「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which gives a pattern free of pattern defects such as a chip and undercut and excellent in adhesion to a substrate, and allows production of a color filter excellent in reliability in electrical characteristics, etc.例文帳に追加

パターンに欠けやアンダーカット等のパターン不良が無く、基板との密着性に優れ、加えて電気特性等における信頼性に優れたカラーフィルタを作製することが可能な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, good adhesiveness to a substrate and a good trailing shape of a pattern, excellent in pattern shape, ensuring a wide exposure margin and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好でパターン形状に優れ、露光マージンが広く、しかも感度、解像度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which is excellent in a pattern form with uniformity, high sensitivity and high resolution in thick film pattern forming, is excellent in substrate adhesiveness, film leaving property and storage stability, can obtain a high throughput, and can bear a metallic growth stress.例文帳に追加

厚膜パターン形成において、均一性、高感度・高解像度でパターン形状に優れ、基板密着性、残膜性、貯蔵安定性に優れ、高スループットが得られ、かつ金属成長応力に耐え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of giving a high performance cured film excellent in thermal shock resistance (properties in TCT) and electric insulation properties (properties in HAST); and a photosensitive film, a permanent pattern, a method for forming the permanent pattern, and a printed circuit board.例文帳に追加

耐熱衝撃性（ＴＣＴ特性）及び電気絶縁性（ＨＡＳＴ特性）に優れた高性能な硬化膜を得ることができる感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

The method for forming projections and/or spacers includes the processes of: forming a film of the above composition; exposing the film through a photomask; developing the film after exposure with an alkaline solution to form a pattern; and exposing the pattern.例文帳に追加

突起および／またはスペーサーの形成方法は、該組成物の被膜を形成する工程、フォトマスクを介し該被膜に露光する工程、露光後の該被膜をアルカリ現像してパターンを形成する工程および該パターンに露光する工程を備えてなる。 - 特許庁

To provide a method for producing artificial marble which can disperse/knead/mix a large granule patterning material uniformly into a resin composition for molding the artificial marble and can fit a high design pattern having a high-grade feel or a granite pattern to the artificial marble without lowering the strength of a product.例文帳に追加

人造大理石成形用樹脂組成物に大粒柄材を均一に分散混練配合でき、しかも製品強度を低下させることなく高級感のある高意匠柄あるいはグラニット柄の人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solder resist pattern forming method which allows formation of a high-resolution resist pattern with good reproducibility regardless of the thickness of a solder resist layer and the influence of a blue pigment, and a photosensitive composition suitable for use in the forming method.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の膜厚や青色顔料の影響によらず、再現性よく高解像度のレジストパターン形成を可能とするソルダーレジストパターンの形成方法、並びに該形成方法に好適に用いられる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion in development and heat resistance, capable of being developed with an alkaline aqueous solution, and giving a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high safety, excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

安全性が高く、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film capable of obtaining a good resist pattern with high sensitivity even on a support having a portion formed of copper on an upper surface thereof, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

上面に銅によって形成された部分を有する支持体上においても高感度に良好なレジストパターンを得ることが可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, excellent in light transmissivity, excellent in dry-etching tolerance, high in reaction efficiency by an acid catalyst, and excellent in adhesiveness to a substrate, and a pattern forming method giving an excellent pattern shape.例文帳に追加

光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition less liable to a sensitivity change with the lapse of time in the production of a semiconductor device and having improved density dependency, a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern and less liable to generate particles in a resist solution and a positive type photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in shelf stability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、経時での感度変動が少なく、また、疎密依存性が改善されたポジ型フォトレジスト組成物、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、また、レジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、また、保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The packaging and applicator assembly (1) includes a container (2) containing a composition for application while comprising a magnetic body, a magnetic device which can make a pattern at least on at least one layer of a composition applied on a keratin material and at least one item of information (11) for representing a pattern made on the composition with the magnetic device.例文帳に追加

収容適用アセンブリ（１）であって、・適用すべき組成物でありかつ磁性体を含有している組成物を収容するための容器（２）と；・角質材料上に適用された組成物からなる少なくとも１つの層上においてパターンを形成し得る磁気デバイスと；・磁気デバイスを使用して組成物上に形成され得るパターンを表す少なくとも１項目の情報アイテム（１１）と；を具備している。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a large depth of focus and ensures small LWR and MEEF, excellent pattern collapse resistance and excellent development defect control property.例文帳に追加

焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in the various characteristics of a resist such as sensitivity and resolution and which can suppress production of foreign matter and standing waves on the surface of a resist pattern.例文帳に追加

感度、解像力などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン表面上の異物の発生及び定在波を抑制可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a mixture and a radiation-sensitive composition which can comparatively easily produce a resist material capable of giving a resist pattern with a little roughness.例文帳に追加

ラフネスの小さいレジストパターンを与えることができるレジスト材料を比較的容易に製造することを可能とする混合物及び感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including sensitivity and resolution.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れ感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV rays in which the resist pattern profile and changes in the line width in the post exposure period in a vacuum chamber are improved.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a thick film, showing high resolution and a preferable pattern profile and having excellent heat resistance.例文帳に追加

