「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT OBTAINED BY USING THE SAME, PROCESS FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND PROCESS FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THESE AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、これらを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enables to form a pattern in film thickness uniformity on an uneven substrate.例文帳に追加

段差のある基板上に膜厚均一性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD BY USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, pattern shape, etc., and ensuring small line edge roughness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン形状等に優れ、かつラインエッジラフネスの小さい感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING FINE CONCAVE-CONVEX PATTERN, TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE, AND STAMPER例文帳に追加

光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー - 特許庁

The image composition part synthesizes the images while aligning a pattern with a plurality of the low-resolution images on the basis of the displacement.例文帳に追加

画像合成部は、位置ズレに基づいて複数の低解像度画像に対し絵柄の位置合わせを行って合成する。 - 特許庁

The permanent pattern forming method includes exposing a photosensitive layer formed of the photosensitive composition.例文帳に追加

感光性組成物により形成された感光層に対して露光を行うことを含む永久パターン形成方法である。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTO SPACER AND ITS FORMING METHOD, PROTECTIVE FILM, COLORING PATTERN, SUBSTRATE FOR DISPLAY, AND DISPLAY例文帳に追加

感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 - 特許庁

SULFONIUM SALT, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION USING THE POLYMER, AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS例文帳に追加

スルホニウム塩、高分子化合物、該高分子化合物を用いた化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性接着剤組成物、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、及び、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL AND LASER-ENGRAVABLE FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR USING THE SAME例文帳に追加

レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版 - 特許庁

ABRASIVE MATERIAL, CMP SLURRY COMPOSITION, RUTHENIUM PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

研磨用材料、ＣＭＰ用スラリー組成物、ルテニウムのパターン形成方法、半導体素子の製造方法及び半導体素子 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, POLYMER, RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERN FORMATION METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、重合体、レジスト下層膜、パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIN FOR FORMING UPPER-LAYER ANTIREFLECTION FILM, COMPOSITION FOR FORMING UPPER-LAYER ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

上層反射防止膜形成用樹脂及び上層反射防止膜形成用組成物並びにレジストパターン形成方法 - 特許庁

CYCLIC STRUCTURE-BEARING FLUORINE-CONTAINING MONOMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

環状構造を有する含フッ素単量体、その製造方法、重合体、フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

EPOXY RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE FILM, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYERED WIRING BOARD例文帳に追加

エポキシ樹脂組成物、導電膜形成方法、導電性パターン形成方法、及び多層配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane resin composition having excellent alkali solubility and sensitivity, and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

アルカリ可溶性および感度に優れた感光性シロキサン樹脂組成物とそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor composition which can be developed in an alkali aqueous solution and has positive type pattern forming ability.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体組成物を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION CONTAINING FULLERENE DERIVATIVE CONNECTED TO PHOTOACID GENERATOR, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤が連結したフラーレン誘導体を含有するレジスト組成物並びにこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁

Our technology can measure ordinance fragmentation... chemical composition and projected blast pattern.例文帳に追加

私達の技術は 各種測定を行い 証拠品の分断状況 化学的組成 爆発の投影パターンを再現できます - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、およびそれを備えた表示装置 - 特許庁

To provide a new compound to be included in a resist composition giving a pattern having excellent line edge roughness.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物に含まれる新規化合物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for screen printing capable of forming highly fine pattern.例文帳に追加

本発明は、高精細なパターンを形成することが可能なスクリーン印刷用インク組成物を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of providing a resist pattern having excellent line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び感光性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND RESIST PATTERN USING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED-WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND RISING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法、それに用いられるレジスト組成物、ネガ型現像用現像液及びネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, having improved resolving power and adhesion and superior pattern-forming properties.例文帳に追加

解像力、密着性を向上させ、且つ優れたパターン形成性を有する感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition whose line edge roughness and exposure margin are improved and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、露光マージンが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming a thick film pattern and giving polybenzoxazole at low temperature.例文帳に追加

厚膜のパターンを形成でき、低温でポリベンズオキサゾールを与えることのできるポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition for flow pattern formation, to which a flow pattern forming resin is added which has sufficient strength and has a high flow pattern developing effect in spite of a small addition amount.例文帳に追加

本発明の目的は、十分な強度を有し、かつ、少ない添加量で流動模様発現効果が大きい流動模様形成樹脂が添加された流動模様形成用熱可塑性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition having non- tackiness of a coating film, excellent in developability, resolution, pattern adhesion, development margin, curability and accuracy of pattern dimensions and suitable for ink for a color filter capable of forming a good pattern.例文帳に追加

塗膜のタックフリー性を備え、現像性、解像度やパターン密着性、現像マージン、硬化性、パターン寸法精度に優れ、良好なパターン形成が可能なカラーフィルター用インキに適した着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition and a photosensitive material showing excellent photosensitive characteristics and storage stability, to provide a relief pattern which results in a polyimide pattern showing excellent heat resistance, adhesion property and chemical resistance, and to provide a method for manufacturing a polyimide pattern.例文帳に追加

優れた感光特性及び保存安定性を示す感光性組成物、及び感光材料、優れた耐熱性、密着性及び耐薬品性を示すポリイミドパターンを与えるレリーフパターン並びにポリイミドパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in the profile of an isolated pattern and hardly producing contaminations on the resist pattern surface in the process of forming a pattern by irradiation of active rays or radiation, in particular, electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

For example, the visible ray-sensitive resin composition 13 and a UV-sensitive resin composition 12 are laminated, patternwise exposed with visible ray VIS and developed, the whole surface is exposed with ultraviolet rays UV using the resulting pattern of the visible ray-sensitive resin composition 13a and development is carried out to obtain a desired pattern (12a) of the resin composition 12.例文帳に追加

例えば可視光感光性樹脂組成物１３と紫外線感光性樹脂組成物１２とを積層して用いて、可視光ＶＩＳでパターン露光、現像し、得られた可視光感光性樹脂組成物１３ａのパターンをマスクとして全面に紫外線ＵＶで露光し、現像することで、所望の樹脂組成物のパターン（１２ａ）を得る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thick film resist film formation capable of forming a thick film resist pattern with good profile, a thick film resist laminate and a resist pattern forming method.例文帳に追加

形状の良好な厚膜のレジストパターンを形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of an excellent contact hole pattern even in a substrate in which illumination reflection remains, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of forming a high-resolution resist pattern excellent in plating resistance, and being suitably used for producing MEMS, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

メッキ耐性に優れた高解像性のレジストパターンを形成でき、ＭＥＭＳを製造するために好適に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having high adhesion property with a substrate which enables reproduction of a fine pattern even by a wet etching method, and to provide a forming method of a circuit pattern.例文帳に追加

本発明は、基板との密着性が高く、ウェットエッチング法においても微細なパターンを再現することが可能な感光性組成物及び回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive resist composition excellent in line edge roughness and giving a pattern prevented from falling, particularly a fine pattern free of falling even when focus or exposure is varied.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