「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

After subjecting a surface on which the pattern is to be formed to base treatment, a droplet discharge method capable of forming a predetermined pattern by selectively discharging a droplet of a composition prepared for a specific purpose is employed as the method capable of selectively forming a pattern.例文帳に追加

選択的にパターンを形成可能な方法として、被形成面に下地処理をし、特定の目的に調合された組成物の液滴を選択的に吐出して所定のパターンを形成することが可能な、液滴吐出法を用いる。 - 特許庁

To provide a composition of an intermediate layer material for a three-layer resist process, which is soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free from problems of a tailing pattern during patterning the upper layer resist, peeling of the pattern and line edge roughness, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、パターン剥れ、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent pattern precision and adhesion property to substrates, being developed with water or with a dilute alkali solution and being suitable for pattern formation such as for a color filter, for a black matrix and for a spacer pattern and a photosensitive film utilizing it.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、カラーフィルター、ブラックマトリックス及びスペーサーパターン等のパターン形成に適する感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To obtain a resist composition which retains high sensitivity and high resolution peculiar to a chemical amplification type resist, has stability through a pattern forming process and gives a fine resist pattern having a rectangular cross-section and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型レジストとして特有の高感度、高解像性能を保持し、パターン形成プロセスを通して安定であり、微細な断面矩形のレジストパターンを供することのできるレジスト組成物及びパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

To provide a positive type radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern with less residue on the bottom part of the pattern, as compared with the conventional pigment-containing negative curable resin, with respect to a colored cured resin pattern, and to provide its production method.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation and the like which generate neither development residue nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even with a low exposure amount, and can give a fine pattern.例文帳に追加

現像時に現像残渣やパターンエッジのスカムを生じることがなく、低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも微細なパターンを与えうる着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。 - 特許庁

A photo-cured pattern is formed using the composition on the inner face of a glass panel, graphite is applied to the entire face and dried, and then the photo-cured pattern and the resulting graphite film on the pattern are removed to produce the objective graphite screen for a color cathode ray tube.例文帳に追加

この水溶性感光性組成物を用いてガラスパネル内面に光硬化パターン形成した後、黒鉛を全面に塗布、乾燥後、前記光硬化パターンとその上の黒鉛被膜を剥離除去してカラーブラウン管用黒鉛スクリーンを作成する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition preventing a pattern from being deformed even if a pattern size for forming a wiring is reduced and an aspect ration of the pattern is increased when forming a printed wiring board.例文帳に追加

本発明は、プリント配線基板形成において、配線を形成するためのパターンサイズが微細化し、パターンのアスペクト比が増大しても、パターンの折れ曲がりなどが起こらず好適に用いることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymer compound which can be used as a substrate component for a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern, using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a detergent for removing resin composition useful for removing resin composition, in particular excellent in cleaning a pigment dispersion type photosensitive resin composition for forming color filter or black matrix pattern.例文帳に追加

樹脂組成物の洗浄除去に有用な除去洗浄剤、特にカラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用に優れた樹脂組成物除去洗浄剤を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer having a uniform composition distribution for each of polymer chains, and suitable as a resist composition, a method for producing the same, a resist composition containing the polymer and a method for producing a substrate plate formed with a pattern.例文帳に追加

各高分子鎖ごとの組成分布が均一で、レジスト組成物用として好適な重合体およびその製造方法、その重合体を含むレジスト組成物、並びにパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solid ink composition used for a printed mask, capable of being removed quickly and efficiently by a suitable alkaline solvent, to provide a printed mask formed from the composition, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

好適なアルカリ性溶媒で迅速且つ効率的に除去することが可能な、プリントマスクに使用される固形インク組成物、該組成物から形成されるプリントマスク、及び該組成物を使用するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent lithography characteristic, a new high molecular compound useful as a base material component of the positive type resist composition, and also to provide a method of forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for resist composition, the acid generator formed of the compound, the resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition preferable for immersion exposure or alkali development, and also to provide a method of forming a resist pattern using the resist composition, and a fluorine-contained high molecular compound useful as an additive used in the resist composition.例文帳に追加

液浸露光用、またアルカリ現像用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of giving a polyimide film by a low-temperature process, a pattern forming method using the photosensitive resin composition, and a semiconductor device with a film produced from the photosensitive resin composition.例文帳に追加

低温プロセスでポリイミド膜を得ることができる感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いたパターンの形成方法、当該感光性樹脂組成物により製造される膜を備える半導体装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF THE POLYMER COMPOUND, COMPOUND FOR USE IN MANUFACTURE OF THE POLYMER COMPOUND, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法、該高分子化合物の製造に使用される化合物及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a surface finishing method of a cement composition, allowing a cement composition to maintain strength with a surface finish having a joint pattern with a tiling texture.例文帳に追加

セメント組成体の強度を維持しつつタイル張りの質感を醸し出す目地状模様を備える表面仕上げを施すことが可能なセメント組成体の表面仕上げ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive heat-resistant photosensitive polymer composition having good sensitivity even in a thick film, a method for producing a relief pattern using the composition and electronic parts using this.例文帳に追加

本発明は、厚膜でも感度が良いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物およびこの組成物を用いたレリーフパターンの製造法、並びにこれを用いた電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive colored composition having high sensitivity and giving an excellent pattern shape even in the case of a high dye content or a large film thickness, and to provide a color filter using the composition.例文帳に追加

