「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL NANOIMPRINT LITHOGRAPHY, METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME, MICROSTRUCTURE, AND METHOD OF REMOVING PHOTOCURED BODY例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成物樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法 - 特許庁

To provide a resist composition giving a resist film with high etching durability and reduced LWR (line width roughness) in EUV lithography that can achieve formation of an ultrafine pattern.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、エッチング耐性が高く、ＬＷＲを低減したレジスト膜を与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition capable of attaining a good pattern shape in lithography process for a high reflective substrate or a stepped substrate.例文帳に追加

高反射基板や段差基板に対するリソグラフィ工程において、良好なパターン形状を得ることができる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.例文帳に追加

高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To readily form a minute, conductive film pattern by a composition of matter, using an aqueous solvent which is easy to handle and whose load on environmental is small.例文帳に追加

取り扱いが容易で環境負荷の小さな水系溶媒を用いた組成物により、微細な導電性膜パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

The composition enables to form an anti-reflective film on a resist film, and can be used in the photolithography for forming a pattern with a light having a wavelength of 160-260 nm.例文帳に追加

この組成物はレジスト膜上に反射防止膜を形成させ、１６０〜２６０ｎｍの光を用いてパターンを形成させるフォトリソグラフィーに用いられる。 - 特許庁

To provide a colored curable composition capable of forming a colored cured film with less dependence on developing time in pattern formation and with high light resistance.例文帳に追加

パターン形成における現像時間の依存性が小さく、耐光性の高い着色硬化膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having improved storage stability, capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good heat resistance.例文帳に追加

引置き安定性が改善され、高コントラスト薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な耐熱性のポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a negative colored photosensitive composition excellent in pattern adhesion and suitable for use in production of a color filter with less residue and good development margin.例文帳に追加

パターン密着性に優れ、かつ残渣、現像マージンが良好なカラーフィルターの製造に供されるネガ型着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has good transmitting property for exposure light, which can form a pattern in a short time and which has good light resistance.例文帳に追加

露光光に対する良好な透過性を備えて短時間で形成し得ると共に、良好な耐光性を備えた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition showing excellence in all of optical curability, adhesion, mold releasability, a film-remaining property, a pattern shape, applicability (I), applicability (II), and etching suitability.例文帳に追加

光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性のいずれにも優れた組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a photomask with which a pattern shape having a side wall exhibiting high perpendicularity and a cross section being nearly rectangular is obtained in the manufacture of a photomask.例文帳に追加

ホトマスクの製造にあたって側壁の垂直性の高い、断面矩形に近いパターン形状が得られるホトマスク用ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a pattern which use a plastic mold and a visible radiation curable resin composition.例文帳に追加

本発明の目的は、プラスチックモールドおよび可視光硬化性樹脂組成物を用いる、パターン形成方法およびパターン形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an evaluation method of a resist composition, used in a method of forming a resist pattern including an immersion lithography (immersion exposure) process.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィー（浸漬露光）工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a composition which is comprehensively excellent in photocurable properties, adhesion, a mold release property, a membrane-leaving property, a pattern shape, a coating property (I), a coating property (II) and suitability for etching.例文帳に追加

光硬化性、密着性、離型性、残膜性、パターン形状、塗布性（Ｉ）、塗布性（ＩＩ）、エッチング適性に総合的に優れた組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new protective film forming composition for forming a protective film which can be stripped with an alkali developing solution in a method of forming a pattern by liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光によるパターン形成方法においてアルカリ現像液で剥離可能な保護膜を形成できる新規な保護膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good storage stability and heat resistance.例文帳に追加

高コントラストの薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な引置き安定性及び耐熱性を有するポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower layer film for forming a lower layer film superior in pattern transferability (particularly, resist bend resistance in RIE).例文帳に追加

パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁

POLYHYDROXYURETHANE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

ポリヒドロキシウレタン化合物及びその製造方法、並びに、硬化性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern (5) is formed and a color filter (6) can be produced.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることによって着色パターン（５）を形成して、カラーフィルター（６）を製造することができる。 - 特許庁

