「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a colored photosensitive resin composition, wherein a change in exposure amount is small in pattern formation before and after storage.例文帳に追加

本発明の目的は、保存の前後で、パターンを形成する際の露光量の変化が小さい着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali-developable resin composition having excellent sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance, and the like and forming a minute pattern with high precision, a compound useful as a raw material for the alkali-developable photosensitive resin composition, an alkali-developable resin composition using the compound, and an alkali-developable photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity while maintaining storage stability in a level suitable for practical use, and in particular, to provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV light, and a resist film formed of the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

保存安定性について実用レベルを損なうことなく、優れた感度を有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、特には電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物、該組成物を用いてなるレジスト膜及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in adhesion to a substrate when formed into a film and capable of forming a fine resin pattern having a large film thickness and a high aspect ratio, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

成膜した際の基板との密着性に優れ、高膜厚、高アスペクト比の微細な樹脂パターンを形成することが可能な感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which it is possible to form a high resolution resist pattern with low line edge roughness, and which is used as an upper layer resist of a two layer resist process and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

低ラインエッジラフネスで、高解像度なレジストパターンを形成することが可能となり、２層レジストプロセスの上層レジストとして用いることができる感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The resist composition is excellent in heat resistance, can form a pattern in an appropriate thickness when the column spacers of a liquid crystal display element are formed and has good flatness and resolution, a good residual film rate and good pattern stability.例文帳に追加

本発明に係るレジスト組成物は耐熱性に優れるだけでなく、液晶表示素子のカラムスペーサ形成時適切な厚さにパターン形成が可能で、平坦性、解像性、残膜率、パターン安定性が良好である。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING PLATED LAYER, PRODUCTION METHOD FOR METAL PATTERN MATERIAL AND METAL PATTERN MATERIAL OBTAINED THEREBY, AND PRODUCTION METHOD FOR SURFACE METAL FILM MATERIAL AND SURFACE METAL FILM MATERIAL OBTAINED THEREBY例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法及びそれにより得られた金属パターン材料、表面金属膜材料の作製方法及びそれにより得られた表面金属膜材料 - 特許庁

To provide a positive resist composition that has a hydrophobic property during exposure, has a characteristic in which the hydrophilic property of a resist film surface becomes high during development, and forms a favorable resist pattern, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure, a cured pattern forming method and a cured pattern which are suitably used in a liquid immersion exposure process for exposing a resist film via a liquid for liquid immersion exposure such as water.例文帳に追加

水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a positive resist composition suitable for multiple exposures, ensuring that in the multiple exposure process of performing exposure a plurality of times on the same resist film, the pattern is reduced in the film loss.例文帳に追加

同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターンの膜減りを抑えられる、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in photosensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element, a method for producing a resist pattern using the element and a method for producing a printed wiring board using the pattern.例文帳に追加

本発明は、光感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びこれを用いたレジストパターンの製造法とプリント配線板の製造法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polymer compound capable of forming a resisit pattern that has a high resolusion property and high photographic sensitivity, and whose collapse is protected, to provide a positive-type resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

高解像性、高感度であって、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成できる高分子化合物および該高分子化合物を含むポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves a pattern shape and exposure latitude and reduces bridge defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン形状及び露光ラチチュード（Exposure Latitude）の改善とブリッジ欠陥の低減との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which improves exposure latitude, depth of focus and pattern shape and to suppress standing waves, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

露光ラチチュード、フォーカス余裕度及びパターン形状の改善、並びに、定在波の抑制を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring photosensitive composition which is excellent in suppressing changes in chromaticity in a formed color film, enables formation of a pattern having excellent solvent resistance, and is suitably used for formation of a color pattern of a color filter.例文帳に追加

