「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern formation method, a chemical amplification type resist composition and a resist film for improving sensitivity, exposure latitude, mask error enhancement factor, and pattern shape, and for reducing line width variation.例文帳に追加

感度、露光ラチチュード、マスクエラーエンハンスメントファクター、パターン形状に優れ、線幅バラツキを低減できるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of improving the adhesiveness of a pattern formed on a substrate after development, a pattern forming method and electronic components.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンの現像後における接着性を向上させることができる感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using a low-molecular-weight resin as a base resin and capable of forming a high-resolution resist pattern, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ベース樹脂として低分子量の樹脂を用いて高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent surface smoothness, high resolution to form a fine pattern, and a superior recovery rate and giving a pattern such as a photospacer.例文帳に追加

表面平滑性に優れ、微細なパターンまで解像可能で、更に、回復率に優れ、フォトスペーサーのようなパターンを形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a curable silicone composition for negative pattern formation which takes part in crosslinking reaction upon hydrosilylation and cures, and a negative pattern forming method.例文帳に追加

本発明はヒドロシリレーションにより架橋反応して硬化するネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物およびネガ型パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for nanoimprint and a pattern formation method using it, excellent in mold packing property, in pattern formation by a nanoimprint method.例文帳に追加

ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which causes no mold contamination or pattern defect even after repeated pattern transfer and excels in line edge roughness after dry etching.例文帳に追加

繰り返しパターン転写を行ってもモールド汚れ、パターン欠陥が発生せず、かつドライエッチング後のラインエッジラフネスに優れるナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern which can attain smooth and further stable contraction of a resist pattern by heat treatment, and easy removal thereof by a subsequent alkali aqueous solution treatment.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

The processing liquid for forming the pattern due to the chemically amplified resist composition contains a surfactant and an organic solvent, and the method for forming the resist pattern using it is provided.例文帳に追加

界面活性剤と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING SILICA-BASED INSULATING FILM HAVING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING SILICA-BASED INSULATING FILM HAVING PATTERN FORMED BY THE METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンを有するシリカ系絶縁被膜の形成方法及びその方法により形成されるパターンを有するシリカ系絶縁被膜を備える電子部品 - 特許庁

To provide a photosensitive compound capable of forming a resist pattern with a low line edge roughness (LER), to provide a photosensitive composition containing the photosensitive compound, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

低ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）なレジストパターンを形成可能な感光性化合物、該感光性化合物を含む感光性組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-in-water type multi-colored pattern paint composition which can form a constant and smooth multi-colored pattern regardless of a painting condition such as a painting tool and a painting temperature.例文帳に追加

塗装器具、塗装温度等の塗装条件が変動しても一定の平滑な多彩模様が形成可能な水中水型多彩模様塗料を提供する。 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer capable of forming a resist pattern having a high resolution and exhibiting excellent etching resistance, a positive resist composition and a resist pattern-forming method.例文帳に追加

高解像性で、しかもエッチング耐性にも優れたレジストパターンを形成できる重合体、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for a resist base layer film which can reduce resist footing pattern and improve the shape of the pattern, and the resist base layer film using the same.例文帳に追加

レジストパターンの裾引きを低減するとともに、該パターンの形状を改善することが可能なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜を提供する。 - 特許庁

To provide a salt which acts as an acid generator for a chemical amplification-type resist composition capable of forming a pattern having a good pattern shape and exhibiting a high resolution.例文帳に追加

良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid composition for etching a metallic thin film pattern consisting essentially of silver with high precision and forming an excellent pattern shape, and also having excellent practicability.例文帳に追加

銀を主成分とする金属薄膜パターンを精度良くエッチング加工し、優れたパターン形状を形成し、かつ実用性に優れたエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high sensitivity chemically amplified positive resist composition capable of efficiently forming an ultrafine resist pattern faithful to a mask pattern and having a good section shape.例文帳に追加

マスクパターンに忠実で、断面形状の良好な超微細なレジストパターンを効率よく形成させることができる高感度化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for a solid state imaging device which is superior in developability and in pattern formation, produces highly refractive cured film, and forms a pattern with ease.例文帳に追加

