「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent and high sensitivity, and ensuring a good resist pattern shape, and also to provide a method for producing the same, and a resist pattern forming method using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な感放射線性組成物、その製造方法、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which gives a cured film that does not cause discoloration on copper or a copper alloy, and to provide a method for manufacturing a cured relief pattern which forms a pattern using the photosensitive resin composition and a semiconductor device.例文帳に追加

銅又は銅合金の上でも変色を起こさない硬化膜を与える感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する硬化レリーフパターンの製造方法並びに半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide an active ray sensitive or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having good properties of PEBS (post exposure bake sensitivity), MEEF (mask error enhancement factor), coverage dependence and bridge defects, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢＳ、ＭＥＥＦ、被覆率依存性、ブリッジ欠陥のいずれもが良好なパターンを形成することが可能な感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is capable of forming a pattern having a low hygroscopic expansion coefficient and good solubility in a developer, and to provide a pattern forming method and a substrate for circuit formation using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

吸湿膨張係数が小さく、現像液に対する溶解性が良好なパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び回路形成用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having superior lithographic characteristics and suppressing film reduction during pattern formation, a polymer compound useful as a base component of the positive resist composition, a compound which is useful as a monomer, as well as, a method for forming a pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、パターン形成時の膜減りが抑制されたポジ型レジスト組成物、ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、モノマーとして有用な化合物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition, which uses a low molecular material as a base component and can form a high-resolution resist pattern, and a method for resist pattern formation, a compound suitable for the positive resist composition, and a dissolution inhibitor.例文帳に追加

基材成分として低分子材料を用いた、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物および溶解抑制剤を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition which suppresses heat sagging due to high-temperature bake, after pattern formation and has superior pattern forming properties, to provide a color filter obtained using the composition, and to provide a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

パターン形成後、高温ベーク処理による熱ダレの発生を抑制し、パターン形成性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、及び該組成物を用いてなるカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is excellent in all of resolution, embedding property, thermal shock resistance, and electric insulation; and a photosensitive film, a method for forming a permanent pattern, a permanent pattern, and a printed board using the photosensitive composition.例文帳に追加

解像性、埋め込み性、耐熱衝撃性、及び電気絶縁性の全てが優れる感光性組成物、並びに、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、永久パターン形成方法、永久パターン、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a resist film, which can suppress generation of bridge defects and scum, has an excellent LWR (line width roughness) performance and allows formation of a favorable fine pattern, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ欠陥及びスカムの発生を抑制でき、かつＬＷＲ性能に優れ、良好な微細パターンを形成することが可能なレジスト膜用の感放射線性樹脂組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a droplet discharging apparatus controlling the profile of a composition for formation of a pattern by drying droplets to give a desired composition profile, a pattern forming method, a method of manufacturing an electro-optic device and the electro-optic device.例文帳に追加

液滴を乾燥することによって形成するパターンの組成プロファイルを所望の組成プロファイルに制御する液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which causes little degradation in a profile, is improved in pattern collapse and suppresses generation of scum, not only in normal exposure (dry exposure) but in immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new nonionic photosensitive compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator, a resist composition, and a method for forming resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new compound, to provide an acid generator consisting of the same, to provide a resist composition containing the acid generator, and to provide a method of resist pattern formation using the resist composition.例文帳に追加

新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition that is free from a problem of metal corrosion as the composition does not generate an acid during thermosetting, and to provide a production method of a cured relief pattern and a semiconductor device.例文帳に追加

熱硬化時に酸を発生せず、メタル腐蝕の問題がないネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition capable of suppressing aging property change, and to provide a film forming device capable of productively forming a film pattern using the liquid composition.例文帳に追加

経時的な物性変化の発生を抑えることができる組成物、及びこの液状体組成物を用いて生産性良く膜パターンを形成できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in long-term stability when the composition is left to stand at room temperature, and allowing pattern formation with high accuracy even when exposure luminous energy is low.例文帳に追加

長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a conductive resin composition having little fluctuation in sensitivity and enabling formation of a preferable pattern feature, and to provide a conductive resin composition obtained by the method.例文帳に追加

感度変動が少なく、良好なパターン形状を形成できる導電性樹脂組成物の製造方法、およびこれより得られた導電性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition for color filters, which has high luminosity, excellent light resistance, high sensitivity and excellent pattern formability and to provide the color filter obtained by using the photosensitive coloring composition for color filters.例文帳に追加

