「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

CHEMICALLY AMPLIFYING PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST LAYERED BODY, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTORESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTING TERMINAL例文帳に追加

化学増幅型ホトレジスト組成物、ホトレジスト層積層体、ホトレジスト組成物製造方法、ホトレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION FOR OVERCOAT, AND PHOTOCURABLE ELEMENT FOR OVERCOAT, METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND CONDUCTIVE FILM SUBSTRATE USING THE COMPOSITION例文帳に追加

オーバーコート用光硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたオーバーコート用光硬化性エレメント、導電パターンの形成方法、及び導電膜基板 - 特許庁

The same pattern is formed by lithography in the first polymer or first polymer composition layer and in the second polymer or second polymer composition layer.例文帳に追加

続いてリソグラフィーにより第１のポリマー或いは第１のポリマー組成物層及び第２のポリマー或いは第２のポリマー組成物層に同じパターンを形成する。 - 特許庁

TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, ITS DERIVATIVE AND PRODUCTION, POLYIMIDE PRECURSOR, POLYIMIDE, RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

テトラカルボン酸二無水物、その誘導体及び製造法、ポリイミド前駆体、ポリイミド、樹脂組成物、感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法、並びに電子部品 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition whose development defects are reduced in manufacturing of the positive photoresist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、現像欠陥の発生が軽減できるポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, AND FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition good in resolution and characteristics of line edge roughness, a photoresist composition using the resin and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性、ラインエッジラフネス特性が良好なホトレジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resin composition superior in development residue and outgassing performance, and to provide a method of forming a pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

現像残渣に優れ、かつアウトガス特性に優れたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition which suppresses dimensional variation of a resist pattern due to definite-period storage of the resist composition, with respect to a resist composition obtained by dissolution in an organic solvent containing ethyl lactate, and a method for producing the resist composition.例文帳に追加

乳酸エチルを含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、レジスト組成物の経時によるレジストパターンの寸法変動が抑制されたレジスト組成物、および該レジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition for thermal lithography, capable of forming a resist pattern by thermal lithography, and to provide a resist pattern forming method using the chemically amplified positive resist composition for thermal lithography.例文帳に追加

熱リソグラフィーによるレジストパターン形成が可能な熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物、および該熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a protective film forming composition which can be stripped by using developing liquid in liquid immersion exposure and is capable of suppressing adverse effect on a resist film and forming an excellent resist pattern, and to provide a pattern forming method using the protective film forming composition.例文帳に追加

液浸露光において現像液で剥離でき、レジスト膜への悪影響を抑制し、且つ良好なレジストパターンを形成し得る保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is stable relative to solvents used in immersion lithography processes and displays excellent sensitivity and resist pattern profile, and a method of forming a resist pattern that uses such a resist composition.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れる、レジスト組成物、及びこれらレジスト組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity which has small volumetric shrinkage when it is thermally cured, and which is capable of forming a resin pattern having a profile with a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

高感度で加熱硬化時の体積収縮の小さい、高アスペクトなプロファイルを有する樹脂パターンを形成できる感光性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is stable relative to solvents used in immersion lithography processes and displays excellent sensitivity and resist pattern profile, and to provide a method of forming a resist pattern that uses such a resist composition.例文帳に追加

イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れる、レジスト組成物、及びこれらレジスト組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a black curable composition that enables a light shielding color filter for a solid state imaging device to be formed, in which a pattern is formed even at low exposure dose or suppressing pattern defects even when the composition contains a high concentration of inorganic pigment.例文帳に追加

無機顔料を高濃度で含有しても、低露光量でもパターン形成ができ、パターン欠損を抑制した固体撮像素子用遮光性カラーフィルタを形成可能な黒色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for forming a pattern excellent in sensitivity, resolution and roughness characteristics and having a good shape, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness property, pattern configuration, temporal stability and outgassing property, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition exhibiting enhanced resolution, roughness characteristic, pattern configuration and outgassing performance without detriment to sensitivity, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

感度を損なうことなく、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性を改良した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness properties, pattern shape, temporal stability and outgassing properties, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition which has excellent resolution and I-D bias and which allows a pattern of a favorable shape to be formed, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

解像力及び疎密特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition excellent in resolution, line edge roughness and etching resistance, and excellent in sensitivity and a pattern profile; and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

解像度、ラインエッジラフネスおよびエッチング耐性に優れ、かつ感度及びパターン形状に優れる感活性光線性または感放射線性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a decomposable resin composition usable also in the form of a thick film, having high engraving sensitivity and enabling efficient engraving with a low laser energy and provide a pattern-forming material and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

厚膜にも利用可能であり、彫刻感度が高く、低レーザーエネルギーで効率的に彫刻が可能である分解性樹脂組成物、これを用いたパターン形成材料およびパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses collapse of a resist pattern and degradation of its profile due to post exposure between exposure and PEB (post exposure bake) at the time of immersion exposure, and also to provide a method of pattern formation with the composition.例文帳に追加

液浸露光時の、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition excellent in storage stability and having high-sensitivity positive lithography performance, a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

保存安定性に優れ、高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有する新規な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition superior in photocurability and resolution and capable of fabricating a pattern high in aspect ratio and precision and to provide a plasma display panel(PDP) having the desired calcined pattern formed by using this paste composition.例文帳に追加

光硬化性や解像度に優れ、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にする感光性ペースト組成物及びそれを用いて所望の焼成物パターンを形成したプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for acquiring a pattern having a high focus margin (DOF), CD uniformity (CDU), and a mask error factor (MEF), and a forming method of a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid composition which suppresses bubble forming when a pattern forming material is liquified, and a film forming apparatus which forms productively a film pattern by using the liquid composition.例文帳に追加