現像性に優れ、パターン形成性に優れた、高屈折率の硬化膜を与える、パターン形成が容易なポジ型感光性の固体撮像素子用組成物を提供する。 - 特許庁

After forming a coating film 3 by coating thermal polymerization composition on a thermally conductive substrate 1 having a pattern 2, a coated pattern 7 is formed by baking and developing.例文帳に追加

パターン２を有する熱伝導性基板１に熱重合性組成物を塗布して塗膜３を形成したのち、ベークおよび現像をして被覆パターン７を形成する。 - 特許庁

To provide a composition for a photosensitive organic antireflection film for forming a photosensitive organic antireflection film at the same time in forming a photoresist pattern, and a pattern forming method.例文帳に追加

フォトレジストパターン形成の際、同時に感光性有機反射防止膜を形成するための感光性有機反射防止膜用の組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the formation of the mask pattern, a coating composition including the proton donor polymer, proton acceptor polymer, and a base is prepared to form the gel layer on the resist pattern.例文帳に追加

マスクパターンの形成において、レジストパターン上にゲル層を形成するために、陽子供与ポリマー、陽子受容ポリマー、及び塩基を含むコーティング組成物を準備する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which is a resist excellent in sensitivity and resolution, ensuring small line edge roughness of a pattern, and capable of well maintaining the pattern shape.例文帳に追加

感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which can form a resist pattern good in shape and is preferable for use in manufacturing a system LCD, and provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

形状の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a salt for use as an acid generating agent to give a chemical amplification type resist composition that can make up a pattern having a good pattern form and shows a high resolution.例文帳に追加

良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition, a pattern formation method, a polymer and a compound which are excellent in pattern formation property, MEEF performance and etching resistance.例文帳に追加

パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in depth of focus (DOF) when forming an isolated contact hole pattern, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

孤立コンタクトホールパターンを形成する際の焦点深度マージン（ＤＯＦ）に優れたレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A section 8 for generating an erasable pattern generates an erasable pattern, a section 9 for generating an unerasable pattern generates an unerasable pattern, and a 1st composition section 10 puts both the pattern together, so that image data obtained by composite processing image data generated according to an application program are printed out.例文帳に追加

本発明は、消失パターン生成部８によって消失パターンを生成し、非消失パターン生成部９によって非消失パターンを生成し、第１の合成部１０によって両パターンを合成処理し、アプリケーションプログラムに基づいて作成したイメージデータを合成処理することによって得られた画像データをプリント出力する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for thermal flow excellent in controllability of resist pattern size in a thermal flow process using a resist composition for use in ArF excimer laser lithography or the like, a resist pattern forming method, a high molecular compound suitable for the method and a positive resist composition suitable for thermal flow.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れたサーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、これに適した高分子化合物およびサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having appropriate properties to be used for a circuit formation substrate, from which a good pattern with excellent sensitivity and resolution can be formed even when the composition contains a polymer having a rigid structure, and to provide a pattern formation method and electronic parts using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

剛直な構造を有するポリマーを含んでも感度、解像度に優れた良好なパターンを形成でき、回路形成用基板用途として適切な諸特性を有する感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant negative photosensitive resin composition also having good sensitivity and resolution, a pattern forming method using the composition in which the composition is developable with an alkaline aqueous solution and excels in sensitivity, resolution and heat resistance and by which a pattern of a good shape is obtained, and to provide high-reliability electronic components.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いたアルカリ水溶液で現像可能で、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法、及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming an acid transfer resin film, the composition giving an acid transfer resin film excellent in selectivity of acid diffusion; and to provide an acid transfer resin film formed by using the composition, and a pattern forming method allowing pattern formation by a conventional photolithographic process using the acid transfer resin film.例文帳に追加

酸の拡散の選択性に優れた酸転写樹脂膜を得ることができる酸転写樹脂膜形成用組成物、これを用いてなる酸転写樹脂膜、及びこの酸転写樹脂膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＰＥＤ安定性に優れ、形状が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A light is irradiated on a substrate for pattern formation in which a photoreaction composition containing alkylsilane and/or fluoroalkylsilane is coated on the base material and the photoreaction composition-coated side is exposed and developed, and thereby, a pattern made of the coated part of the photoreaction composition and the exposure part of the substrate is formed.例文帳に追加