高明度で耐光性にも優れ、さらに高感度かつパターン形状にも優れたカラーフィルタ用感光性着色組成物およびそれを用いたカラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic characteristics such as a resolution and a mask error factor (MEF), and to provide a method for forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, roughness property and temporal stability, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a resin composition giving a cured product having high refractive index and excellent scratch resistance, restoration property, mold releasability, mold pattern reproducibility and adhesiveness and provide the cured material of the composition.例文帳に追加

高屈折率で、耐擦傷性、復元性、離型性、型再現性、密着性に優れた硬化物を与える樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a precursor composition for resists having excellent liquid film-formation ability and pattern formation ability suitable for photo-nanoinprint and a method for micro-patterning using the composition.例文帳に追加

光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition having small dependence of pattern size on light exposure, a color filter using the colored photosensitive composition and a liquid crystal display.例文帳に追加

パターン寸法の露光量依存性が小さい着色感光性組成物、該着色感光性組成物を用いたカラーフィルターおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a F_2 resist composition suitable for the liquid immersion lithography process which is a new lithography technique, and a resist pattern forming method using this F_2 resist composition.例文帳に追加

新たなリソグラフィー技術である液浸露光プロセスに用いて好適なＦ_2レジスト組成物と、このＦ_2レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法とを提供する。 - 特許庁

To provide an acid transfer resin film forming composition, capable of fielding an acid transfer resin film which excels in selectivity of acid diffusion, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

酸の拡散の選択性に優れた酸転写樹脂膜を得ることができる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition includes a compound (N) having a nitro group and an acid radical, and the pattern forming method using the positive resist composition is also provided.例文帳に追加

ニトロ基及び酸基を有する化合物（Ｎ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition improved in heat resistance and adhesion, and to provide a method of forming a metal pattern and a method of manufacturing a display substrate by using the photoresist composition.例文帳に追加

耐熱性及び接着性を向上させたフォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法が開示される。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, SOLDER RESIST, INTERLAYER INSULATION FILM, METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD AND PRINTED WIRING BOARD USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、ソルダーレジスト、層間絶縁膜、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition excellent in wettability and ensuring controlled precipitating property of a polymer or additive and to provide a heat resistant pattern forming method using the composition.例文帳に追加

濡れ性に優れ、かつポリマーまたは添加物の析出性を抑えたポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた耐熱性パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF RESIN EXHIBITING INCREASED ALKALI SOLUBILITY BY ACTION OF ACID, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION COMPRISING RESIN, AND PATTERN-FORMING METHOD USING POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂の製造方法、該樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN OBTAINED FROM PHOTOSENSITIVE ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメント及び感光性エレメントから得られるレジストパターンの製造方法並びにプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a photo-setting composition being excellent in heat resistance and low in the contractility during photo-setting, and a pattern formation process by light imprinting method using the composition.例文帳に追加

光硬化時の収縮度が低く耐熱性に優れた光硬化性組成物及び該組成物を用いる光インプリント法によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resist composition or composition for upper-layer film formation for liquid immersion in which a fine pattern is formed without mixing of foreign matters.例文帳に追加

異物の混入が少なく、微細なパターンを形成することができるレジスト組成物又は液浸用上層膜形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored photosensitive composition having small dependence of pattern size on light exposure and to provide a color filter and a liquid crystal display using the colored photosensitive composition.例文帳に追加

パターン寸法の露光量依存性が小さい着色感光性組成物、該着色感光性組成物を用いたカラーフィルタおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist film having high hydrophobicity of the film surface, and to provide a method of forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成できるポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which ensures small line edge roughness, high sensitivity, high throughput and small substrate dependence of a pattern, and to provide a patterning process using the negative resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity and capable of forming a rectangular pattern, a color filter using the curable composition, and a method for producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUND, RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, PHOTOSENSITIVE FILM BY USING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有化合物、このリン含有化合物を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

To provide an inorganic particle-containing photosensitive composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high dimensional accuracy and a sensitive film obtained from the composition.例文帳に追加

高感度で寸法精度の高いパターンを形成することができる無機粒子含有感光性組成物およびそれから得られる感光性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high resolution, high sensitivity, excellent pattern dimension controllability, high heat resistance and low hygroscopicity, and to provide a cured object of the composition.例文帳に追加

高解像度、高感度で、かつ、優れたパターン寸法制御性を有し、さらには、高耐熱性、低吸湿性である感光性樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable resin composition and an alkali developable photosensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and developability and capable of accurately forming a fine pattern.例文帳に追加

感度、解像度、現像性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物、及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