「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

An interpolymer complex layer is formed in such a manner that after a resist pattern is formed on a semiconductor substrate, a coating composition containing a proton donor polymer and a proton receptor polymer is heated in a state that it contacts the surface of the resist pattern.例文帳に追加

半導体基板上にレジストパターンを形成した後、陽子供与体ポリマー及び陽子受容体ポリマーを含むコーティング組成物を前記レジストパターンの表面に接触させた状態で加熱してインターポリマーコンプレックス層を形成する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyamideimide resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion in development and heat resistance, capable of being developed with an alkaline aqueous solution, and giving a pattern of a good profile, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

感度、解像度、現像時の密着性、及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるると共に、アルカリ水溶液で現像が可能なポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing artificial marble which can disperse/knead/mix a large granule patterning material uniformly into a resin composition for molding the artificial marble and can fit a high design pattern having a high-grade feel or a granite pattern to the artificial marble without lowering the strength of a product.例文帳に追加

人造大理石成形用樹脂組成物に大粒柄材を均一に分散混練配合でき、しかも製品強度を低下させることなく高級感のある高意匠柄あるいはグラニット柄の人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution and adhesion, and obtaining a resist pattern having adequate peeling property, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度及び密着性に優れ、十分な剥離特性を有するレジストパターンを得ることができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition having favorable coating property, having either surface roughness nor decrease in transmittance, having favorable clearance property with sufficient resolution for a fine pattern, and capable of leaving a narrow pattern such as a photo spacer.例文帳に追加

塗布性良好で、表面荒れおよび透過率低下がなく、微細なパターンまで解像可能であることから抜け性が良好であり、さらに、フォトスペーサーのような細いパターンを残すこともできる新たな感光性樹脂組成物を提供する - 特許庁

A mesh pattern of resin composition having an average line width of 50 μm or less is formed on a transparent base material by gravure printing method, and a metal layer is provided on that pattern thus producing a transparent electromagnetic wave shielding material imparted with conductivity.例文帳に追加

透明基材上にグラビア印刷法により樹脂組成物からなる平均線幅５０μm 以下の網状パターンが形成され、そのパターン上に金属層が設けられ、導電性が付与されている透明電磁波遮蔽材料が提供される。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for forming a colored layer which gives pixels and a black matrix that produce neither undissolved matter nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even under low exposure energy.例文帳に追加

現像時の未溶解物およびパターンエッジにスカムを生じることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that attains both low acid diffusibility and high dissolution contrast, and is improved in a DOF and roundness or LWR of a hole pattern or a trench pattern by suppressing chemical flare caused by a produced acid or a quencher.例文帳に追加

低酸拡散性と高い溶解コントラストを両立すると共に、発生酸やクエンチャーなどによるケミカルフレアを抑制することにより、ホールパターンやトレンチパターンのＤＯＦと真円性もしくはＬＷＲを改善したポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film capable of obtaining a good resist pattern with high sensitivity even on a support having a portion formed of copper on an upper surface thereof, and a method for producing a thick film resist pattern.例文帳に追加

上面に銅によって形成された部分を有する支持体上においても高感度に良好なレジストパターンを得ることが可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high safety, excellent in uniformity of a coating film, capable of enhancing the curing density of a cured resin pattern, and forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

安全性が高く、塗膜の均一性に優れ、硬化樹脂パターンの硬化密度を向上することができ、さらに高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, excellent in light transmissivity, excellent in dry-etching tolerance, high in reaction efficiency by an acid catalyst, and excellent in adhesiveness to a substrate, and a pattern forming method giving an excellent pattern shape.例文帳に追加

光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition less liable to a sensitivity change with the lapse of time in the production of a semiconductor device and having improved density dependency, a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern and less liable to generate particles in a resist solution and a positive type photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern and excellent in shelf stability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、経時での感度変動が少なく、また、疎密依存性が改善されたポジ型フォトレジスト組成物、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、また、レジスト液中のパーティクルの発生が少ないポジ型フォトレジスト組成物、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、また、保存安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The packaging and applicator assembly (1) includes a container (2) containing a composition for application while comprising a magnetic body, a magnetic device which can make a pattern at least on at least one layer of a composition applied on a keratin material and at least one item of information (11) for representing a pattern made on the composition with the magnetic device.例文帳に追加

収容適用アセンブリ（１）であって、・適用すべき組成物でありかつ磁性体を含有している組成物を収容するための容器（２）と；・角質材料上に適用された組成物からなる少なくとも１つの層上においてパターンを形成し得る磁気デバイスと；・磁気デバイスを使用して組成物上に形成され得るパターンを表す少なくとも１項目の情報アイテム（１１）と；を具備している。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition ensuring good resolution and a good section shape of a pattern and suitable for use as a positive type resist having a good margin for exposure.例文帳に追加

良好な解像度、パターン断面形状が得られるとともに、露光マージンが良好なポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition for a solar cell electrode, which preferably forms a large cross section printing pattern with a thin width diameter without damaging the printing characteristics.例文帳に追加

印刷性を損なうことなく細幅寸法で断面積の大きな印刷パターンを好適に形成し得る太陽電池電極用導電性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

Further, the photosensitive solder resist composition given by using the elastomer, a photosensitive solder resist film, a permanent pattern given by using the same, and a method for forming the same are provided, respectively.例文帳に追加

また、該エラストマーを使用した感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、これらを使用した永久パターン及びその形成方法である。 - 特許庁

