「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition for MEMS structure components, capable of forming a rectangular or approximately rectangular profile after baking of a formed pattern.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なＭＥＭＳ構造部材用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.例文帳に追加

半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a positive heat resistant photosensitive resin composition having high sensitivity and also ensuring a good pattern shape and a good residual film ratio in an unexposed region and to provide a semiconductor device using the same.例文帳に追加

感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の耐熱感光性樹脂組成物、及びそれを用いた半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a technique by which good sensitivity is obtained with respect to a resist composition for a lithography process with EUV or an electron beam and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ＥＵＶまたは電子線を用いたリソグラフィプロセス用のレジスト組成物及びレジストパターン形成方法において、良好な感度が得られる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound usable for lithographic application and a resist composition containing the polymeric compound and to provide a method for formation of a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which retains satisfactory intrasurface uniformity even in a thin film process and reproduces the desired resist pattern with high sensitivity and high resolving power.例文帳に追加

薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、所望のレジストパターンを高感度、高解像力で再現し得るレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and enables to form a low-resistance and high-definition pattern having high adhesion strength to a substrate in the form of a thin film.例文帳に追加

安価で、低抵抗、高精細かつ基板に対して薄膜で密着強度が高いパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FABRICATING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, PRINTED WIRING BOARD AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法、並びにプリント配線板、及びそれを用いた電子部品 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR ORGANIC FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY, SPINLESS COATING METHOD THEREOF, FABRICATION METHOD OF ORGANIC FILM PATTERN USING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY FABRICATED BY THE SAME例文帳に追加

液晶表示装置の有機膜フォトレジスト組成物、そのスピンレスコーティング方法、これを用いた有機膜パターン形成方法及びこれにより製造された液晶表示装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and little dependence on pattern density (iso-dense bias) and capable of stably forming various fine patterns with high accuracy.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、粗密依存性が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A water-soluble resin composition comprising a water-soluble resin and an acid generating agent is applied on the resist pattern 3 formed on a substrate 1 to form the coating layer 4.例文帳に追加

基板１上に形成されたレジストパターン３上に、水溶性樹脂と酸発生剤を含有してなる水溶性樹脂組成物を塗布して被覆層４を形成する。 - 特許庁

The crepe-pattern coating material composition is obtained by formulating an oil-free polyester resin having a hydroxy group, an amino resin or a phenol resin of a curing agent, the tung oil and a sulfonic acid-based curing catalyst.例文帳に追加

水酸基を有するオイルフリーポリエステル樹脂、硬化剤のアミノ樹脂又はフェノール樹脂、桐油、及びスルホン酸系硬化触媒を配合したちぢみ模様塗料組成物。 - 特許庁

To provide nano carbon material complex paste which is based on a nano carbon material and has high dispersibility and uniform composition and to provide a method for forming a pattern by using the nano carbon material complex paste.例文帳に追加

ナノ炭素材料を主成分とし、高分散性を持ち、組成が均一なナノ炭素材料複合体ペーストと、これを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition capable of giving a pattern with high sensitivity and high contrast as well as showing excellent electric characteristics or the like of a coating film after cured.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られるとともに、硬化後の塗膜の電気的特性などに優れた感光性ポリイミド樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity, high resolving power, good adhesion to a substrate and improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photoresist film very excellent in sensitivity, resolution, thin line adhesion and pattern forming property even under a low exposure condition.例文帳に追加

低露光条件下においても、感度、解像度、細線密着性、パターン形成性に非常に優れた感光性樹脂組成物及びフォトレジストフィルムを提供すること。 - 特許庁

To obtain a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity, high resolving power and good adhesion to a substrate and ensuring improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a fine particle pattern obtained by arranging on a base material the fine particle having substantially uniform particle size and composition in a monodisperse state and a method for efficiently producing the same.例文帳に追加

粒子サイズ及び組成が実質的に均一な微粒子を、単分散の状態で基材上に配置させた微粒子パターン及びその効率的な製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The memory hard disk is produced through a step forming a predetermined linear pattern on the surface of the substrate for the memory hard disk by using the composition for textured finish.例文帳に追加

そして、このテクスチャー加工用組成物を用いてメモリーハードディスク用の基盤（サブストレート）表面に所定の筋目を形成する工程を経てメモリーハードディスクは製造される。 - 特許庁

There are also provided the photosensitive film for a permanent resist using the composition, the resist pattern forming method, the printed wiring board and the method for producing the same, the surface protective film, and the interlayer insulating film.例文帳に追加

この組成物を用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜並びに層間絶縁膜。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is excellent in TCT (thermal cycle test) resistance and insulation reliability, as well as a photosensitive laminate, a method for forming a permanent pattern, and a printed board.例文帳に追加