基材上にアルキルシラン及び／又はフルオロアルキルシランを含有する光反応性組成物が塗布されたパターン形成用基板に、光を照射して光反応性組成物塗布面を露光現像し、光反応性組成物の被覆部と基板露出部とからなるパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a silica-based photosensitive resin composition having excellent long-term storage stability at room temperature (20 to 25°C) and high sensitivity and allowing pattern formation with high accuracy, to provide a method for forming a silica-based insulating coating film for obtaining a cured product with high pattern accuracy by using the composition, and to provide electronic components using the composition.例文帳に追加

長期の室温（２０〜２５℃）保存安定性に優れ、さらに高感度で、精度よくパターン形成できるシリカ系感光性樹脂組成物、これを用いたパターン精度の高い硬化物が得られるシリカ系絶縁被膜の形成方法、電子部品を提供する。 - 特許庁

A designated background pattern and a composite pattern are outputted as a reference print, and after an image for composition and a composite position are designated using the reference print, and the image for composition and composition position are extracted by reading the reference print, and a composite image is prepared by using the original image of the pattern using extracted information.例文帳に追加

指定された背景パターンおよび合成パターンを参照プリントとして出力し、前記参照プリント用いた合成用画像および合成位置の指定の後、参照プリントを読み取って合成用画像および合成位置を抽出し、この抽出情報を用いて、パターンのオリジナル画像を用いて合成画像を作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The method for producing the structured article of an inorganic material membrane comprises applying the non-photosensitive composition on a substrate, applying a photosensitive composition on the non-photosensitive composition, then subjecting the resultant to exposure and development and finally forming a pattern on the non-photosensitive composition, followed by firing.例文帳に追加

前記非感光性組成物を基板上に設け、該非感光性組成物上に感光性組成物を設け、露光、現像処理した後、非感光性組成物にパターンを形成し、次いで焼成する無機材料膜構造物の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the electronic device includes steps of: forming a resist film of a negative type photoresist composition on the substrate; obtaining the substrate having the resist pattern by exposing the resist film in the pattern and developing it; forming the metal film on the substrate having the resist pattern; and removing the resist pattern from the substrate using the removing agent composition.例文帳に追加

また、基板上にネガ型フォトレジスト組成物をのレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜をパターン状に露光し、現像してレジストパターンを有する基板を得る工程と、レジストパターンを有する基板の上に金属膜を形成する工程と、上記除去剤組成物を用いてレジストパターンを基板から除去する工程とを有する電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern excellent in exposure latitude (EL) and line width variance (LWR) or CD (critical dimension) uniformity (CDU) is formed; to provide a pattern formed by the same; to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming process; and to provide a resist film formed from the resist composition.例文帳に追加

露光ラチチュード（ＥＬ）と、線幅バラツキ（ＬＷＲ）又はＣＤ（クリティカルディメンジョン）均一性（ＣＤＵ）とに優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該レジスト組成物により形成されたレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition improved in thickness reduction of a resist film after pattern development and deterioration of a pattern profile in normal exposure, and further improved in elution of a resist component into a immersion solution, pattern collapse or deterioration of a profile after immersion exposure in liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常露光時に於ける、パターン現像後のレジスト膜厚減少、及び、パターンプロファイル劣化が改善され、更には、液浸露光時に於ける、液浸液へのレジスト成分の溶出が改善され、液浸露光後のレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which satisfies both of excellent storage stability and high sensitivity and is capable of efficiently forming a permanent pattern such as a protective film or an insulating film with high definition, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a permanent pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた保存安定性と高感度とを両立し、保護膜、絶縁膜などの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of highly satisfying all of line edge roughness (LWR), exposure latitude (EL), PEB temperature dependency and pattern collapse, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）、ＰＥＢ温度依存性及びパターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, an excellent pattern shape and excellent line edge roughness, and a resist film and pattern forming method using the resin composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing a polyimide resin having an acid-dissociative group, a compound of generating sulfonic acid by irradiation of light, and a crosslinking agent, a manufacturing method for the pattern using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