「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide: a new photosensitive resin composition which is uncolored and can form a pattern having a high transmittance to visible light; a cured resin pattern formed using the same; and a display element.例文帳に追加

着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film by using the above resist composition for EUV on a substrate, exposing the resist film to EUV light, and forming a resist pattern by developing the resist film.例文帳に追加

支持体上に、前記ＥＵＶ用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜をＥＵＶ露光する工程、および前記レジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The method for forming the pattern is to irradiate laser beams to the polymer composition (or its molding) constituted of a polysilane and form the pattern by generating changes in optical characteristics (color, transparency, refractive index, reflection index, dielectric constant, and the like) on a surface of the inside of the same.例文帳に追加

ポリシランで構成されたポリマー組成物（又は成形体）に、レーザ光を照射し、表面又は内部に光学的特性（色彩、透明性、屈折率、反射率、誘電率など）の変化を生じさせ、パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an organic anti-reflective coating polymer for use in ultrafine pattern formation during fabrication of a semiconductor device, an organic anti-reflective coating composition containing the same and a method for forming a photoresist pattern using the same.例文帳に追加

半導体素子の製造工程のうち、超微細パターン形成工程で使われる有機反射防止膜重合体、これを含む有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a black pattern capable of attaining a good level of black color when forming a black pattern of PDP such as a black matrix and a black layer of a bus electrode of a black and white double layer structure.例文帳に追加

白黒二層構造のバス電極の黒層やブラックマトリックスといったＰＤＰの黒色パターンを形成した場合に、良好な黒色度を達成することができる黒色パターン形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a rectangular pixel having a small radius at an edge or a corner of a filter face or the cross section, and for forming a pixel pattern with suppressed variations of pattern features and less development residue.例文帳に追加

フィルタ面や断面のエッジ部や角（カド）部の丸みが小さい矩形の画素の形成が可能で、パターン形状バラツキを小さく抑え、かつ、現像残渣が少ない画素パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

After a resist pattern is formed by using a photosensitive resin composition containing a polyurethane prepolymer having a propylene oxide group, an alkali-soluble polymer, an ethylenically unsaturated addition polymerizable monomer and a photopolymerization initiator, the pattern is subjected to sandblasting.例文帳に追加

プロピレンオキシド基を有するポリウレタンプレポリマーとアルカリ可溶性高分子とエチレン性不飽和付加重合性モノマーと光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を用いて、レジストパターンを形成した後サンドブラスト処理を行う。 - 特許庁

A method for defining a pattern includes etching the pattern through a photoresist into a substrate, heating the patterned substrate to a temperature sufficient to ash the photoresist and provide a residue, and removing the residue by bringing the residue into contact with the cleaning composition.例文帳に追加

バターンの規定方法は、フォトレジストを通した基材へのパターンのエッチング、フォトレジストが灰化するのに充分な温度にパターン化された基材を熱すること、および該クリーニング組成物と残渣が接触することによる除去を含む。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having high transparency particularly to ArF excimer laser beam and high resolution and capable of forming a resist pattern excellent in pattern shape, dry etching resistance and adhesion to a substrate.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザー光に対して透明性が高く、かつ高解像性を有すると共に、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び基板との密着性に優れるレジストパターンを形成しうるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for insulating materials which is applicable to DI (digital imaging) exposure and enables to form a permanent pattern (solder resist pattern) excellent in cold impact properties, and to provide a photosensitive film and a photosensitive laminate.例文帳に追加

ＤＩ（デジタルイメージング）露光に適用可能であり、冷熱衝撃特性に優れた永久パターン（ソルダーレジストパターン）を形成することができる絶縁材料用樹脂組成物、感光性フィルム、及び感光性積層体の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming an optical waveguide of which transmission loss is small, and which is capable of manufacturing a waveguide pattern with excellent shape precision and at a low cost, an optical waveguide thereof, and a method for forming an optical waveguide pattern.例文帳に追加

伝送損失が低く、また導波路パターンを形状精度が良くかつ低コストで作製可能な光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路パターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern formation method by which the direction of bulges formed in a linear pattern is controlled as compared with that in the case linear patterns are formed by applying droplets of a composition without forming patterns for inducing bulges on the surface of a substrate.例文帳に追加

基材の表面にバルジを誘導するためのパターンを形成せずに組成物の液滴を付与して線状パターンを形成する場合に比べ、線状パターンに生じるバルジの方向が制御されるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable resin composition which enables obtaining a high-definition pattern excellent in the shape in preparing an optical waveguide by the pattern-forming method using a fine lithography technique and has excellent storage stability, an optical waveguide using the resin composition, and a method for manufacturing an optical waveguide.例文帳に追加

微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とするとともに保存安定性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in resolution, development defects and outgassing and a pattern forming method using the same, which are a positive resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像力、現像欠陥、アウトガスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, and to provide a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン（印刷部）の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

