「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a resist composition which can provide a resist pattern having excellent line width roughness.例文帳に追加

優れたラインウィズスラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING THERMALLY DECOMPOSABLE LOWER LAYER FILM FOR MULTI-LAYERED RESIST PROCESS, LOWER LAYER FILM, MULTI-LAYERED RESIST, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

多層レジストプロセス用熱分解性下層膜形成組成物、下層膜、多層レジストおよびパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for forming a colored pattern and coating film which have excellent sensitivity.例文帳に追加

感度に優れた着色パターン及び塗膜を形成することができる着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can form a pattern or a coated film excellent in NMP resistance and heat resistance.例文帳に追加

耐ＮＭＰ性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIZABLE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合性組成物の製造方法、感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

To obtain a pattern having superior CD uniformity by using resin in a resist composition.例文帳に追加

この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition providing a resist pattern having an excellent shape and the like.例文帳に追加

優れた形状等を有するレジストパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide resist composition having satisfactory defocusing latitude, profiles, and a side lobe margin in preparing the pattern of contact holes.例文帳に追加

コンタクトホールパターン作製の際、デフォーカスラチチュード、プロファイル、サイドローブマージンが良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE FILM例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、感活性エネルギー線樹脂フィルム及び該フィルムを用いるパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, AND MANUFACTURES OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition excellent in shelf stability and giving a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

保存安定性に優れ、現像欠陥のないレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative curable composition having excellent developability at high sensitivity and capable of forming a fine rectangular pattern.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

ELASTOMER, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

エラストマー、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

NEW COMPOUND, ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物、酸発生剤、化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a high-sensitivity black photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern with a large development margin.例文帳に追加

広い現像マージンで着色パターンを形成し得る、高感度の黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The cover 6 is formed by injecting a resin composition into a molded pattern from an injection molding machine.例文帳に追加

このカバー６は、射出成形機から樹脂組成物を成形型に射出することにより形成されている。 - 特許庁

TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ANTIREFLECTION POLYMER, ITS PRODUCTION, ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射防止用重合体とその製造方法、反射防止膜組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST CROSSLINKING MONOMER, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATES, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

含フッ素ポリマーとその製造方法、及びそれを含むレジスト保護膜組成物ならびにレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a thermosetting silicon-containing film-forming composition enabling good pattern formation of a photoresist film.例文帳に追加

フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能である熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME例文帳に追加

塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND DISPLAY SUBSTRATE PRODUCTION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにこれを用いたフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING PHENYLMALEIMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING IT例文帳に追加

フッ素含有フェニルマレイミド誘導体、重合体、化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SANDBLAST RESIST, SANDBLAST RESIST FILM USING THE SAME, AND SANDBLAST RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

サンドブラストレジスト用感光性組成物、及びこれを用いたサンドブラストレジストフィルム、並びにサンドブラストレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FORMING POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE, OPTICAL WAVEGUIDE, AND METHOD FOR FORMING OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

ポリマー光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路及び光導波路パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE FILM USING IT, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性接着剤組成物、及びそれを用いた接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、並びに半導体装置 - 特許庁

ENERGY LINE-SENSITIVE POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND PICTORIAL PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a pattern having high resolution and a high aspect ratio.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度である感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, THIN-FILM PATTERN FORMING METHOD USING SAME, PROTECTIVE FILM FOR ELECTRONIC EQUIPMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターン形成方法、電子機器用保護膜及び液晶表示素子 - 特許庁

RADIATION CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING FINE STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加

微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法 - 特許庁

To provide a developing solution composition which can form a satisfactory thick-film resist pattern and has less in foaming.例文帳に追加

良好な厚膜レジストパターンを形成できるとともに、泡立ちが少ない現像液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MAKING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive positive composition having a resolution capable of microfabricating a subquarter micron pattern and high sensitivity.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method by which, even when patterning with a second resist composition is performed without using a freezing material in the formation of a resist pattern by double patterning, a fine resist pattern can be formed while retaining the good shape of a first resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、フリージング材を用いることなく第二のレジスト組成物によりパターニングした場合でも、第一のレジストパターンの形状を良好に保持したまま微細なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having improved edge roughness of a pattern and an improved trailing shape on an inorganic substrate and giving an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、無機基板上での裾引き形状も改良された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOSPHOR-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOSPHOR PATTERN, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USED IN SAME, PHOSPHOR PATTERN AND BACKBOARD FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

蛍光体を含有する感光性樹脂組成物、蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition for forming a high-definition pattern of a low-cost electrode or the like having a low value of resistance; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

低コストで、抵抗値が低く、高精細な電極等のパターンを形成することができる感光性ペースト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