形成された着色膜における色度変化の抑制に優れ、且つ、耐溶剤性に優れたパターン形成が可能であり、カラーフィルタの着色パターン形成に好適に用いうる着色感光性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for forming a silicon-containing film which has high anti-reflection effect, can form a silicon-containing film excellent in oxygen-proof ashing, and can stably form a resist pattern without a trailing pattern at the bottom.例文帳に追加

反射防止効果が高く、耐酸素アッシング性に優れるシリコン含有膜を形成することができ、且つボトムに裾引きがないレジストパターンを安定して形成できるシリコン含有膜形成用組成物等を提供する。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes the steps of: forming a resist film on a support by using the resist composition; exposing it; and alkali developing it to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

At this time, the pattern material to be used is prepared by curing a resin composition for the pattern material prepared by compounding additives such as a curing agent or the like with a composite resin wherein a diallyl phthalate resin is added to a thermosetting resin.例文帳に追加

この際に、柄材として、熱硬化性樹脂にジアリルフタレート樹脂を添加した複合型樹脂に硬化剤などの添加剤を配合して調製された柄材用樹脂組成物を硬化させたものを用いる。 - 特許庁

The resist pattern-forming method includes steps of: forming a resist film on a support using the positive resist composition; exposing the resist film; and developing the resist film to form a resist pattern.例文帳に追加

支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

When the solder resist pattern made of a cured film of the solder resist composition is formed on the printed wiring board, it can be easily determined through a laser beam reflection method whether the solder resist pattern is formed properly.例文帳に追加

上記ソルダーレジスト組成物の硬化皮膜からなるソルダーレジストパターンが形成されたプリント配線板は、ソルダーレジストパターンが適正に形成されているかどうかの良否をレーザー光反射法により簡単に判定できる。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide resin magnet composition where a desired magnetic force pattern can be obtained surely, without generating deterioration of magnetic force, in the case where a complex magnetic force pattern is required in a magnet roller or the like.例文帳に追加

マグネットローラのように、複雑な磁力パターンが要求される場合でも磁力の低下を招くことなく所望の磁力パターンを確実に得ることができる樹脂磁石組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents shape failure of circuit wiring of a fine pattern and generation of sludge, thereby to be able to form circuit wiring of a fine pattern not suffering from disconnection or short circuit.例文帳に追加

微細パターンの回路配線の形状不良及びスラッジの発生を防止することにより、断線やショート等がない微細パターンの回路配線を形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition from which a metal oxide thin film pattern of high contrast in which a crack is hardly generated, is manufactured, and also to provide a photosensitive metal complex, a coating liquid, and a method for manufacturing the metal oxide thin film pattern.例文帳に追加

クラックが生じにくく、高コントラストの金属酸化物薄膜パターンを製造できる感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of easily forming a resist pattern of high accuracy, to provide a method for manufacturing the resist pattern which is easy and has a small number of stages and excellent manufacturing efficiency and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and the like.例文帳に追加

高精度のレジストパターンを容易に形成することができるレジスト組成物、簡易で工程数が少なく製造効率に優れるレジストパターンの製造方法及び半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁

To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The photocurable composition can be applied on a front glass base plate, light-exposed to get a certain pattern, developed, and burned to form the black layer of a bus electrode in a PDP and the black pattern of a black matrix.例文帳に追加

このような光硬化性組成物を前面ガラス基板上に塗布し、所定のパターンに露光し、現像、焼成することにより、ＰＤＰにおけるバス電極の黒層やブラックマトリックスの黒色パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a resist treatment method in which an ultrafine pattern having satisfactory accuracy is formed from a resist composition for the first resist pattern formation in a multi-patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A photosensitive resin composition layer disposed on the surface of a substrate is exposed through a pattern mask and either the unexposed regions or the unexposed regions and the surface of the substrate under the unexposed regions are sandblasted to form a rugged pattern.例文帳に追加

基材面に設けた感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、未露光部分又は未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して、凹凸模様を生成させる。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive baked material pattern having sufficient conductivity after baking in the method of forming the conductive baked material pattern in an atmosphere by using a resin composition containing a base metal.例文帳に追加

