「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a salt functioning as an acid-generating agent affording a chemically amplified resist composition that exhibits improved LER and forms a pattern of a good shape.例文帳に追加

ＬＥＲが改善され、良好な形状のパターンを形成できる化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which ensures suppressed cracking in thermal flow and is excellent in dry etching resistance, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

サーマルフロー時のクラック発生が低減され、耐ドライエッチング性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition good at lithography performances such as MEEF performance and LWR performance and good at resistance to pattern falling.例文帳に追加

ＭＥＥＦ性能及びＬＷＲ性能等のリソグラフィー性能に優れ、かつパターン倒れ耐性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

By forming a solder resist using such a solder resist composition, even if the solder resist layer is made into the thin film, a circuit pattern on the printed wiring board can be concealed.例文帳に追加

かかるソルダーレジスト組成物を用いてソルダーレジストを形成すれば、ソルダーレジスト層を薄膜化してもプリント配線板の回路パターンを隠蔽できる。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can form a rectangular pattern with high resolution and has superior sensitivity, developing property, size faithfulness, etc.例文帳に追加

高解像度で矩形のパターンを形成でき、しかも感度、現像性、寸法忠実度等に優れたネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC INSULATING FILM USING THE SAME AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法および有機薄膜トランジスタおよびこれを含む表示素子 - 特許庁

To provide a new protective film forming composition for forming a protective film which can be stripped with an alkali developing solution in a method of forming a pattern by liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光によるパターン形成方法においてアルカリ現像液で剥離可能な保護膜を形成できる新規な保護膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good storage stability and heat resistance.例文帳に追加

高コントラストの薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な引置き安定性及び耐熱性を有するポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower layer film for forming a lower layer film superior in pattern transferability (particularly, resist bend resistance in RIE).例文帳に追加

パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.例文帳に追加

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

This composition forms a coating film surface consisting of a major proportion of a smooth surface originated from a medium and a relatively regular-shaped hollow pattern part originated from a vehicle.例文帳に追加

大部分を占める媒体由来の平滑な面と比較的定形な媒質由来の凹模様部分からなる塗膜面を形成する多彩凹模様被覆組成物。 - 特許庁

A method for producing a color filter is also provided which includes a step of forming a pattern by applying the colored curable composition on a support, exposing it through a mask and performing development.例文帳に追加

および該着色硬化性組成物を支持体上に塗布後マスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程を含むカラーフィルタの製造法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition having high sensitivity to i-line and a high rate of a residual film and capable of giving a pattern with no scum after development.例文帳に追加

ｉ線に対して高感度、高残膜率で、更に現像後にスカムの発生がないパターンが得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an anti-static film forming composition used for an upper layer of an electron beam resist, a resist pattern using it, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

電子線レジストの上層に用いられる帯電防止膜形成組成物とそれを用いたレジストパターン及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOCURED PRODUCT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法 - 特許庁

A medley list for loop-reproducing mode is prepared by executing steps S8 and S9 and setting a musical composition number and reproducing of all or release sub-pattern.例文帳に追加

ループ再生モード用のメドレーリストは、ステップＳ８，Ｓ９が実行されて楽曲ナンバ、全部あるいはサビパターンの再生が設定されることにより作成される。 - 特許庁

To provide a composition for nano-imprint excellent in fine pattern forming properties and etching resistance, and to provide an etching resist or permanent film using the same.例文帳に追加

微細パターン形成性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物およびこれを用いたエッチングレジスト、または永久膜を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition from which an excellent pattern top shape can be formed while maintaining line edge roughness.例文帳に追加

ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition from which a cured material having excellent substrate adhesion, pattern reproducibility, and an elastic recovery rate can be obtained.例文帳に追加

本発明は、基板密着性、パターン再現性および弾性回復率が良好な硬化物が得られる硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.例文帳に追加

ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive coloring composition which is excellent in sensitivity, in adhesion property, and in resistance to alkalis, and with which a fine pattern is accurately formed.例文帳に追加

感度、密着性及び耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像型感光性着色組成物を提供すること。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE ACID GENERATOR FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用感放射線性酸発生剤、その製造方法、液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The plated/shaped body is produced through a step for carrying out electroplating using a pattern formed on a substrate from the composition or the resin film as a template.例文帳に追加

メッキ造形物は、基板上に前記組成物または樹脂膜から形成されたパターンを鋳型として電解メッキする工程を経て製造される。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition as a material for a resist film with which a resist pattern having a small LWR (line width roughness) and a wide DOF (depth of focus) can be formed.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、ＤＯＦの広いレジストパターンを形成可能なレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion exposure, which has excellent immersion medium resistance and lithography characteristics at the same time, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and capable of forming a thinnly-filmed and high-definition pattern having a low resistance value on a glass substrate.例文帳に追加

安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition for inkjet recording having low viscosity even at a high concentration and capable of forming a thick pattern by a single ejection of inkjet ink.例文帳に追加

高濃度でも粘度が小さく、１回のインクジェット吐出で厚膜のパターンを形成することができるインクジェット用熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a positive type photosensitive resin composition by which a high sensitivity pattern is obtained at a high rate of a residual film even in thick film processing.例文帳に追加

厚膜加工においても高残膜率で高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in light blocking effect, that is, having a high OD value and capable of forming a fine pattern with high dimensional accuracy.例文帳に追加

遮光性に優れ、すなわち高いＯＤ値を有し、微細パターンを精度良く形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The invention further provides a method for filling the phase change ink composition in an inkjet printer device, melting the ink and ejecting the droplets of the molten ink against a substrate in an image-forming pattern.例文帳に追加

さらに、当該相変化インク組成物をインクジェットプリンター装置に入れ、溶融させ、その液滴を像形成パターンで基体上に噴出させる方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in curability in exposure and capable of forming a pattern structure and a protective film at a low heating temperature or without heat treatment.例文帳に追加

露光時の硬化性に優れ、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING LEAD FRAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、リードフレームの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

In a step for producing a photomask, a light shielding body pattern is directly formed using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbing compound.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パターンを直接形成する。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive resin composition having excellent patterning property and retaining a rectangular pattern form even after heat treatment at a high temperature.例文帳に追加

パターン加工性に優れ、高温での熱処理後も矩形のパターン形状を維持することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can give a resin film having high exposure sensitivity, preferable pattern forming property and excellent heat resistance.例文帳に追加

露光感度が高く、パターン形成性が良好で、耐熱性に優れた樹脂膜を与えることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide the resist composition developable with an aqueous alkaline solution and capable of obtaining a positive pattern good in dimensional control free from trailing on a photomask substrate.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、フォトマスク基板上で裾引きのない寸法制御性のよいポジ型パタンを現出させるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING LEAD FRAME, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、リードフレームの製造方法、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL NANOIMPRINT LITHOGRAPHY, METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME, MICROSTRUCTURE, AND METHOD OF REMOVING PHOTOCURED BODY例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法 - 特許庁

To provide a resist composition giving a resist film with high etching durability and reduced LWR (line width roughness) in EUV lithography that can achieve formation of an ultrafine pattern.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、エッチング耐性が高く、ＬＷＲを低減したレジスト膜を与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.例文帳に追加

高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not require prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity and proper pattern-forming properties.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