング特性を有する。 - 特許庁

A photopolymerizable colored composition layer formed of the pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition is selectively irradiated with light having a predetermined wavelength and is developed, whereby a colored pattern excellent in durability is formed.例文帳に追加

この顔料分散型感放射線樹脂組成物からなる光重合性着色組成物層に所定波長の光を選択的に照射し、現像することにより、耐久性に優れた着色パターンを作成する。 - 特許庁

To provide a photoresist pattern forming method using a radiation-sensitive resin composition and an upper layer film forming composition each having sufficient transmittance at an exposure wavelength, particularly at 248 nm (KrF) and 193 nm (ArF).例文帳に追加

露光波長、特に２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）で十分な透過性を持つ、感放射線性樹脂組成物と上層膜形成組成物を用いたフォトレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition capable of forming a rectangular pattern, ensuring less residue in an unexposed portion and excellent in light and heat fastness, and also provide a method for producing a color filter using the curable composition.例文帳に追加

矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少なく、光堅牢性および熱堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method using the photosensitive composition and the compound in the photosensitive composition are also provided.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定の一般式で表される有機酸を発生する化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern by a photolithography method characteristic of low moisture absorptivity and low moisture permeability, and excellent in adhesiveness with flexible substrates, and a method for joining substrates using the resin composition.例文帳に追加

吸湿・透湿性が低く、且つフレキシブル基板との接着性に優れるフォトリソグラフィ手法によりパターンの形成が可能な感光性樹脂組成物、及びそれを用いた基板の接着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition that is thermally curable, has extremely superior storage stability and develops superior chemical resistance, hardness, dielectric characteristics and electric insulation after curing, and to provide a photosensitive composition using a curing accelerator, a photosensitive film using it, a highly precise permanent pattern and a method for forming it effectively.例文帳に追加

熱によって硬化可能で保存安定性に極めて優れ、硬化後は優れた耐薬品性、硬度、誘電特性及び電気絶縁性などを発現する熱硬化性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in sensitivity and storage stability without causing discoloration on copper or copper alloy, and to provide a method for manufacturing a cured relief pattern using the photosensitive resin composition, and a semiconductor device.例文帳に追加

銅又は銅合金の上でも変色を起こさず、感度及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる硬化レリーフパターン製造方法、並びに半導体装置を提供する。 - 特許庁

The compound containing the phenol substituent expressed by formula 1 constitutes a resist composition together with a photo acid generator, and provides the resist composition excellent in sensitivity, resolution and line edge roughness while capable of drawing a super fine pattern.例文帳に追加

式１で表されるフェノール置換基を含む化合物は、光酸発生剤と共にレジスト組成物を構成し、超微細パターンの描画が可能でありながらも、感度、解像度、およびラインエッジラフネスに優れたレジスト組成物。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN, RESIST COMPOSITION USING PHOTOSENSITIVE RESIN, METHOD OF PATTERN FORMATION USING RESIST COMPOSITION, DEVICE PRODUCED BY METHOD THEREOF AND METHOD OF EXPOSURE USING RESIST HAVING PHOTOSENSITIVE RESIN例文帳に追加

感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法、該パターン形成方法により製造されるデバイス及び該感光性樹脂を有するレジストを用いた露光方法 - 特許庁

Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a repeating unit of a structure represented by the following general formula (EI), a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

下記一般式（ＥＩ）で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂（Ａ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIC COMPOUND, POLYMERIC COMPOUND PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

高分子化合物の製造方法、その製造方法によって製造された高分子化合物、その高分子化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition containing a sulfonium salt-based acid generator and having high sensitivity in a range of long wavelength ≥365 nm, and a resist pattern forming method using the chemically amplified photoresist composition.例文帳に追加

スルホニウム塩系酸発生剤を含有し、かつ３６５ｎｍ以上の長波長領域における感度が高い化学増幅型ホトレジスト組成物、該化学増幅型ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a laser-decomposable resin composition usable also in the form of a thick film, having high engraving sensitivity and enabling efficient engraving with a low laser energy and provide a pattern-forming material produced by using the composition.例文帳に追加

厚膜にも利用可能であり、彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能であるレーザー分解性樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成材料を提供すること。 - 特許庁