パターン形成用材料を液状化した際、気泡の発生を抑えることができる液状体組成物、及びこの液状体組成物を用いて生産性良く膜パターンを形成できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resist composition, restraining the occurrence of a defect in a resist pattern after development, especially fine scum and micro-bridge and having small line edge roughness, and to provide a resist composition and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide metal nanoparticles and a photosensitive composition containing the particles with which a large-area film or a pattern can be easily formed, and to provide a method for forming a conductive pattern using the above photosensitive composition.例文帳に追加

大面積のフィルムまたはパターンを容易に形成することが可能な金属ナノ粒子およびこれを含む感光性組成物、ならびにその感光性組成物を用いる導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkaline development type photosensitive resin composition that enables the formation of a pattern with good resolution upon development with an aqueous alkaline solution without adding a dissolution inhibitor and a method for forming a pattern using the alkaline development type photosensitive resin composition.例文帳に追加

溶解阻害剤を添加することなく、アルカリ水溶液現像によって解像度の良好なパターンを形成することを可能にするアルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a protective film forming composition which can be stripped with developer in liquid immersion exposure and is capable of suppressing adverse effect on a resist film and forming an excellent resist pattern, and to provide a pattern forming method using the protective film forming composition.例文帳に追加

液浸露光において現像液で剥離でき、レジスト膜への悪影響を抑制し、且つ良好なレジストパターンを形成し得る保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring uniform resist pattern size in a substrate surface and having a wide margin for PEB, and to provide a resist pattern forming method using a chemically amplified positive resist composition.例文帳に追加

高感度、高解像性で、基板面内で均一なレジストパターンサイズが得られ、広いＰＥＢマージンを有するポジ型レジスト組成物及び化学増幅型ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photoresist composition capable of forming a resist pattern having excellent characteristics, a compound providing such a photoresist composition, resin and resist pattern.例文帳に追加

優れた特性のレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物とともに、このようなフォトレジスト組成物を提供する化合物及び樹脂並びにレジストパターン製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The water-borne colored coating composition for forming the color pattern is obtained by formulating a xanthan gum of a natural product as a material for forming the color pattern with a water-based coating composition of an acrylic resin emulsion.例文帳に追加

アクリル樹脂エマルション水系着色塗料組成物に、色彩模様を形成せしめる材料として天然物であるキサンタンガムを配合してなる色彩模様形成用水系着色塗料組成物である。 - 特許庁

To provide a polymer for a photoresist having high transmittance, etching resistance, thermal resistance, adhesiveness and low light absorbance, and high affinity for a developer in order to obtain a pattern improved of LFR (line edge roughness), and to provide a photoresist composition including the polymer, and a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＬＥＲが改善されたパターンを得るため透過率、エッチング耐性、耐熱性、接着性及び低い光吸収度を有し、現像液に対する親和度の高いフォトレジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good solubility in a developing solution and capable of forming a pattern having low water absorption, and a pattern forming method and electronic parts using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

現像液に対する溶解性が良好であり、吸水率が低いパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide: a positive resist composition which, in resist pattern formation, exhibits excellent lithography characteristics and can diminish defects; a method of forming a resist pattern using the positive resist composition; and a polymeric compound useful as a base component of the positive resist composition.例文帳に追加

レジストパターン形成において、優れたリソグラフィー特性を示し、ディフェクトを低減できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、および該ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin suitable as a resist composition capable of forming a resist pattern having small LER, a resin produced by the production method, a resist composition containing the resin and a method for forming a resist pattern by using the resist composition.例文帳に追加

ＬＥＲの小さいレジストパターンを形成可能なレジスト組成物に好適に使用される樹脂の製造方法、該製造方法により製造される樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness, to provide a pattern forming method using the composition and a resin purifying method used for the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a titanium black dispersion composition for a solid state imaging element, wherein the storage stability of a dispersion composition containing titanium black is high, and to provide a black radiation-sensitive composition, in which roughness is not generated on the upper face of the pattern and flatness is excellent when forming a pattern.例文帳に追加

チタンブラックを含む分散組成物の保存安定性の高い固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物、およびパターン形成したときに、パターン上面の荒れが発生せず、平坦性の良好な黒色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which has superior lithographic characteristics and forms a roughness-reduced resist pattern, a resist pattern-forming method using the positive-type resist composition, and a high-molecular compound which can be utilized as a base material component for the positive-type resist composition.例文帳に追加

良好なリソグラフィー特性で、ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法、およびポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for forming a resist pattern on a support by two or more patterning operations using a chemically-amplified resist composition, to reduce damage from the second patterning to the first resist pattern formed by the first patterning, and a resist composition useful for forming the first resist pattern in the resist pattern forming method.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having high sensitivity, excellent resolution and very high temporal stability of sensitivity and capable of efficiently forming patterns such as a wiring pattern and a solder resist pattern with high definition, to provide a pattern forming material and a photosensitive laminate having a photosensitive layer formed of the photosensitive composition, and to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition or the like for inexpensively, easily and efficiently forming a resist cut-out pattern exceeding the exposure limit by a light source of an exposure apparatus, the pattern which is thickened uniformly, by a resist pattern thickening material regardless of directions or the pattern density of a resist pattern, and moreover without depending on the kind of the resist pattern thickening material.例文帳に追加

レジストパターンの方向、疎密差等に関係なく、しかもレジストパターン厚肉化材料の種類に依存することなく、該レジストパターン厚肉化材料により均一に厚肉化され、露光装置の光源における露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