In the thermal transfer printer, before a thermal head 10 transfers the ink composition in a yellow area 31 to a recording sheet, the thermal head 10 is pre-heated up to the transfer temperature, and the ink composition of black which constitutes a mark pattern 35 is sublimated at the time of the pre-heating the thermal head to record given used information 41 on the mark pattern 35.例文帳に追加

サーマルヘッド１０がイエロー領域３１のインク成分を記録紙に転写する前に、その転写温度までサーマルヘッド１０を予熱し、その予熱の際にマークパターン３５を構成するブラックのインク成分を昇華させることにより、マークパターン３５に所定の使用済み情報４１を記録させる。 - 特許庁

After the first resist pattern is formed using the resist composition containing a thermal base generator as a chemically-amplified resist composition in the first patterning, a hard bake process is performed before the second patterning, for baking the first resist pattern under a bake condition that a base is generated from the thermal base generator.例文帳に追加

１回目のパターニングの際、化学増幅型レジスト組成物として、熱塩基発生剤を含有するレジスト組成物を使用して第一のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニングを行う前に、第一のレジストパターンを、前記熱塩基発生剤から塩基が発生するベーク条件にてベークするハードベーク工程を行う。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has high sensitivity, high dissolving contrast, sufficient pattern profile, and sufficient line edge roughness performance, reduces a standing wave, and does not generate a development defect, and also to provide a film formed using the composition and a pattern forming method using the film.例文帳に追加

高感度、高溶解コントラストであり、良好なパターンプロファイル、良好なラインエッジラフネス性能を有し、定在波の低減が可能であり、且つ現像欠陥を発生しない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いて形成した膜及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has excellent color purity, heat resistance and light resistance and which can be formed into a thinner layer: a color resist having favorable pattern formability; inkjet ink having excellent jetting stability; and a color filter having a favorable pattern shape and a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

色純度に優れ、耐熱性、耐光性に優れ、薄層化が可能な着色硬化性組成物を提供し、パターン成形性の良好なカラーレジスト、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、およびこれを用いたパターン形状の良好なカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition for forming a pattern having excellent roughness characteristics and dry etching resistance when an ArF excimer laser, an electron beam, an X-ray, an EUV and the like are used as an exposure light source, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザー、電子線、Ｘ線、ＥＵＶ等を露光光源とする場合に、ラフネス特性及びドライエッチング耐性に優れたパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition sufficiently excellent in all of adhesion property, high-temperature adhesiveness, pattern forming property, thermo-compression bonding property, heat resistance, and moisture resistance; and to provide a film adhesive, an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with an adhesive layer, and a semiconductor device using the photosensitive adhesive composition.例文帳に追加

貼付性、高温接着性、パターン形成性、熱圧着性、耐熱性及び耐湿性の全ての点で十分に優れた感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置を提供すること。 - 特許庁

There is provided a substrate in which a corrugated or rectangular core material with a through hole used for conduction between front and back sides of the substrate is plated and is further covered with a resin composition, on which a conductive pattern is formed and the conductive pattern is insulated with a resin composition.例文帳に追加

配線基板表裏の導通に用いる貫通孔を有する波形もしくは矩形の形状になっているコア材がメッキされており、そのメッキされたコア材が樹脂組成物で覆われ、該樹脂組成物上に導体パターンが形成されており、該導体パターンが樹脂組成物で絶縁されている配線基板。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that forms a resist pattern of favorable shape that exhibits excellent resolution and reduced line width roughness (LWR), a polymeric compound that can be used as a base component of the positive resist composition, a compound that can be used in synthesizing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性に優れ、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which includes a polyurethane resin that has enhanced sensitivity, surface hardness, cold heat shock resistance, plating resistance and insulation properties and unexpectedly has an excellent shape of a permanent pattern and excellent resolution, and to provide a photosensitive film using the photosensitive composition, a photosensitive laminate, a method for forming a permanent pattern, and a printed board.例文帳に追加

感度、表面硬度、冷熱衝撃性、めっき耐性、及び絶縁性が向上し、予想外に永久パターンの形状、及び解像性に優れるポリウレタン樹脂を含む感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity to both of light of 350-370 nm and light of 400-410 nm, capable of forming a resist pattern having a good profile with high resolution, and ensuring good strippability of the formed resist pattern, and a photosensitive element using the composition.例文帳に追加

３５０ｎｍ〜３７０ｎｍ及び４００ｎｍ〜４１０ｎｍのいずれの光に対しても高感度であり、良好な形状を有するレジストパターンを高解像度で形成することができるとともに、形成されたレジストパターンの剥離性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution, line edge roughness and side lobe margin and a pattern forming method using the same, which is a resist composition suitable for use in an ultramicrolithography process for producing VLSI or high-capacity microchips or in other photofabrication processes, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造などの超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトパブリケーションプロセスに好適に用いられるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であり、解像性、ラインエッジラフネス、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good heat resistance of a pattern, suppression of outgassing and reduction of surface roughness in microfabrication of a semiconductor device, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン耐熱性、アウトガスの低減、表面荒れの低減を満足するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having resistance to noble metal plating in a neutral to alkaline cyanide plating bath and excellent in resolution, adhesion and resist removability, a photosensitive resin laminate using the photosensitive resin composition, a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate, and uses of the resist pattern.例文帳に追加

