「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition which has high sensitivity and no substrate dependence and which provides excelling profile shape, even when a basic substrate is used, and to provide a pattern forming method that uses the positive resist composition.例文帳に追加

高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Then, a document composition section 20 arranges the respective document elements in accordance with a template stored in a document composition control section 14 on the basis of the pattern of a document specified in advance.例文帳に追加

次に、文書構成部２０が、予め指定された文書の類型に基づき、文書構成管理部１４に格納されたテンプレートに従って各文書要素を配置して文書を構成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is excellent in all of insulation performance, thermal shock resistance, and resolution; and a photosensitive laminate, a permanent pattern forming method, and a printed circuit board using the photosensitive composition.例文帳に追加

絶縁性、耐熱衝撃性、及び解像性の全てが優れる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いた感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To obtain a composition for the underlayer film of a resist excellent in the reproducibility and resolution of a resist pattern when the composition is kept warm over a long period of time and excellent also in adhesion to the resist and resistance to a developing solution.例文帳に追加

組成物を長期保温した場合のレジストパターンの再現性や解像度に優れ、レジストとの密着性及び現像液に対する耐性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide: a photosensitive resin composition which has high photoreactivity, can be patterned and can form a film with high hydrophobicity and excellent dielectric properties; a thin film of the composition; and a pattern forming method.例文帳に追加

光反応性が高くパターニングが可能であるとともに、疎水性が高く誘電特性に優れる被膜を形成できる感光性樹脂組成物とその薄膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dissolution inhibitor having a specific structure for improving sensitivity of negative radiation sensitive compositions, a radiation sensitive composition containing the same, and a method of forming a resist pattern using the composition.例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物の感度を向上させる、特定構造を有する溶解抑止剤、これを含む感放射線性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition for a sheet excellent in toughness and stiffness, and a sheet made from the resin composition superior in metal pattern transferring property upon vacuum molding.例文帳に追加

靭性と剛性に優れているシート用熱可塑性樹脂組成物、およびそのシート用熱可塑性樹脂組成物らなる真空成形した際の金型転写性に優れているシートを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition of superior etching resistance, sensitivity, preservation stability and safety and developable with water or an aqueous alkali solution, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

耐エッチング性、感度、保存安定性及び安全性に優れ、かつ水又はアルカリ水溶液により現像が可能な感光性組成物並びにこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

A resin composition is prepared by adding the pattern material and additives such as a filler and a curing agent to a thermosetting resin, and the artificial marble is produced by molding and curing the composition.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤や硬化剤などの添加剤を配合して樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を成形硬化させることによって人造大理石を製造する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that can satisfy both excellent developing property and excellent followability of immersion liquid and to provide a method for forming pattern using the composition.例文帳に追加

優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition having high sensitivity in pattern formation by irradiation with active light and to provide a radiation sensitive composition further having high resolution and excellent also in margin for exposure.例文帳に追加

活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive insulating paste composition developable with an alkali developing solution or water, having high sensitivity and capable of forming a high-precision pattern of a large film thickness and to provide a photosensitive film using the composition.例文帳に追加

アルカリ現像液又は水で現像でき、しかも高感度で膜厚が厚く、精度の高いパターンが形成できる感光性絶縁ペースト組成物及びそれを用いた型感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

The pigment dispersion composition containing the processed pigment has a satisfactory dispersion state, and is used together with an ethylenic unsaturated compound and a photopolymerization initiator as a colored pattern forming composition.例文帳に追加

該加工顔料を含有する顔料分散組成物は良好な分散状態を有し、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤と共に着色パターン形成性組成物として用いられる。 - 特許庁

To provide an alkali-developable resin composition giving an alkali-developable photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, transparency, an adhesion property, alkali resistance and so on, and which forms a fine pattern with excellent accuracy.例文帳に追加

感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を与えるアルカリ現像性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a silicon containing positive type resist composition suitable for being exposed with a KrF excimer laser and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

感光性レジスト組成物及びパターン形成方法に関し、ＫｒＦエキシマ・レーザで露光するのに適したＳｉ含有ポジ型感光性レジスト組成物とそのレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A resin composition is prepared by compounding the pattern material and additives such as a filler, curing agent or the like and this composition is molded and cured to manufacture artificial marble.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に柄材と、充填剤や硬化剤などの添加物を配合して樹脂組成物を調製し、この樹脂組成物を成形硬化させることによって人造大理石を製造する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition containing a dye polymer, the composition having excellent color purity, light resistance, heat resistance and solvent resistance, causing little color migration, and allowing formation of a cured film with good pattern formability.例文帳に追加

色純度、耐光性、耐熱性、耐溶剤性に優れ、色移りが少なく、パターン成形性の良好な硬化膜を形成し得る色素多量体を含む着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for top-face anti-reflection coating whose film formation property, refractive index, temporal stability, and safety are comparable to or better than those of conventional products, and also provide a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

従来製品と同等以上の成膜性、屈折率、経時安定性、および安全性を有する、上面反射防止膜形成用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor for the compound, an acid generator, a resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that is excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, and DOF, as well as a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At least a part of the top sheet 520 is provided with an effective amount of the lotion composition containing an emollient and an immobilizing agent, and the lotion composition is applied to the top sheet 520 in a non-uniformity pattern.例文帳に追加

