「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive resin composition capable of suppressing viscosity reduction over time and capable of stably forming a thick film resist pattern, a resist pattern forming method and a touch panel device including a resist pattern formed using the resist pattern forming method as a spacer.例文帳に追加

経時での粘度低下を抑制でき、安定して厚膜のレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、およびそのレジストパターンの形成方法、さらにはそのレジストパターン形成方法を用いて形成されたレジストパターンをスペーサとして含むタッチパネルデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using a pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing solution giving a stable pattern shape because of a long allowed time of development time, capable of forming a resist pattern with little residue on development, a good pattern shape and good resolution and having high developing capacity in a colored pattern forming step using a photosensitive composition.例文帳に追加

感光性組成物を用いた着色パターン形成工程において、現像処理時間の許容時間が長く安定したパターン形状が得られ、現像残りが少なく、パターン形状、解像度が良好なレジストパターンを得ることができ、現像処理能が大きい現像液を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having a low refractive index and also less development residue and allowing formation with high resolution of a pattern excellent in dry etching resistance, a pattern forming material, and a photosensitive film, a pattern formation method, a pattern film, a low refractive index film, an optical device and a solid imaging element using the same.例文帳に追加

屈折率が低く、更には、現像残渣が少なく、ドライエッチング耐性に優れたパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.例文帳に追加

パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a hardened body excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film, and a pattern forming method, and to provide a pattern using method using the pattern as a resist mask, electronic components, and an optical waveguide.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供すると共に、それを用いたパターン使用方法、電子部品及び光導波路を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound that can be used as a base component of a positive resist composition, and to provide a positive resist composition containing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a novel compound useful as an acid generator for a resist composition; an acid generator using the compound; a resist composition including the acid generator; and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition including the acid generator, and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This automatic composition system includes a document DB 10, a pattern DB 13 for storing (P+1) page layout patterns in which P rectangular boxes are arranged; and a composition DB 15 for storing the composition data of each page.例文帳に追加

原稿ＤＢ１０、長方形のボックスをＰ個配置した、（Ｐ＋１）個の頁割付パターンを記憶したパターンＤＢ１３、頁毎の組版データを記憶する組版ＤＢ１５を有する自動組版システム１である。 - 特許庁

To provide a polymer compound useful as a base component of a positive resist composition, to provide a positive resist composition containing the polymer compound, and to provide a method for forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a high molecular compound used in a resist composition, to provide a compound useful as a monomer for the high molecular compound; to provide a resist composition having good lithography properties; and to provide a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物に利用できる高分子化合物、該高分子化合物のモノマーに有用な化合物、リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in lithography characteristics such as resolution and an MEF (Mask Error Factor), to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition, and a high molecular compound useful for the positive resist composition.例文帳に追加

解像性およびＭＥＦなどのリソグラフィー特性に優れるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of suppressing generation of a development residue and allowing formation of a favorable pixel pattern.例文帳に追加

現像残渣の発生を抑制するとともに、良好な画素パターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, FORMATION METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID STATE IMAGE SENSOR例文帳に追加

着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、および固体撮像素子 - 特許庁

To provide a photoresist composition so excellent in heat resistance that deformation of a resist pattern can be prevented in heating at high temperature.例文帳に追加

高温加熱処理時にレジストパターン形状の変形を防止できる耐熱性に優れたホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THESE AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、これらを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

COLORED CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME例文帳に追加

着色硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a compound capable of producing a resist pattern having an excellent resolution, and a resist composition containing the compound.例文帳に追加

優れた解像度のレジストパターンを製造することができる化合物および該化合物を含むレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, dependency on pattern density distribution and surface smoothness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン疎密度への依存性、表面平滑性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying negative resist composition excellent in the performance for isolated pattern when active rays or radiation are used.例文帳に追加

活性光線や放射線の使用に対して孤立性能に優れた化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING FINE CONCAVE-CONVEX PATTERN, TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE, AND STAMPER例文帳に追加

光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー - 特許庁

ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND FILM FOR PROTECTING SUBSTRATE例文帳に追加

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a pattern having good resolution, line width roughness, and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度、ラインウィドゥスラフネス又はラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition, forming a pattern having excellent shape, focus margin (DOF) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた形状、ＤＯＦ及びＭＥＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which can form a coating film, a pattern and a color filter with high heat resistance.例文帳に追加

高耐熱性の塗膜、パターン及びカラーフィルタを得ることができる着色感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist-modifying composition suitably used in a pattern forming process for enabling a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.例文帳に追加

形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth of field (DOF) characteristics, and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of forming a coating film, a pattern and a color filter with excellent heat resistance.例文帳に追加

耐熱性に優れた塗膜、パターン及びカラーフィルタを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION TO BE FORMED ON MAGNETIC FILM AND METHOD FOR FORMING LAYERED BODY AND RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

磁性膜の上に形成するためのポジ型レジスト組成物およびこれを用いた積層体とレジストパターンの形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AS WELL AS RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁

SILICON-CONTAINING POLYMER, ITS PRODUCTION, AND RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE USING THAT POLYMER例文帳に追加

ケイ素含有ポリマ、その製造方法、それを用いたレジスト組成物、パターン形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND PRINTED WIRING例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法、及びプリント配線 - 特許庁

COPOLYMER, COMPOSITION FOR BUFFER MEMBRANE, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR BY USING THE SAME例文帳に追加

共重合体、バッファ膜用組成物、それを用いたパターン形成方法及びそれを用いたキャパシタの製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enables to form a pattern in film thickness uniformity on an uneven substrate.例文帳に追加

段差のある基板上に膜厚均一性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD BY USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