「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a resist underlay film having a function as an antireflection film as well as excellent pattern transfer performance and etching resistance, and causing no bend in a pattern during transferring a fine pattern, and to provide a composition for a resist underlay film used for the above method, and a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using a pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing solution giving a stable pattern shape because of a long allowed time of development time, capable of forming a resist pattern with little residue on development, a good pattern shape and good resolution and having high developing capacity in a colored pattern forming step using a photosensitive composition.例文帳に追加

感光性組成物を用いた着色パターン形成工程において、現像処理時間の許容時間が長く安定したパターン形状が得られ、現像残りが少なく、パターン形状、解像度が良好なレジストパターンを得ることができ、現像処理能が大きい現像液を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of suppressing viscosity reduction over time and capable of stably forming a thick film resist pattern, a resist pattern forming method and a touch panel device including a resist pattern formed using the resist pattern forming method as a spacer.例文帳に追加

経時での粘度低下を抑制でき、安定して厚膜のレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、およびそのレジストパターンの形成方法、さらにはそのレジストパターン形成方法を用いて形成されたレジストパターンをスペーサとして含むタッチパネルデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using the pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer compound useful as a base component of a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in lithography characteristics such as resolution and an MEF (Mask Error Factor), to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition, and a high molecular compound useful for the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a novel compound useful as an acid generator for a resist composition; an acid generator using the compound; a resist composition including the acid generator; and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition including the acid generator, and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound that can be used as a base component of a positive resist composition, and to provide a positive resist composition containing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a high molecular compound used in a resist composition, to provide a compound useful as a monomer for the high molecular compound; to provide a resist composition having good lithography properties; and to provide a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物に利用できる高分子化合物、該高分子化合物のモノマーに有用な化合物、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

This automatic composition system includes a document DB 10, a pattern DB 13 for storing (P+1) page layout patterns in which P rectangular boxes are arranged; and a composition DB 15 for storing the composition data of each page.例文帳に追加

原稿ＤＢ１０、長方形のボックスをＰ個配置した、（Ｐ＋１）個の頁割付パターンを記憶したパターンＤＢ１３、頁毎の組版データを記憶する組版ＤＢ１５を有する自動組版システム１である。 - 特許庁

To obtain a sustained release composition capable of releasing useful bacteria or a useful substance with a requested release pattern.例文帳に追加

有用菌または有用物質を所望のリリースパターンで放出することができる徐放性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD (critical dimension) uniformity (CDU) can be produced.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT OBTAINED BY USING SAME, METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、フォトレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND FILM FOR PROTECTING SUBSTRATE例文帳に追加

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition improved in line edge roughness and pattern collapse.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which can improve resolving power and can obtain a resist pattern having a good shape.例文帳に追加

解像性を向上させることができ、良好な形状のレジストパターンが得られポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION TO BE FORMED ON MAGNETIC FILM AND METHOD FOR FORMING LAYERED BODY AND RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

磁性膜の上に形成するためのポジ型レジスト組成物およびこれを用いた積層体とレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND PRINTED WIRING例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法、及びプリント配線 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AS WELL AS RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

COPOLYMER, COMPOSITION FOR BUFFER MEMBRANE, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR BY USING THE SAME例文帳に追加

共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法 - 特許庁

A thin film formed by using the above composition has a water-repellent hydrophilic pattern formed by irradiation with light.例文帳に追加

それを用いて形成した薄膜に、光を照射することにより形成した撥水性親水性パターンを有する薄膜。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER, ITS PRODUCTION, AND RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE USING THAT POLYMER例文帳に追加

ケイ素含有ポリマ、その製造方法、それを用いたレジスト組成物、パターン形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition with which variation in a pattern dimension in a substrate surface can be reduced.例文帳に追加

基板面内におけるパターン寸法のばらつきを低減することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which excels in a mask error factor (MEF) and a focus margin (DOF) in pattern forming.例文帳に追加

パターンを形成する際のマスクエラーファクター（ＭＥＦ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of a pattern having excellent resolution and a mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた解像度及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。 - 特許庁

COLORED CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME例文帳に追加

着色硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a compound capable of producing a resist pattern having an excellent resolution, and a resist composition containing the compound.例文帳に追加

優れた解像度のレジストパターンを製造することができる化合物および該化合物を含むレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, dependency on pattern density distribution and surface smoothness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン疎密度への依存性、表面平滑性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying negative resist composition excellent in the performance for isolated pattern when active rays or radiation are used.例文帳に追加

活性光線や放射線の使用に対して孤立性能に優れた化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHENYLENEDIAMINE DERIVATIVE, PRODUCTION OF PHENYLENEDIAMINE DERIVATIVE, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フェニレンジアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、並びに、プリント配線板及びその製造方法 - 特許庁