To provide a resin composition giving a cured product having high refractive index, excellent mold releasability, excellent mold pattern reproducibility, excellent adhesiveness, and excellent shape retaining property.例文帳に追加

高屈折率で、離型性、型再現性、密着性、形状保持性に優れた硬化物を与える樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film from the resist composition on an object surface, and exposing and developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enables easy pattern formation of an interlayer insulation film for a capacitor having a high dielectric constant and high heat resistance by photolithography.例文帳に追加

高誘電率、高耐熱のキャパシタ用の層間絶縁膜をフォトリソグラフィーにより容易にパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition from which an excellent pattern top shape can be formed while maintaining line edge roughness.例文帳に追加

ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition from which a cured material having excellent substrate adhesion, pattern reproducibility, and an elastic recovery rate can be obtained.例文帳に追加

本発明は、基板密着性、パターン再現性および弾性回復率が良好な硬化物が得られる硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not require prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity and proper pattern-forming properties.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition to be used for the manufacture a semiconductor, superior in uniform coating and small in pattern defect after development and wide in focal depth.例文帳に追加

半導体製造に使用されるフォトレジストであって、塗布均一性に優れ、現像後のパターン欠陥が少なく、且つ焦点深度の広い組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property when fine overcrowded or isolated pattern is formed, and a positivetype photoeresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを形成時に、高感度、高解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition giving an improved resist pattern shape independently of the wavelength of ionizing radiation for irradiation.例文帳に追加

照射する電離放射線の波長に依存せずに、レジストパターン形状が向上した化学増幅型の感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A random number key frame composition circuit 6 composes a random number key frame from the random number pattern from the random number generating circuit and the random number key frame synchronization signal.例文帳に追加

乱数キーフレーム構成回路６は乱数発生回路からの乱数パターンと乱数キーフレーム同期信号とから乱数キーフレームを構成する。 - 特許庁

To provide a photoresist resin composition that can improve the pattern appearance and has excellent durability and shows excellent durability, etching resistance, reproducibility, high resolving power and adhesion.例文帳に追加

パターンの様相を改善することができ、耐久性、耐エッチング性、再現性、解像力、及び接着性が優れたフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

CROSSLINKABLE HIGH RESOLUTION PHOTORESIST COMPOSITION USABLE TOGETHER WITH DEVELOPING SOLUTION WHICH IS AQUEOUS SOLUTION HAVING HIGH BASE CONCENTRATION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高塩基濃度水溶液の現像液とともに使用でき、架橋可能な高解像度フォトレジスト組成物、および該組成物を用いるフォトレジスト・パターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PREDETERMINED PATTERN ON SUBSTRATE, AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME METHOD例文帳に追加

エッチング液組成物、基板上に所定のパターンを形成する方法及び前記基板上に所定のパターンを形成する方法により作成したアレイ基板 - 特許庁

To provide a heat-resistant resin composition that is inexpensive, does not cause metal corrosion, and has positive type photosensitivity allowing pattern forming in alkali aqueous solution.例文帳に追加

安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive paste composition comprising a cellulosic binder, having good printing property and pattern property, and further having good thermal decomposability.例文帳に追加

セルロース系バインダーを含み、良好な印刷性、パターン性を有し、さらに、熱分解性が良好なアルカリ現像型感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.例文帳に追加

コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, AND FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE EACH USING THE SAME例文帳に追加

感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置。 - 特許庁

The MEMS die includes a pattern-formed metal layer 104 having bumps 108 and a MEMS composition element 106 mounted to a glass layer 102.例文帳に追加

ＭＥＭＳダイは、バンプ１０８を有しパターン形成された金属層１０４とガラス層１０２に取り付けられたＭＥＭＳ構成要素１０６を含む。 - 特許庁

Also a spacer part is formed by similarly laminating a pattern with a color selected from the group of three primary colors and a black photosensitive resin composition layer.例文帳に追加

また、同様にして３原色の群から選ばれる１つの色のパターンと、黒色の感光性樹脂組成物層とを積層してスペーサー部が形成される。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING METAL OXIDE-CONTAINING FILM, METAL OXIDE-CONTAINING FILM, SUBSTRATE HAVING METAL OXIDE-CONTAINING FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