色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度で、且つパタ−ン形状が優れた感光性着色組成物、およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a new high molecular compound as a substrate component of a resist composition, a monomer thereof, a resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として新規な高分子化合物、そのモノマー、及び当該高分子化合物を含有するレジスト組成物とそれを用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a copolymer having easily processable etching rate to a developing solution without light exposure, a molecular resin composition, a method for forming a pattern by using the composition and a method for producing a capacitor.例文帳に追加

露光工程なしで現象溶液に対して容易なエッチング速度を有する共重合体、分子樹脂組成物及びそれを用いたパターン及びキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography, from which a small amount of substance elutes into an immersion solvent, particularly water, and to provide a resist pattern forming method using the resist composition for the liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸溶媒、特に水に対する物質溶出量の少ない液浸露光用レジスト組成物、および該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in stability with time, a development defect performance and a roughness characteristic, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

経時安定性、現像欠陥性能、及びラフネス特性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in coating defect performance, coating film thickness uniformity, and PEBS performance, and provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which permits removal of the photosensitive composition in its exposed part upon development with an alkaline aqueous solution and can obtain a patterned film excellent in pattern profile.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像したときに、露光部の感光性組成物を除去することができ、パターン形状に優れたパターン膜を得ることができるポジ型の感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition capable of forming a high precision pattern and excellent in thermal decomposability of an organic component and a sensitive film obtained from the composition.例文帳に追加

精度の高いパターンを形成することができ、かつ有機成分の熱分解性に優れた無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

A composition containing an alkali-soluble resin, an acid generator, a crosslinking agent and a barrier rib pattern shape control agent is used as the resist composition for forming barrier ribs of an EL display device, etc.例文帳に追加

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤、架橋剤、および隔壁パターン形状制御剤を含有する組成物をＥＬ表示素子等の隔壁形成用レジスト組成物として用いる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR RESIST, RESIN FOR RESIST PRODUCED BY THE PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN FOR THE RESIST, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト用樹脂の製造方法、この製造方法により製造されたレジスト用樹脂、該レジスト用樹脂を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターンの形成方法 - 特許庁

At least a part of the topsheet is provided with an effective amount of lotion composition containing emollient agent and immobilizing agent, and the lotion composition is applied to the topsheet with an inhomogeneous pattern.例文帳に追加

該トップシートの少なくとも一部は、エモリエント剤と固定化剤を含む有効量のローション組成物を備えており、該ローション組成物は、非均一パターンで該トップシートに適用されている。 - 特許庁

To provide: a new fluorine-containing copolymer useful as an additive for a resist composition for liquid immersion lithography; a resist composition for liquid immersion lithography containing the same; and a resist pattern forming method.例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素共重合体、それを含有する液浸露光用レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which can decrease elution of substances in a liquid immersion medium used in an immersion lithography process, and to provide a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィー工程において用いられる液浸媒体中への物質溶出を低減できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrochromic (EC) composition capable of retaining a gap between electrodes only by performing pattern formation according to coating without separately forming a spacer; and to provide an EC element using the electrochromic composition.例文帳に追加

塗布法によるパターン形成のみで、スペーサーを別途形成せずとも電極間のギャップを保持する事が可能なＥＣ組成物及びこの組成物を用いたＥＣ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent lithography characteristic or defect reduction effect, and to provide a method for forming a resist pattern and a polymeric compound useful for the positive resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性やディフェクト低減効果に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition providing a polyimide resin film having extremely low residual stress after curing, and also to provide a method for forming a cured relief pattern by using the composition.例文帳に追加

硬化後のポリイミド樹脂膜としてきわめて低い残留応力を与える感光性樹脂組成物、さらに該組成物を用いた硬化レリーフパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition suitable to liquid immersion exposure, improved in defects, scums and a leaching ratio upon liquid immersion exposure, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation, and the method for forming a pattern is carried out, using the photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive resist composition reduced in surface roughness in etching and a positive resist composition excellent also in resolving power and defocus latitude in contact hole pattern formation.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れが低減されたポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュードにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To relate to a nail art composition with which a target pattern or letter can easily be drawn without mixing the color of the nail art composition with the color of a primer or top coating, when a nail art is drawn.例文帳に追加

ネイルアートを行う際、下塗り若しくは上塗りとなるネイルエナメル塗膜と混色することなく容易に目的とする模様、文字を描くことが可能なネイルアート用組成物に関する。 - 特許庁

A photosensitive resin composition which contains a base generating agent expressed by a general formula [1] and a base reactive resin, and a method for forming a pattern by using the composition are provided.例文帳に追加

下記一般式［１］で示される塩基発生剤及び塩基反応性樹脂を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物並びに該組成物によるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide an aqueous ink composition that can form a three-dimensional hand-written letter (including a character, a figure or a pattern) bulging upwards with a sufficient thickness and having a matte surface without blending a lightweight and finely divided powder filler into the composition.例文帳に追加

軽量微粉末フィラを配合せずに、十分盛り上がった立体状の筆跡であって且つ艶消しの筆跡を形成することができる水性インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive composition which, when used as a resist material, can be decomposed and removed at a low temperature and ensures a very small residual amount of undecomposed components, and to provide a method for forming a conductive pattern using the negative photosensitive composition.例文帳に追加

レジスト材料として用いた場合に低温で分解除去することができ、未分解成分の残存量が極めて少ないネガ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in resolution and focal depth and suppressing occurrence of scum and development defects, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性、焦点深度に優れ、スカムや現像欠陥の発生を抑制したポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film, having higher sensitivity and high fidelity to a mask, and to provide a method for manufacturing a thick resist pattern by using the photoresist composition.例文帳に追加

より高感度でマスク忠実性の高い厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物と、当該フォトレジスト組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a component of a positive resist composition, a monomer thereof, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