「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alkali developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesiveness, alkali resistance or the like and capable of forming a fine pattern with high accuracy.例文帳に追加

感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide the photosensitive resins composition composed of a polyimide developable in an aqueous alkaline solution and capable of forming a positive pattern and its manufacturing method.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミドからなる感光性樹脂組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition using a high molecular polybenzoxazole precursor soluble in an aqueous alkali solution and having positive pattern forming capability.例文帳に追加

アルカリ水溶液に可溶なポジ型パターン形成能を有する高分子量のポリベンゾオキサゾール前駆体を用いた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION CONSISTING OF EPOXY RING-CONTAINING BASE POLYMER AND SILICON-CONTAINING CROSSLINKING AGENT AND PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

エポキシリングを含むベースポリマーとシリコン含有架橋剤とよりなるネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND METHOD OF PRODUCING THE SAME COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

The pattern must be simpler compared with common yuzen dyeing, but excellent works often use a free and bold composition. 例文帳に追加

絵柄的には通常の友禅染めに比べて簡潔単純なものにならざるを得ないが、優れた作品にはのびやかで自由大胆な構図のものが多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide an adhesive composition having a good following property with a fine pattern on a substrate plate and capable of becoming a cured material without having a void.例文帳に追加

基板上の微細なパターンに対する追随性がよく、ボイドの無い硬化物となり得る接着剤組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a vending machine of simple composition, in which a usage pattern when taking out a commodity is easily judged, and a commodity can be taken out easily.例文帳に追加

簡素な構成で、かつ、商品を取り出すときの使用形態を容易に判断可能とした上で、商品の取り出しが容易に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a new black photosensitive resin composition having a large development margin and high resolution and capable of forming a colored pattern with high sensitivity.例文帳に追加

広い現像マージンおよび高い解像度で、かつ高感度で、着色パターンを形成し得る、新たな黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which prevents deformation of a resist pattern in a high temperature postbaking process and which decreases the degassing amount during high temperature heating.例文帳に追加

高温ポストベーク工程におけるレジストパターンの変形を防止できるとともに、高温加熱時の脱ガス量を低減させることができるようにする。 - 特許庁

The main lobe of the auxiliary antenna 4 is controlled by using the complex weight to obtain an auxiliary beam whose shape is similar to the side lobe pattern shape by so-called directivity composition.例文帳に追加

この複素ウェイトを用いて補助アンテナ４のメインローブを制御し、いわば指向性合成により当該サイドローブパターン形状に類似の補助ビームを得る。 - 特許庁

To provide the radiation sensitive composition high in sensitivity and good in storage stability and capable of forming a resist pattern good in form.例文帳に追加

感度、解像力が良好で、レジストパターンの表面荒れが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成しうる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which can constitute a photoresist composition having an excellent resolution, forming a fine pattern with a good rectangularity, obtaining favorable resist characteristics even when acid strength of an acid generated from an acid generator is weak, and having favorable sensitivity, the photoresist composition using the polymer compound and a resist pattern formation method using the photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape and is capable of obtaining good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak, to provide a photoresist composition using such a polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using such a photoresist composition.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which reduces generation of development defects and scum and can form a pattern excellent in followability to immersion liquid during liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film formed from the composition, and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition, a compound useful as a monomer of the polymeric compound, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymeric compound; a positive resist composition including the polymeric compound; and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a black curable composition for a wafer level lens, the composition excellent in developability upon forming a pattern and excellent in the adhesiveness of a light-shielding film formed therefrom with a lens, and to provide a wafer level lens which can be easily manufactured and has appropriately adjusted luminous energy by the presence of a light-shielding film formed of the composition.例文帳に追加

パターン形成時の現像性に優れるとともに、形成された遮光膜のレンズとの密着性に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物及びそれを用いた遮光膜の存在により光量が適切に調整され、簡易に製造しうるウエハレベルレンズを提供する。 - 特許庁

