「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resin composition excellent in stability with the lapse of time as to a shrinkage pattern of a coated film, and usable as a shrinkage pattern paint capable of forming the coated film excellent in an antifouling property of the coated film.例文帳に追加

塗膜のちぢみ模様の柄が経時的な安定性に優れ、塗膜の耐汚染性に優れた塗膜を形成できるちぢみ模様塗料に用いることができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition for obtaining a hardener superior in pattern precision even when an exposure amount is comparatively small, and to provide its storing method, a cured film forming method and a pattern forming method.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which provides superior resolution, even when a pattern is formed, using a low exposure intensity (in particular, <200 mJ/cm^2) and may inhibit deterioration in pattern rectangularity, during a post baking process of a post treatment.例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity, ensures a small cubical shrinkage in heat curing, and forms a resin pattern having a high aspect profile, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

高感度で、加熱硬化時の体積収縮の小さい、高アスペクトなプロファイルを有する樹脂パターンを形成できる感光性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition used in production of semiconductor devices, etc., giving a fine pattern of a good profile even on a special substrate, excellent in storage stability, and capable of pattern formation with high sensitivity.例文帳に追加

半導体素子等の製造に於て用いられる、特殊基板上でも形状の良好な微細パターンが得られ、保存安定性に優れ、且つ高感度でパターン形成可能なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a coating composition capable of performing surface treatment of a substrate that a micro-lens having small variations of a pattern diameter and pattern height can be formed by an inkjet method.例文帳に追加

インクジェット法により、パターン直径およびパターン高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるような、基板の表面処理が可能であるコーティング組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having i-beam transmit tance and low thermal expansion after imidization, and enabling to form a pattern with excellent thermal resistance, and to provide a method of forming such a pattern, and further to provide electronic parts with high reliability.例文帳に追加

ｉ線透過性とイミド化後の低熱膨張性を有し、優れた耐熱性のパターンを形成できる感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性に優れる電子部品の提供。 - 特許庁

To provide a heat-resistant photosensitive polymer composition having high sensitivity and excellent pattern form, resolution and storage stability, to provide a method for manufacturing a pattern and to provide electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パタ−ン形状、解像性及び保存安定性に優れる耐熱性感光性重合体組成物、パターンの製造方法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PLATING, LAMINATE, METHOD OF PRODUCING SURFACE METAL FILM MATERIAL USING THE SAME, SURFACE METAL FILM MATERIAL, METHOD OF PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, METAL PATTERN MATERIAL, AND WIRING BOARD例文帳に追加

めっき用感光性樹脂組成物、積層体、それを用いた表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及び配線基板 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has hydrophobicity suitable for the formation of a fine resist pattern and ensures excellent solubility of its exposed part in an alkali developer in development, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンの形成等に好適な疎水性を有し、現像処理時には、露光部がアルカリ現像液に対する溶解性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet and the pattern layer is formed from an aqueous composition comprising a carbonate urethane resin.例文帳に追加

基材シート上に絵柄模様層が形成されている化粧シートであって、前記絵柄模様層が、カーボネート系ウレタン樹脂を含む水性組成物により形成されていることを特徴とする化粧シート。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures a small viscosity change during storage, achieves resolution up to a fine pattern, and can form a pattern or a film excellent in solvent and heat resistances.例文帳に追加

保存時の粘度変化が小さく、微細なパターンまで解像可能であり、耐溶剤性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

NOVEL COPOLYMER, NOVEL COPOLYMER-CONTAINING COMPOSITION, LAMINATE BODY, METHOD OF PRODUCING METAL FILM-SURFACED MATERIAL, METAL FILM-SURFACED MATERIAL, METHOD OF PRODUCING METALLIC PATTERN MATERIAL AND METALLIC PATTERN MATERIAL例文帳に追加

新規共重合ポリマー、新規共重合ポリマーを含有する組成物、積層体、表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、及び金属パターン材料 - 特許庁

To provide a method for forming an ultrahigh heat-resistant positive pattern by using a positive photosensitive composition in the process which requires high heat resistance of a photoresist pattern such as manufacturing of a TFT active matrix substrate.例文帳に追加