ＴＣＴ（サーマルサイクルテスト）耐性及び絶縁信頼性に優れた感光性組成物、並びに、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide an optical head which cancels an offset caused by an objective lens shift by using a light-detecting element having a light-receiving face pattern of simple composition, and also to provide an optical disk device.例文帳に追加

単純な構成の受光面パターンを持つ光検出素子を用いて対物レンズシフトに起因するオフセットをキャンセルできる光ヘッド及び光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition excellent particularly in focal depth latitude, while retaining superior basic performances such as sensitivity, resolution, pattern shape and PED stability.例文帳に追加

感度、解像度、パターン形状、ＰＥＤ安定性等の優れた基本性能を維持しつつ、特に焦点深度余裕に優れたポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, LIGHT SHIELDING FILM FOR DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING THE SAME, SUBSTRATE WITH LIGHT SHIELDING FILM, DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PREVENTING PATTERN CHIPPING例文帳に追加

感光性組成物、感光性転写材料、表示装置用遮光膜及びその形成方法、遮光膜付基板、表示装置、並びにパターン欠け防止方法 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which ensures high resolution, high sensitivity and good line edge roughness, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高解像性、高感度、良好なラインエッジラフネスが得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound capable of forming patterns having excellent pattern resolution and line edge roughness, and to provide a resist composition using the same.例文帳に追加

優れたパターンの解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化合物及びそれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a dense metallic copper film having almost no voids therein by treating a printing pattern of a liquid composition containing particles formed of a copper oxide as a main component, with formic acid.例文帳に追加

銅酸化物からなる粒子を主成分とする液状組成物の印刷パターンをギ酸により処理し、空隙のほとんどない緻密な金属銅膜を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition forming a fine pattern which can accurately form an image required for various types of electronic parts by a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

各種電子部品などに所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING POLYMER, RESIN COMPOSITION USING IT, PREPREG, METAL-CLAD LAMINATE, SEALANT, PHOTOSENSITIVE FILM, FORMING PROCESS FOR RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有重合体及びこれを用いた樹脂組成物、並びに、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

Since the composition is suitable for an imprinting process, an organic film having a refined pattern can be easily formed on a substrate by the imprinting process.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物は、インプリンティング工程に適しているため、インプリンティング工程によって微細なパターンを含む有機膜を基板上に容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide an electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, excellent in PCD and capable of giving a pattern profile excellent in rectangularity.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、ＰＣＤに優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition, capable of producing a resist film hardly causing liquid blot and pattern failure defect while maintaining excellent resolution and sensitivity.例文帳に追加

優れた解像度及び感度を維持しつつ、液痕、及びパターン不良欠陥が発生し難いレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a water developable photosensitive resin composition and a photosensitive dry film resist giving a favorable pattern and having excellent heat resistance and electric insulating property.例文帳に追加

水系現像が可能で、良好なパターンが得られ、かつ耐熱性や電気絶縁性に優れた感光性樹脂組成物および感光性ドライフィルムレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition which is capable of maintaining etching performance and forming a satisfactory rectangular pattern, has a sufficient curing property and can provide excellent solvent resistance and adhesiveness with an adjacent layer.例文帳に追加

エッチング性能を維持し、良好な矩形パターンの形成が可能であると共に、硬化性が良好で、優れた耐溶剤性及び基体や隣接層との密着性が得られる。 - 特許庁

To provide a positive chemically amplified photoresist composition, which has high sensitivity and high resolution, whose adhesiveness with a substrate is favorable, and whose edge roughness of a pattern is improved.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam or extreme ultraviolet superior in lithography characteristics such as sensitivity and resolution by suppressing defects, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトを抑制でき、かつ感度、解像性等のリソグラフィー特性にも優れた電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent resist composition for liquid immersion exposure free from deterioration in DOF and in profile even when applied to liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合でもＤＯＦ及びプロファイルの劣化が無く優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is concurrently equipped with high planarization performance and high sensitivity and has high visible light transmittance, in the formation of a cured resin pattern.例文帳に追加

硬化樹脂パターンの形成において、高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、高い可視光透過性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high performance photosensitive resin composition having excellent lithographic characteristics and providing a relief pattern having very high heat and chemical resistances after heat curing.例文帳に追加

優れたリソグラフィー特性を有し、かつ加熱硬化後のレリーフパターンが、極めて高い耐熱性、耐薬品性を有する、高性能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power, ensuring low edge roughness of a line pattern and nearly free of development defects in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition or the like from which a pattern having excellent resolution, line edge roughness and a focus margin can be formed.例文帳に追加

優れた解像度、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which is excellent in adhesion to a substrate and forms pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern shape.例文帳に追加

基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成することができる感放射線性組成物の提供。 - 特許庁