A ultraviolet setting epoxy resin composition layer is formed on an underclad layer 2 formed on a substrate 1 and then, after the surface of the ultraviolet setting epoxy resin composition layer is exposed by irradiating it with a ultraviolet ray through a photomask of a prescribed pattern, the ultraviolet setting epoxy resin composition layer is heated.例文帳に追加

基板１面に形成されたアンダークラッド層２上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成し、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光した後、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive resin composition having sufficient photopolymerizable property, resulting in a calcined pattern with high resolution, and having excellent flexure property, favorable adhesion property with a substrate and excellent alkali developing property, and to provide a photosensitive inorganic composition using the above photosensitive resin composition.例文帳に追加

十分な光重合性を有し、解像度の高い焼成パターンが得られ、屈曲性に優れ、基材に対する良好な密着性と優れたアルカリ現像性を備えた感光性樹脂組成物及びその感光性樹脂組成物を用いた感光性無機組成物を提供すること。 - 特許庁

The color filter for a solid-state image pickup device is produced by applying the colored photosensitive composition onto a support to form a colored photosensitive composition layer, exposing the colored photosensitive composition layer through a mask, and developing the layer to form a pattern on the support.例文帳に追加

前記着色感光性組成物を、支持体上に塗布して着色感光性組成物層を形成し、前記着色感光性組成物層を、マスクを通して露光し、現像して前記支持体上にパターンを形成することにより固体撮像素子用カラーフィルターを製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having improved use efficiency of light, high sensitivity to i-line and h-line rays, showing proper pattern features and proper raw preservability, and to provide a photosensitive film containing the photosensitive composition and a method for manufacturing a printed board by using the photosensitive composition.例文帳に追加

光の利用効率を向上させ、ｉ線及びｈ線の感度が高く、パターン形状が良好で、生保存性も良好な感光性組成物、該感光性組成物を含む感光性フィルム、及び、該感光性組成物を用いたプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition for an optical waveguide, the composition having excellent storage stability, capable of easily forming a pattern in conventional alkali developing equipment, and having excellent shock resistance, heat resistance, adhesion property, electric insulating property, crack resistance or the like, and to provide a cured product of the composition, and an optical-electric hybrid board.例文帳に追加

優れた保存安定性を有し、既存のアルカリ現像設備で容易にパターン形成でき、耐衝撃性、耐熱性、密着性、電気絶縁性、クラック耐性等に優れる光導波路形成用樹脂組成物、及びその硬化物並びに光・電気混載基板を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.例文帳に追加

感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁

The semiconductor nanocrystal is surface-coordinated with a compound having a photosensitive functional group, the photosensitive composition is a composition for the semiconductor nanocrystal, and the pattern of the semiconductor nanocrystal is obtained by forming a film of the photosensitive semiconductor nanocrystal or the composition, and by exposing and developing it.例文帳に追加

感光性作用基を有する化合物で表面配位された半導体ナノ結晶、半導体ナノ結晶の感光性組成物、及び前記感光性半導体ナノ結晶または前記組成物からフィルムを形成し、これを露光及び現像して半導体ナノ結晶のパターンを得る。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified negative resist film, which composition is effectively sensitive to EB (electron beam) or EUV (extreme ultraviolet radiation) and excellent in roughness, etching resistance, and sensitivity and which composition stably forms a highly precise fine pattern.例文帳に追加

ＥＢ（電子線）又はＥＵＶ（極紫外線）に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、及び感度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成することのできる化学増幅型のネガ型レジスト膜を成膜可能な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film including an ionic polymer in which the composition is capable of forming the resist underlayer having antistatic function and solvent resistance and to provide a method for forming a resist pattern using the resist underlayer film formed from the composition.例文帳に追加

イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition used in a functional element in which two bases placed opposite to each other are bonded together by way of a structure obtained from the negative photosensitive resin composition, the negative photosensitive resin composition being excellent in pattern resolution and in adhesiveness of the structure to the bases.例文帳に追加