本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、高解像度が得られ、パターン形状が良好、かつ、耐熱性に優れるポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for optical imprint, which is excellent in adhesion to a substrate, imprinting properties, and releasability from a mold and is capable of providing a pattern having high surface hardness.例文帳に追加

基板との密着性、インプリント性、モールドとの離型性に優れ、表面硬度が高いパターンガ提供できる光インプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive composition can improve insulation reliability and plating resistance; a photosensitive film; a photosensitive laminate; a permanent pattern forming method; and a printed circuit board.例文帳に追加

絶縁信頼性及びメッキ耐性を向上することができる感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a photocurable composition for photo-nanoimprint lithography, which excels in curability of the surface and the inside and can form a resist pattern excellent in exfoliation from a mold.例文帳に追加

表面及び内部の硬化性に優れ、モールドからの剥離性に優れたレジストパターンを形成可能な光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored radiation-sensitive composition capable of forming a coloring pattern which shows excellent film thickness uniformity, has excellent heat resistance, and reduces color migration and color unevenness.例文帳に追加

優れた膜厚均一性を示し、耐熱性に優れ、色移り、色ムラを低減した着色パターンを形成し得る着色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition capable of producing a concave and convex-shaped sheet having a surface on which a regular fine concave and convex pattern is formed, with high quality, without a defect, at a high line speed with high productivity.例文帳に追加

表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition superior in pressure cooker test(PCT) resistance, developability, close adhesiveness, heat resistance, TCT performance, flexibility, and mechanial characteristics, and to provide a method for manufacturing the resist pattern.例文帳に追加

耐ＰＣＴ性、現像性、密着性、耐熱性、ＴＣＴ性、可とう性及び機械特性が優れる感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which exhibits satisfactory transmittance when an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) is used and has small PEB time dependency and large exposure latitude, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に露光光源がＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）である場合に好適なポジ型レジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which is improved in line edge roughness and excellent in resist properties such as sensitivity, resolution, resist pattern, and the depth of focus.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが改善され、更に感度、解像力、レジスト形状及び焦点深度などのレジスト諸特性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability at room temperature and in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に室温保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming a patterned photoresist film, a coating of the photoresist composition is formed, irradiated in a pattern form with active energy beams and which is then developed.例文帳に追加

前記フォトレジスト組成物の塗膜を形成し、この塗膜に活性エネルギ線をパターン状に照射後、塗膜を現像するパターン化されたフォトレジスト膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition excellent in sensitivity and resolving power, suppressing the occurrence of development residue and development defects and excellent also in shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition reduced in discoloring of a white coating film and degradation of reflectance due to UV irradiation and a thermal history, and forming a pattern with a low exposure amount.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供する - 特許庁

To provide an epoxy resin composition having excellent peeling strength and electrical conductivity, a method for forming a conductive film, a method for forming a conductive pattern and a method for manufacturing a multilayered wiring board.例文帳に追加

剥離強度、及び導電性に優れたエポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、多層配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent solvent for cleaning and removing for the purpose of cleaning a pigment dispersion type photosensitive resin composition to form a color filter or a black matrix pattern.例文帳に追加

カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method giving crack resistance to a lower layer film for multilayer resist process, and to provide a lower layer film forming composition and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

多層レジストプロセス用の下層膜にクラック耐性をもたせるパターン形成方法、下層膜形成組成物、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The black matrix pattern formed of the black matrix composition minimizes ink bleed, and improves color characteristics of a liquid crystal display device.例文帳に追加

ブラックマトリクス用組成物を用いて形成されたブラックマトリクスパターンは、インクのにじみ現象を最小化して液晶表示装置のカラー特性をより向上させることができる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a pattern having high resolution and high normalized remaining film thickness even when the film thickness increases and obtaining a high sensitivity.例文帳に追加

膜厚が厚くなっても高解像度で高残膜率のパターンを得ることができ、かつ高感度が得られるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having small PEB temperature dependency and good balance of sensitivity, exposure latitude, resolution and profile, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性が小さく、感度、露光ラチチュード、解像力、プロファイルのバランスが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film from which a resist underlay film having superior etching resistance and a reduced reflectance can be formed, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、反射率が低減されたレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having good pitch dependence and coverage dependence of CD and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＣＤのピッチ依存性、被覆率依存性が良好な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition giving a cured film excellent in adhesion to a substrate after low-temperature curing, a method for manufacturing a cured relief pattern, and a semiconductor device.例文帳に追加

低温キュア後に基板との接着性に優れる硬化膜を与えるネガ型感光性樹脂組成物、並びに硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置の提供。 - 特許庁

To ensure a high resolution for a resist layer having a predetermined composition while suppressing the necessary amount of irradiation of energy (necessary exposure intensity) so as to form a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを形成するために、必要なエネルギーの照射量（必要露光量）を抑えつつも、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。 - 特許庁

To provide a coloring composition which can form a coloring pattern with excellent heat resistance and dissolution resistance even if dyestuff is used as a colorant.例文帳に追加

着色剤として染料を用いた場合であっても、耐熱性、耐溶剤性が良好な着色パターンを形成することができる着色組成物を提供すること。 - 特許庁