中性〜アルカリ性のシアン浴での貴金属めっきに耐え、解像度、密着性、レジスト剥離性に優れた感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for a column spacer from which a column spacer having a pattern width in a desired size can be formed while suppressing pattern thickening without decreasing sensitivity to irradiation light, and to provide a column spacer and a liquid crystal display element using the curable resin composition for a column spacer.例文帳に追加

照射光に対する感度を低下させることがなく、かつ、パターン太りを抑制した所望のサイズのパターン幅を有するカラムスペーサを形成することができるカラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、該カラムスペーサ硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a polyimide resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating a sulfonic acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent having an alkoxymethyl or acyloxymethyl group on a nitrogen atom, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、（ｂ）光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び（ｃ）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has small surface tackiness, good suitability to lamination and handling and excellent storage stability, exhibits excellent chemical and heat resistances after development, and reconciles surface hardness with brittleness; a photosensitive film using the composition; a high-definition permanent pattern; and a method for efficiently forming the pattern.例文帳に追加

表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、耐熱性などを発現し、表面硬度と脆性とを両立する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a film of a high strength heat resistant resin composition with formed pattern by forming a pattern in a film of a resin composition containing a thermoplastic precursor convertible to a high strength heat resistant polymer by irradiation with ion beams and curing the film by heating after development.例文帳に追加

高強度、耐熱特性を有するポリマーに変換可能な熱可塑性前駆体を含む樹脂組成物膜にイオンビーム照射によりパターン形成を行い、そのパターン形成された樹脂組成物膜を現像処理後に加熱硬化することにより、パターン形成された高強度、耐熱性樹脂組成物膜を作製する方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for obtaining a photosensitive layer having good tackiness and forming a permanent pattern having good profile and adhesion by specifying the content of at least one vinyl copolymer having a (meth)acryloyl group and an acidic group in a side chain in a binder containing the vinyl copolymer, a pattern forming material, and a pattern forming apparatus and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

側鎖に（メタ）アクリロイル基及び酸性基を有するビニル共重合体の少なくとも１種を含むバインダーにおいて、前記ビニル共重合体の含有量を規定することにより、タック性の良好な感光層が得られ、かつ、形状及び密着性が良好な永久パターンを形成可能な感光性組成物及びパターン形成材料、並びに前記パターン形成材料を用いたパターン形成装置及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A pattern formed photoresist layer produced from this positive photoresist composition is formed on a substrate, this positive photoresist layer is exposed with an irradiation pattern for imaging, and parts exposed with the irradiation pattern for imaging in the positive photoresist layer are removed, whereby the corresponding pattern formed substrate can be exposed and is prepared for subsequent processing of semiconductor device production.例文帳に追加

このポジ型フォトレジスト組成物から作られたパターン形成されたフォトレジスト層を基板上に形成し、このポジ型フォトレジスト層を結像用照射パターンで露光し、ポジ型フォトレジスト層のうち結像用照射パターンで露光された部分を除去して、対応するパターン形成された基板を露出させることができ、半導体デバイス製造のその後の処理に備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of keeping good adhesion between a pattern image (e.g., a partition wall) formed therefrom and a substrate on which the pattern image is formed, while keeping the water- and ink-shedding properties of an upper surface of the pattern image (an exposed surface opposite to a surface being in contact with the substrate).例文帳に追加

パターン画像（例えば、離画壁）とした際に該パターン画像上面（基板と接する面の反対側の露出面）の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which is excellent in roughness performance such as line width roughness, local pattern dimension uniformity, and exposure latitude and capable of suppressing reduction in film thickness (so-called film reduction) at a pattern portion formed by development, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance with good acid generation efficiency under a thick film condition of ≥3.0 μm and capable of forming a space pattern having ≤0.8 μm width and a high aspect ratio with good perpendicularity and to provide a board with a photosensitive film and a resist pattern forming method.例文帳に追加

３．０μｍ以上の厚膜条件下で、耐熱性に優れ、酸の発生効率がよいスペースパターンの形成が可能で、幅０．８μｍ以下の高アスペクト比のスペースパターンを垂直性よく形成することが可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, realizes a pattern with a high film remaining rate when developed and after cured, has excellent resolution and a pattern profile of a micro pattern, and has high heat resistance and mechanical performance required for the usage for a surface protective film and an interlayer insulating film of a semiconductor element.例文帳に追加

高感度で現像時及びキュア後において高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れ、さらには、半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜用途として要求される耐熱性と力学的性能をも高レベルで満足する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having good pattern forming property and capable of forming a colored pattern excellent in adhesion to a support even when a colorant is contained at high concentration, a color filter having a colored pattern excellent in resolution and adhesion to a support, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、支持体との密着性に優れた着色パターンを形成しうるカラーフィルタ用硬化性組成物、解像力及び支持体との密着性に優れた着色パターンを備えたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