対向配置される２つの基盤をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、優れたパターン解像性を有し、且つ構造体と基盤との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition showing little warpage when the composition is cured and resulting favorable workability upon mounting components, and having excellent folding durability, photosensitive characteristics, electric corrosion resistance, and PCT resistance, and to provide a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a flexible wiring board using the composition.例文帳に追加

硬化した際のそり量が小さく、部品実装時の作業性が良好であり、耐折性、感光特性、耐電食性、耐ＰＣＴ性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the coating pattern comprises a process of applying the coating composition on a part of or on the whole of a surface to be coated by one time or in a plurality of times, a process of drying the surface of the coated coating composition, and a process of applying by using a trowel on the surface of the coated coating composition.例文帳に追加

塗装模様形成方法は、前記塗料組成物を、被塗装面の一部又は全部に、１回又は複数回塗りつける工程と、塗りつけられた前記塗料組成物の表面を乾燥させる工程と、塗りつけられた塗料組成物表面をコテ塗りする工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a novel polymer compound available as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymer compound; a positive resist composition including the polymer compound; and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method, a resin composition in which a pattern material, a filler, an internal mold release material, a curing agent, etc., are incorporated in a thermosetting resin is obtained, and a molding is obtained by injecting the composition in a prescribed casting mold and molding and curing the composition.例文帳に追加

熱硬化性樹樹脂に、柄材と、充填剤と、内部離型材、硬化剤等の添加物を配合した樹脂組成物を得て、この樹脂組成物を所定の注型用金型に注入して成形すると共に硬化させることにより成形品を得る人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To provide a resin composition for screen printing that has good screen printability, forms a cured film having a uniform film thickness without causing a mesh mark remaining on a printed pattern, a blur on the printed pattern, the deterioration in bubble escapability or the like and is excellent in continuous moldability.例文帳に追加

スクリーン印刷性が良好であり、メッシュ目残り、にじみ、泡抜け性の悪化等を引き起こすことなく均一な膜厚の硬化膜が得られ、かつ連続成形性にも優れたスクリーン印刷用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for light-blocking pattern formation of a plasma display in which an excellent black electrode that has a high linearity but has no pealing-off or residues, and the light-blocking pattern represented by black stripes can be formed easily.例文帳に追加

直線性が高く、剥がれや残渣のない良好な黒色電極及びブラックストライプに代表される遮光性パターンを容易に形成できるプラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which avoids remaining of undissolved matter and scumming on a pattern edge in development and provides a colored layer free from chipping of a pattern edge and undercut even under low exposure energy.例文帳に追加

現像時に未溶解物の残存やパターンエッジのスカムの生成がなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じない着色層を与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curable composition capable of forming a pixel pattern having such a minute pattern size as ≤2.5 μm and a substantially rectangular cross-sectional shape under low exposure energy, and capable of suppressing occurrence of residues between pixels.例文帳に追加

微細な（例えば、２．５μｍ以下の）パターン寸法を有し断面形状が矩形に近い画素パターンを、低い露光量で形成することができ、画素間の残渣の発生を抑制することができる光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin composition having high transparency for radiation rays, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, a pattern shape and the like, and reduced in line edge roughness of the pattern after development.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れるとともに、現像後のパターンのラインエッジラフネスを低減する。 - 特許庁

To provide a conductive composition capable of sufficiently decomposing/removing photosensitive resin without inflicting thermal damage on a substrate or a lower layer, and to provide a pattern forming method and an electro-optical device manufactured by the pattern forming method.例文帳に追加

熱に弱い基板や下層に熱ダメージを与えることなく、感光性樹脂が十分に分解・除去される導電性組成物、パターン形成方法及び該パターン形成方法によって製造される電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness properties and temporal stability and enables to form a pattern of good configuration, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics and aging stability and enables formation of a pattern of a good shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has good line width roughness (LWR) performance and forms a pattern with suppressed application defects, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能が良好であり、且つ塗布欠陥が抑制されたパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method and a resist film using the same, which form a pattern satisfying high sensitivity, high resolution and favorable line width roughness at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネスを同時に満足するパターンを形成することが可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法並びにレジスト膜の提供。 - 特許庁