該トップシート５２０の少なくとも一部は、エモリエント剤と固定化剤を含む有効量のローション組成物を備えており、該ローション組成物は、非均一パターンで該トップシート５２０に適用されている。 - 特許庁

To provide a photoacid generator, a copolymer including the photoacid generator, a chemically amplified resist composition including the copolymer, and a pattern-forming method using the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlay film having excellent etching selectivity and preferable antireflection ability against short wavelengths and to provide a resist underlay film and a method for forming a pattern on a substrate both using the above composition.例文帳に追加

優れたエッチング選択性を有し、かつ、短波長に対する反射防止能が良好なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition capable of circumventing the effect of halation in the formation of an electrode of a plasma display panel, and to provide a pattern forming method using the photocurable resin composition.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの電極を形成する際にハレーションの影響を防止することが可能な光硬化性樹脂組成物、及び該光硬化性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound having a tricyano carbonium group which generates a specified organic acid by irradiation with actinic rays or radiation, and the pattern forming method is carried out by using the above photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定の有機酸を発生するトリシアノカルボニウム基を持つ化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure which gives a good pattern profile, excels also in focal depth and ensures a small amount of materials eluting into water with which the composition contacts in liquid immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好で、焦点深度にも優れ且つ液浸露光時に接触する水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The stimulus-sensitive composition which contains a compound (A) of a specific structure which generates an acid or a radical under an external stimulus and the pattern forming method uses the same composition, and the compound (A) of the specific structure are presented.例文帳に追加

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定構造の化合物（Ａ）を含有する感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、及び特定構造の化合物（Ａ）。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having high transparency to exposure light, especially light of ≤300 nm wavelength, capable of obtaining a resist pattern of excellent section rectangularity, and having high storage stability; a low-molecular compound and high-molecular compound for obtaining the photoresist composition; and a resist pattern forming method using the photoresist composition.例文帳に追加

露光光、特に３００ｎｍ以下の波長光に対する透明性が高く、かつ断面矩形状の良好なレジストパターンを得ることができ、保存安定性の高いホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を得るための低分子化合物および高分子化合物、ならびに該ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This pattern forming method includes (i) a step of forming a resist pattern on a support body using resist composition, (ii) a step of forming coating for pattern reversal by applying the material for forming a reverse pattern to the support body on which the resist pattern is formed, and (iii) a step of forming the reverse pattern by removing the resist pattern by etching.例文帳に追加

支持体上に、レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成する工程（ｉ）と、前記レジストパターンが形成された前記支持体上に、反転パターン形成用材料を塗布してパターン反転用被膜を形成する工程（ｉｉ）と、前記レジストパターンをエッチングにより除去し、反転パターンを形成する工程（ｉｉｉ）と、を備えるパターン形成方法であって、前記反転パターン形成用材料が、下記式（ｘ０−１）で表される構成単位を有し、シリコン含有量が１５質量％超のシロキサンポリマーを含有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an adhesive photosensitive resin composition excellent in adhesion to a substrate and yellowing resistance and capable of forming a high definition pattern.例文帳に追加

基板への密着性や耐黄変性に優れ高精細のパターン形成が可能な、粘着性を有する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A pattern forming method is characterized in that a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition for the slit spin coat by the slit spin coat method.例文帳に追加

このスリットスピンコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern is formed and a color filter can easily be produced.例文帳に追加

この着色感光性樹脂組成物をパターンニングして着色パターンを形成することができ、カラーフィルターを容易に製造することができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution and a high aspect ratio is formed and which has high sensitivity, and is excellent in storage stability of the liquid.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で液保存安定性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a fine pattern without swellings having practical sensitivy by developing it using a basic aqueous solution.例文帳に追加

塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in sensitivity and resolution and satisfies even a rectangular pattern shape and good edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a cross-linkable polymer and its composition which is hardened with low energy for a short time, and have excellent pattern forming capability (developing properties).例文帳に追加

低エネルギーで短時間に硬化でき、かつ、パターン形成能力（現像性）に優れる架橋性重合体及びその組成物を提供すること。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, THICK FILM PHOTORESIST LAYERED PRODUCT, METHOD FOR PRODUCING THICK FILM RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING CONNECTION TERMINAL例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition for EUV from which less gas is released and which is suitable for lithography with EUV, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

脱ガスが少なく、ＥＵＶによるリソグラフィー用として好適なＥＵＶ用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a rectangular or nearly rectangular profile even after the formed pattern is baked.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for a protective film capable of pattern formation by alkali development, having good heat resistance and keeping a foreign matter inconspicuous.例文帳に追加

アルカリ現像によるパターン形成が可能で、耐熱性および異物特性の良好な保護膜用感光性組成物が求められている。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, MATERIAL FOR SURFACE METAL FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND MATERIAL FOR METAL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、表面金属膜材料およびその製造方法、並びに、金属パターン材料およびその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, PRODUCTION OF RESIST PATTERN, PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD AND PRODUCTION OF LEAD FRAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物層、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法 - 特許庁

To provide a resist composition which can be developed with a basic aqueous solution and can form a fine pattern without swelling while having practicable sensitivity.例文帳に追加

塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition not only exhibiting excellent storage stability but also capable of forming a coated film or a pattern having high transmittance.例文帳に追加

優れた保存安定性を示すと共に、高い透過率の塗膜又はパターンを形成し得る硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