卑金属を含む樹脂組成物を用いて大気中で導電性焼成物パターンを形成する方法において、焼成後に十分な導電性を有する焼成物パターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist undercoat forming composition excellent in etching resistance and forming an undercoat pattern which hardly bends in a dry etching process and faithfully transfers a resist pattern to a workpiece substrate with good reproducibility.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて、下層膜パターンが折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coloring photosensitive composition for a color filter, with which sufficient depth curability on exposure is obtained, a color pattern excellent in development solubility, development margin and pattern formation is formed, and high contrast is materialized.例文帳に追加

露光の際に充分な深部硬化性が得られ、現像溶解性、現像マージン、パターン形成性に優れた着色パターンを形成でき、高コントラストを実現するカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The composition for coating a photoresist pattern which contains water and a compound of formula (1) is coated on a previously formed photoresist pattern, thereby reducing a size of a contact hole or a blank space of the photoresist effectively.例文帳に追加

下記式（１）の化合物と水を含むフォトレジストパターンコーティング用組成物を既に形成されたフォトレジストパターン上にコーティングさせることにより、フォトレジストコンタクトホールや余白の大きさを効果的に縮小させる。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet and the pattern layer is formed of an aqueous composition comprising a urethane/acrylic copolymer resin.例文帳に追加

基材シート上に絵柄模様層が形成されている化粧シートであって、前記絵柄模様層が、ウレタン−アクリル共重合体樹脂を含む水性組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a photo-curable nanoimprint composition facilitating pattern transfer, having good adhesion between the pattern and a substrate, good releasability from a mold, superior etching resistance, and good dispersion, and superior in productivity.例文帳に追加

パターンの転写が容易にでき、該パターンの基板との密着性、及び金型からの離型性が良く、エッチング耐性に優れ、分散性のよい組成物で生産性に優れた光硬化性ナノインプリント用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern with a small dimensional change in a thin film and suitable for use in a thin film implantation process, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

薄膜においてレジストパターンの寸法変化の小さいレジストパターンを形成でき、薄膜インプランテーションプロセス用として好適な薄膜インプランテーションプロセス用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition that is developed with an aqueous alkali solution and enables a pattern which is excellent in heat resistance and mechanical characteristics, while having a good shape, and to provide a method of forming a pattern and electronic components.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能であり、耐熱性、機械特性に優れる良好な形状のパタ−ンが得られるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method suitable for fine pattern formation with an electron beam, X-ray or extreme ultraviolet radiation, and a radiation-sensitive resin composition and a radiation-sensitive acid generation group-containing resin for use in the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a colored radiation-sensitive composition which can allow formation of a colored cured film having a uniform hue where color density unevenness is suppressed and which has good developability in coloring pattern formation and excellent pattern forming properties.例文帳に追加

色濃度ムラが抑制された均一な色相の着色硬化膜を形成しうる、着色パターン形成時の現像性が良好でパターン形成性に優れた着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a thermochromic coating composition having design properties high enough to form a pattern harmonious with a highly designed pattern such as a metallic coating or the like and excellent in weather resistance.例文帳に追加

メタリック塗装等の、高度な意匠性を有する塗膜に対しても、これに調和した模様等を形成することのできる、高い意匠性を有し、また、耐候性の良好な熱変色性塗料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-sensitive composition that forms an interlayer insulating film of low relative dielectric constant and forms a good pattern of a few standing waves even on a ground substrate of high reflexibility of a reflectance of 1.0% or higher, and to provide a curing pattern and a forming method of the pattern.例文帳に追加

比誘電率の低い層間絶縁膜の形成が可能であり、反射率１．０％以上の高反射性の下地基板上においても、定在波の少ない良好なパターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in line width variation (LWR), focus latitude (DOF) and pattern profile to more stably form a high-precision fine pattern for producing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a resist composition and a resist film suitable for the method.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