「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition which has good transmitting property for exposure light, which can form a pattern in a short time and which has good light resistance.例文帳に追加

露光光に対する良好な透過性を備えて短時間で形成し得ると共に、良好な耐光性を備えた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition showing excellence in all of optical curability, adhesion, mold releasability, a film-remaining property, a pattern shape, applicability (I), applicability (II), and etching suitability.例文帳に追加

光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a photomask with which a pattern shape having a side wall exhibiting high perpendicularity and a cross section being nearly rectangular is obtained in the manufacture of a photomask.例文帳に追加

ホトマスクの製造にあたって側壁の垂直性の高い、断面矩形に近いパターン形状が得られるホトマスク用ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた軟Ｘ線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent sensitivity and resolution, hardly generating development residue or development defect and exhibiting excellent shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a photomask which gives a pattern shape having a highly perpendicular sidewall and a nearly rectangular cross section in the manufacture of the photomask.例文帳に追加

ホトマスクの製造にあたって側壁の垂直性の高い、断面矩形に近いパターン形状が得られるホトマスク用ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a chemically amplified resist excellent in sensitivity and resolution, reducing ΔCD, and capable of retaining a good pattern shape.例文帳に追加

感度、解像度に優れ、ΔＣＤが小さくなり、さらにはパターン形状を良好に維持することが可能な化学増幅型レジストを提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOSET OBJECT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of forming a black matrix pattern having good linearity, less liable to peel and ensuring less residue.例文帳に追加

良好な直線性を有し、剥がれにくく、残渣が少ないブラックマトリクスパターンを形成することができる感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.例文帳に追加

優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of excellent CD uniformity and an excellent focus margin, and a resist composition or the like comprising the salt.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having an outstanding line edge roughness (LER) and a focus margin (DOF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD OF POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LCD MANUFACTURE WITH INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PART FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されたＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of forming a resist film of which surface hydrophobicity is high and having good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving an excellent square pattern profile.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which excellent sensitivity is obtainable and, at the same time, heat resistance in a pattern after development is improved.例文帳に追加

良好な感度が得られるとともに、現像後のパターンにおける耐熱性を向上させることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which achieves reduction in development defects and combines the reduction with lines with roughness (LWR), and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

現像欠陥が低減され、かつ良好なラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）との両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for an etching resist capable of forming a rectangular profile or a profile close to a rectangle even after a formed pattern is baked.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for interlayer insulation films capable of using a general-purpose developer and ensuring less film thickness reduction of a formed pattern.例文帳に追加

汎用の現像液を使用可能であり、かつ、形成されたパターンの膜減りが少ない層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、および、半導体素子。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOLYMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

ADHESIVE COMPOSITION, FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR MAKING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHOTORESISTER MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの製造方法、及び半導体素子 - 特許庁

To provide a photoresist composition to be used for the manufacture a semiconductor, superior in uniform coating and small in pattern defect after development and wide in focal depth.例文帳に追加

半導体製造に使用されるフォトレジストであって、塗布均一性に優れ、現像後のパターン欠陥が少なく、且つ焦点深度の広い組成物を提供する。 - 特許庁

A random number key frame composition circuit 6 composes a random number key frame from the random number pattern from the random number generating circuit and the random number key frame synchronization signal.例文帳に追加

乱数キーフレーム構成回路６は乱数発生回路からの乱数パターンと乱数キーフレーム同期信号とから乱数キーフレームを構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the inorganic material membrane structure is performed by providing the photosensitive composition on a substrate, exposing and developing to form a pattern and firing.例文帳に追加

該感光性組成物を基板上に設け、露光、現像処理してパターンを形成し、その後、焼成する無機材料膜構造物の製造方法。 - 特許庁

CROSSLINKABLE HIGH RESOLUTION PHOTORESIST COMPOSITION USABLE TOGETHER WITH DEVELOPING SOLUTION WHICH IS AQUEOUS SOLUTION HAVING HIGH BASE CONCENTRATION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高塩基濃度水溶液の現像液とともに使用でき、架橋可能な高解像度フォトレジスト組成物、および該組成物を用いるフォトレジスト・パターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PREDETERMINED PATTERN ON SUBSTRATE, AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME METHOD例文帳に追加

エッチング液組成物、基板上に所定のパターンを形成する方法及び前記基板上に所定のパターンを形成する方法により作成したアレイ基板 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property when fine overcrowded or isolated pattern is formed, and a positivetype photoeresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを形成時に、高感度、高解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition giving an improved resist pattern shape independently of the wavelength of ionizing radiation for irradiation.例文帳に追加

照射する電離放射線の波長に依存せずに、レジストパターン形状が向上した化学増幅型の感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist resin composition that can improve the pattern appearance and has excellent durability and shows excellent durability, etching resistance, reproducibility, high resolving power and adhesion.例文帳に追加

パターンの様相を改善することができ、耐久性、耐エッチング性、再現性、解像力、及び接着性が優れたフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat-resistant resin composition that is inexpensive, does not cause metal corrosion, and has positive type photosensitivity allowing pattern forming in alkali aqueous solution.例文帳に追加

安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive paste composition comprising a cellulosic binder, having good printing property and pattern property, and further having good thermal decomposability.例文帳に追加

セルロース系バインダーを含み、良好な印刷性、パターン性を有し、さらに、熱分解性が良好なアルカリ現像型感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.例文帳に追加

コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, AND FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE EACH USING THE SAME例文帳に追加

感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置。 - 特許庁

Also a spacer part is formed by similarly laminating a pattern with a color selected from the group of three primary colors and a black photosensitive resin composition layer.例文帳に追加

また、同様にして３原色の群から選ばれる１つの色のパターンと、黒色の感光性樹脂組成物層とを積層してスペーサー部が形成される。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING METAL OXIDE-CONTAINING FILM, METAL OXIDE-CONTAINING FILM, SUBSTRATE HAVING METAL OXIDE-CONTAINING FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COATING COMPOSITION OF FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR FORMING FLUORINE-CONTAINING POLYMER FILM BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST OR LITHOGRAPHIC PATTERN例文帳に追加

含フッ素高分子コーティング用組成物、該コーティング用組成物を用いた含フッ素高分子膜の形成方法、ならびにフォトレジストまたはリソグラフィーパターンの形成方法。 - 特許庁