To provide a resist composition which retains satisfactory intrasurface uniformity even in a thin film process and reproduces the desired resist pattern with high sensitivity and high resolving power.例文帳に追加

薄膜プロセスにおいても十分な面内均一性が保持され、所望のレジストパターンを高感度、高解像力で再現し得るレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a display element from which a hardened resin pattern with high resolution and high transparency can be formed and sensitivity to radiation can be improved.例文帳に追加

高解像で透明性の高い硬化樹脂パターンを形成し得て、また放射線に対する感度が高い表示素子用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound usable for lithographic application and a resist composition containing the polymeric compound and to provide a method for formation of a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー用途に使用可能な新規高分子化合物、及びこの高分子化合物を含有するレジスト組成物、並びにレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for MEMS structure components, capable of forming a rectangular or approximately rectangular profile after baking of a formed pattern.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なＭＥＭＳ構造部材用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming a film having physical properties after curing equal to those of a film cured at a high temperature, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition capable of obtaining a conductor pattern having a sufficient thixotropy property, preferable printing characteristics and developing property, and a low electric resistance value.例文帳に追加

十分なチクソトロピー性を有し、印刷特性および現像性が良好で、しかも、電気抵抗値が低い導体パターンが得られる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and enables to form a low-resistance and high-definition pattern having high adhesion strength to a substrate in the form of a thin film.例文帳に追加

安価で、低抵抗、高精細かつ基板に対して薄膜で密着強度が高いパターンを形成することが可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that find applications in formation of microscopic patterns for semiconductor production and that is superior to conventional products in exposure latitude, LWR (line width roughness) and pattern collapse performance.例文帳に追加

半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM PATTERN USING THE SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, TRANSISTOR, COLOR FILTER, ORGANIC EL DEVICE, GATE INSULATING FILM AND THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機ＥＬ素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ - 特許庁

To provide a positive heat resistant photosensitive resin composition having high sensitivity and also ensuring a good pattern shape and a good residual film ratio in an unexposed region and to provide a semiconductor device using the same.例文帳に追加

感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の耐熱感光性樹脂組成物、及びそれを用いた半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a technique by which good sensitivity is obtained with respect to a resist composition for a lithography process with EUV or an electron beam and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ＥＵＶまたは電子線を用いたリソグラフィプロセス用のレジスト組成物及びレジストパターン形成方法において、良好な感度が得られる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a thick film, showing high resolution and a preferable pattern profile and having excellent heat resistance.例文帳に追加

本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、高解像度が得られ、パターン形状が良好、かつ、耐熱性に優れるポジ型の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including sensitivity and resolution.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a carbon black dispersion composition for use in black matrix, improved in both the uniformity and resolution of black matrix pattern compared to the cases with conventional pigment dispersion compositions.例文帳に追加

従来の顔料分散液組成物よりブラックマトリックスパターンの均一性及び解像性が向上されたブラックマトリックス用カーボンブラック分散液組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in the various characteristics of a resist such as sensitivity and resolution and which can suppress production of foreign matter and standing waves on the surface of a resist pattern.例文帳に追加

感度、解像力などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン表面上の異物の発生及び定在波を抑制可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a mixture and a radiation-sensitive composition which can comparatively easily produce a resist material capable of giving a resist pattern with a little roughness.例文帳に追加

ラフネスの小さいレジストパターンを与えることができるレジスト材料を比較的容易に製造することを可能とする混合物及び感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in balance of characteristics including sensitivity and resolution.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等を含めた特性バランスにも優れ感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which has a large depth of focus and ensures small LWR and MEEF, excellent pattern collapse resistance and excellent development defect control property.例文帳に追加

焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for electron beams, X-rays or EUV rays in which the resist pattern profile and changes in the line width in the post exposure period in a vacuum chamber are improved.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for optical imprint, which is excellent in adhesion to a substrate, imprinting properties, and releasability from a mold and is capable of providing a pattern having high surface hardness.例文帳に追加

基板との密着性、インプリント性、モールドとの離型性に優れ、表面硬度が高いパターンガ提供できる光インプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition, capable of producing a resist film hardly causing liquid blot and pattern failure defect while maintaining excellent resolution and sensitivity.例文帳に追加

優れた解像度及び感度を維持しつつ、液痕、及びパターン不良欠陥が発生し難いレジスト膜を形成可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a water developable photosensitive resin composition and a photosensitive dry film resist giving a favorable pattern and having excellent heat resistance and electric insulating property.例文帳に追加

水系現像が可能で、良好なパターンが得られ、かつ耐熱性や電気絶縁性に優れた感光性樹脂組成物および感光性ドライフィルムレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is excellent in TCT (thermal cycle test) resistance and insulation reliability, as well as a photosensitive laminate, a method for forming a permanent pattern, and a printed board.例文帳に追加

ＴＣＴ（サーマルサイクルテスト）耐性及び絶縁信頼性に優れた感光性組成物、並びに、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide an optical head which cancels an offset caused by an objective lens shift by using a light-detecting element having a light-receiving face pattern of simple composition, and also to provide an optical disk device.例文帳に追加

単純な構成の受光面パターンを持つ光検出素子を用いて対物レンズシフトに起因するオフセットをキャンセルできる光ヘッド及び光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

There are also provided the photosensitive film for a permanent resist using the composition, the resist pattern forming method, the printed wiring board and the method for producing the same, the surface protective film, and the interlayer insulating film.例文帳に追加

この組成物を用いた永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法、表面保護膜並びに層間絶縁膜。 - 特許庁