ＴＦＴアクティブマトリクス基板の製造など、フォトレジストパターンに高耐熱性が要求されるプロセスにおいて、ポジ型感光性組成物を用いて良好な超高耐熱ポジ型パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a highly strippable photosensitive resin composition and to form a circuit pattern using the same with good productivity and yield.例文帳に追加

剥離性の極めてすぐれた感光性樹脂組成物を提供し、それを用いて極めて生産性、歩留まり良く回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and resolution and satisfying even a rectangular pattern shape and good edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition minimized in the performance fluctuation resulting from fluctuation of a baking condition, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ベーク条件の変動による性能変動の小さいポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves the profile of a resist pattern and suppresses a variation of line width due to laying in a vacuum chamber.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。 - 特許庁

On a wiring pattern 201, two or more electric elements 203 are packaged and the electric elements 203 are sealed with a thermosetting resin composition 204.例文帳に追加

配線パターン２０１に、２以上の電気素子２０３を実装し、電気素子２０３を熱硬化性樹脂組成物２０４で封止する。 - 特許庁

There are also provided a photosensitive element using the photosensitive resin composition, a process for producing a resist pattern, and process for producing a printed circuit board.例文帳に追加

また、その感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法も開示する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses material elution in immersion exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜およびパターン形成方法 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition, forming a pattern having an excellent lithography performance and forward tapered sectional form.例文帳に追加

優れたリソ性能を有し、かつ順テーパー型断面形状を有するパターンを形成可能なネガ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which has little residue and enables formation of a coating film and a pattern having good heat resistance.例文帳に追加

残渣が少なく、且つ耐熱性が良好な塗膜やパターンを形成できる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern of low cost and capable of shortening takt time, and to provide a composition using the same.例文帳に追加

低コストで、タクトタイムの短縮が可能な導電パターンの形成方法及びこれに用いる組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and forms a thin-film, low-resistivity, and high-definition pattern on a glass substrate.例文帳に追加

安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable composition for optical imprint excellent in pattern accuracy and novel photo-curability and a method for producing cured products using the same.例文帳に追加

パターン精度に優れた、新規な光硬化性に優れたインプリント用硬化性組成物および硬化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

A color filter can be produced using a colored pattern formed by patterning the colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることで、着色パターンを形成して、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND DISPLAY PANEL例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板、ディスプレイ板の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス - 特許庁

To provide a paste composition for conductor/dielectric formation having high resolution even in a large film thickness and capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

高膜厚でも高解像度が得られ、ファインパターン形成を可能とする導体／誘電体形成のためのペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in sensitivity, resolution, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等にも優れた放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To manufacture a TFT (Thin Film Transistor) without using a mask pattern that uses a resist composition and to manufacture a display device using the TFT.例文帳に追加

レジスト組成物を用いたマスクパターンを用いることなくＴＦＴ及びそれを用いた表示装置を製造することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition enabling production of a highly-sensitive and contrasty polyimide film pattern which can use an i line as its illuminant.例文帳に追加

光源としてｉ線が使用可能であり、高感度で、コントラストのよいポリイミド膜パターンの形成が可能な感光性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of giving a pattern in which a change in the line width is low, while maintaining high sensitivity even when a recycled developing solution is used.例文帳に追加

リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive resist composition excellent in decrease in line edge roughness, resolution and a cross-sectional profile of the resist pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables to form a pattern having a superior shape and proper focus margin.例文帳に追加

優れた形状及び良好なフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition formable of a pattern having excellent resolution and line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt giving a pattern having excellent line edge roughness, and to provide a resist composition using the salt.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる塩及びこれを用いたレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for a resist composition capable of preparing a resist pattern having an excellent line edge roughness and an excellent top shape.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス及び優れたトップ形状を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which shows high resolution, good pattern collapse resistance and a good mask error factor (MEF).例文帳に追加

高い解像度、良好なパターン倒れ耐性、良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を示すレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution, focus margin and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度、フォーカスマージン及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern having excellent resolution and excellent line edge roughness by using a salt for a resist composition.例文帳に追加

本発明の塩をレジスト組成物に用いることにより、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern showing a desired resolution by using a resist layer having a prescribed composition.例文帳に追加

所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。 - 特許庁