「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for forming a patterned photoresist film, a coating of the photoresist composition is formed, irradiated in a pattern form with active energy beams and which is then developed.例文帳に追加

前記フォトレジスト組成物の塗膜を形成し、この塗膜に活性エネルギ線をパターン状に照射後、塗膜を現像するパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition excellent in sensitivity and resolving power, suppressing the occurrence of development residue and development defects and excellent also in shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition having excellent peeling strength and electrical conductivity, a method for forming a conductive film, a method for forming a conductive pattern and a method for manufacturing a multilayered wiring board.例文帳に追加

剥離強度、及び導電性に優れたエポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、多層配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent solvent for cleaning and removing for the purpose of cleaning a pigment dispersion type photosensitive resin composition to form a color filter or a black matrix pattern.例文帳に追加

カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method giving crack resistance to a lower layer film for multilayer resist process, and to provide a lower layer film forming composition and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

多層レジストプロセス用の下層膜にクラック耐性をもたせるパターン形成方法、下層膜形成組成物、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent tent reliability, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

テント信頼性等に優れる感光性樹脂組成物並びにそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which can form a cured film which excels in color purity, light resistance, heat resistance, and solvent resistance, and in which there is little color transfer, and pattern moldability is good.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative dye-containing curable composition having high sensitivity and capable of forming a rectangular pattern, a color filter that uses the same, and to provide a method of producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability at room temperature and in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に室温保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The black matrix pattern formed of the black matrix composition minimizes ink bleed, and improves color characteristics of a liquid crystal display device.例文帳に追加

ブラックマトリクス用組成物を用いて形成されたブラックマトリクスパターンは、インクのにじみ現象を最小化して液晶表示装置のカラー特性をより向上させることができる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a pattern having high resolution and high normalized remaining film thickness even when the film thickness increases and obtaining a high sensitivity.例文帳に追加

膜厚が厚くなっても高解像度で高残膜率のパターンを得ることができ、かつ高感度が得られるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having small PEB temperature dependency and good balance of sensitivity, exposure latitude, resolution and profile, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性が小さく、感度、露光ラチチュード、解像力、プロファイルのバランスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film from which a resist underlay film having superior etching resistance and a reduced reflectance can be formed, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、反射率が低減されたレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having good pitch dependence and coverage dependence of CD and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＣＤのピッチ依存性、被覆率依存性が良好な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition giving a cured film excellent in adhesion to a substrate after low-temperature curing, a method for manufacturing a cured relief pattern, and a semiconductor device.例文帳に追加

低温キュア後に基板との接着性に優れる硬化膜を与えるネガ型感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。 - 特許庁

To ensure a high resolution for a resist layer having a predetermined composition while suppressing the necessary amount of irradiation of energy (necessary exposure intensity) so as to form a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを形成するために、必要なエネルギーの照射量（必要露光量）を抑えつつも、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。 - 特許庁

To provide a coloring composition which can form a coloring pattern with excellent heat resistance and dissolution resistance even if dyestuff is used as a colorant.例文帳に追加

着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition suitable for ArF excimer laser lithography, especially having good line edge roughness and giving a finer pattern in a reflow process.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適し、特に、ラインエッジラフネスが良好であり、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of an excellent shape, line edge roughness and focus margin, and a resist composition or the like comprising the salt.例文帳に追加

優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FABRICATING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, PRINTED WIRING BOARD AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法、並びにプリント配線板、及びそれを用いた電子部品 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR ORGANIC FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY, SPINLESS COATING METHOD THEREOF, FABRICATION METHOD OF ORGANIC FILM PATTERN USING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY FABRICATED BY THE SAME例文帳に追加

液晶表示装置の有機膜フォトレジスト組成物、そのスピンレスコーティング方法、これを用いた有機膜パターン形成方法及びこれにより製造された液晶表示装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and little dependence on pattern density (iso-dense bias) and capable of stably forming various fine patterns with high accuracy.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、粗密依存性が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A water-soluble resin composition comprising a water-soluble resin and an acid generating agent is applied on the resist pattern 3 formed on a substrate 1 to form the coating layer 4.例文帳に追加

基板１上に形成されたレジストパターン３上に、水溶性樹脂と酸発生剤を含有してなる水溶性樹脂組成物を塗布して被覆層４を形成する。 - 特許庁

The crepe-pattern coating material composition is obtained by formulating an oil-free polyester resin having a hydroxy group, an amino resin or a phenol resin of a curing agent, the tung oil and a sulfonic acid-based curing catalyst.例文帳に追加

水酸基を有するオイルフリーポリエステル樹脂、硬化剤のアミノ樹脂又はフェノール樹脂、桐油、及びスルホン酸系硬化触媒を配合したちぢみ模様塗料組成物。 - 特許庁

To provide nano carbon material complex paste which is based on a nano carbon material and has high dispersibility and uniform composition and to provide a method for forming a pattern by using the nano carbon material complex paste.例文帳に追加

ナノ炭素材料を主成分とし、高分散性を持ち、組成が均一なナノ炭素材料複合体ペーストと、これを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition capable of giving a pattern with high sensitivity and high contrast as well as showing excellent electric characteristics or the like of a coating film after cured.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られるとともに、硬化後の塗膜の電気的特性などに優れた感光性ポリイミド樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity, high resolving power, good adhesion to a substrate and improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photoresist film very excellent in sensitivity, resolution, thin line adhesion and pattern forming property even under a low exposure condition.例文帳に追加

低露光条件下においても、感度、解像度、細線密着性、パターン形成性に非常に優れた感光性樹脂組成物及びフォトレジストフィルムを提供すること。 - 特許庁

To obtain a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity, high resolving power and good adhesion to a substrate and ensuring improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a fine particle pattern obtained by arranging on a base material the fine particle having substantially uniform particle size and composition in a monodisperse state and a method for efficiently producing the same.例文帳に追加

粒子サイズ及び組成が実質的に均一な微粒子を、単分散の状態で基材上に配置させた微粒子パターン及びその効率的な製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for liquid immersion lithography capable of suppressing elution of materials during liquid immersion lithography and excellent also in lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The memory hard disk is produced through a step forming a predetermined linear pattern on the surface of the substrate for the memory hard disk by using the composition for textured finish.例文帳に追加

そして、このテクスチャー加工用組成物を用いてメモリーハードディスク用の基盤（サブストレート）表面に所定の筋目を形成する工程を経てメモリーハードディスクは製造される。 - 特許庁

To provide an inexpensive aluminum-containing photosensitive composition having high adhesion strength as a thin film to a glass substrate, having low resistance and enabling formation of a high-definition pattern.例文帳に追加

ガラス基板に対して薄膜で密着強度が高く、抵抗値が低く、高精細なパターンを形成可能な、安価なアルミニウム含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition which is excellent in adhesion to a substrate and forms pixels and a black matrix having a high-definition excellent pattern shape.例文帳に追加

基板との密着性に優れ、高精細で優れたパターン形状を有する画素およびブラックマトリックスを形成することができる感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To obtain a styrene-based resin composition capable of giving a hard extruded product having a beautiful grain pattern, rich in woody feeling and also excellent in strength.例文帳に追加

美麗な木目模様を有し、しかも木質感に富み、且つ強度の優れた硬質押出成形品を与えることのできるスチレン系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensure the improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in low temperature preservability and density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURED USING THE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

紫外光レーザー露光用感光性樹脂組成物、パターン形成方法、その方法を用いて製造したカラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and capable of stably forming a fine pattern with a high degree of accuracy.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a conductive composition for board wiring, which solves problems due to the solidification contraction of a through electrode or a circuit pattern, and to provide a circuit board and an electronic device.例文帳に追加

貫通電極又は回路パターンの凝固収縮に起因する問題を解決しえる基板配線用導電性組成物、回路基板、及び、電子デバイスを提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition or the like from which a pattern having an excellent shape, line edge roughness, and a focus margin can be formed.例文帳に追加

優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which can form a transparent hardened resin pattern having high transmittance for visible light and high sensitivity to radiation.例文帳に追加

可視光に対する透過率が高く、かつ放射線に対する感度が高い透明硬化樹脂パターンを形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of achieving higher hardness while using an epoxy group-containing acrylic resin, a photosensitive resin laminate and a pattern forming method.例文帳に追加

エポキシ基含有アクリル樹脂を使用しながら高硬度化を実現可能な感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, which induces little outgas or odor in use and can give a pattern with a good profile independent from types of polymer precursors.例文帳に追加

使用時にアウトガスや臭気の発生が少なく、高分子前駆体の種類を問わず、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING POLYMER, RESIN COMPOSITION USING IT, PREPREG, METAL-CLAD LAMINATE, SEALANT, PHOTOSENSITIVE FILM, FORMING PROCESS FOR RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有重合体及びこれを用いた樹脂組成物、並びに、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

Since the composition is suitable for an imprinting process, an organic film having a refined pattern can be easily formed on a substrate by the imprinting process.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物は、インプリンティング工程に適しているため、インプリンティング工程によって微細なパターンを含む有機膜を基板上に容易に形成することができる。 - 特許庁