「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

Moreover, an optimum template pattern whose total point number is the highest is selected and the input composition is corrected by using this template pattern (S7 to S9).例文帳に追加

そして、合計のポイント数が最も高いテンプレートパターンを最適テンプレートパターンとして選択し、これを用いて入力文を添削する（Ｓ７〜Ｓ９）。 - 特許庁

COLORED THERMOSETTING COMPOSITION FOR FORMING COLORED PATTERN, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, COLORED PATTERN AND ITS FORMING METHOD, AND COLOR FILTER AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

着色パターン形成用着色熱硬化性組成物、固体撮像素子、着色パターン及びその形成方法、ならびにカラーフィルタ及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN, HEAT-RESISTANT COATING FILM AND HEAT-RESISTANT INSULATING PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRONIC PARTS HAVING THEM例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターン、耐熱性塗膜、耐熱性絶縁パターンの製造方法およびそれらを有する電子部品 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a resist pattern with sufficiently high sensitivity and resolution and ensuring sufficiently excellent peeling property of the formed resist pattern.例文帳に追加

十分に高い感度及び解像度でレジストパターンを形成できると共に、形成されたレジストパターンの剥離特性に十分に優れる感光性樹脂組成物。 - 特許庁

To obtain a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity, ensuring improved edge roughness of a pattern and giving an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

高感度を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良され、優れたレジストパターンプロファイルが得られる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming method includes applying and curing a composition for fine pattern formation, having a silazane bond on surfaces of patterns formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンの表面に、シラザン結合を有する微細パターン形成用組成物を塗布し、硬化させることを含む、パターン形成方法。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in solubility in an organic solvent and capable of forming a resist pattern of good profile, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性に優れ、かつ良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition capable of forming a baked material pattern such as an electrode pattern of high accuracy showing an excellent hardening depth.例文帳に追加

高精度で且つ優れた硬化深度を示す電極パターン等の焼成物パターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure improved in pattern falling, sensitivity and property of following an immersion liquid, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン倒れ、感度、液浸液追随性が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can give a high-contrast pattern at a high sensitivity and is excellent in the resolution of a fine pattern and in adhesion.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られると同時に、微細パターンの解像性及び接着性に優れたポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

There are also provided the pattern forming material having a photosensitive layer formed of the photosensitive composition, the photosensitive laminate and the pattern forming method.例文帳に追加

また本発明は、前記感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which diminishes defects in a resist pattern and has necessary lithography properties, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンのディフェクトが低減されるとともに、必要とされるリソグラフィー特性を有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of being cured by heat treatment at ≤300°C, and to form a cured relief pattern having chemical resistance in the pattern after curing on a substrate.例文帳に追加

３００℃以下の熱処理による硬化が可能であり、硬化後のパターンに耐薬品性を有する硬化レリーフパターンを基板上に形成する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in pattern shape, having low dependency of pattern size on post-exposure baking temperature and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

パターン形状に優れ、パターン寸法の露光後ベーク温度依存性が小さく、また、感度や解像性にも優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE-RESIN TRANSFER FILM, RESIN PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN PATTERN, BASE BOARD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having good resolution even in the case of a contact hole pattern and a trench pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for a solid state imager excellent in pattern forming property and developability, giving a high refractive index cured product, and capable of easy pattern formation.例文帳に追加

パターン形成性及び現像性に優れ、高屈折率の硬化物を与える、パターン形成が容易な感光性の固体撮像素子用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays having improved defocus latitude of an isolated contact hole pattern and roughness of the side wall of the hole pattern.例文帳に追加

孤立コンタクトホールパターンのディフォーカス・ラチチゥード及びホールパターンの側壁のラフネスが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has high resolution and enables to form a resist pattern of good shape with small LWR, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

高い解像性で、ＬＷＲが小さく、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern which ensures small dimensional variation irrespectively of resist film thickness, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト膜厚に対する寸法変動が小さいレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING METAL-FILM-COATED MATERIAL, METAL-FILM-COATED MATERIAL, PROCESS FOR PRODUCING METALLIC-PATTERN MATERIAL, METALLIC-PATTERN MATERIAL AND COMPOSITION FOR POLYMER LAYER FORMATION例文帳に追加

表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of reducing insoluble residue during forming a pattern and having high adhesion property of a formed pattern.例文帳に追加

パターン形成時の不溶解残渣を減少させることができ、かつ形成されたパターンの密着性が高い、着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, solves the problem of development defects and gives excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

This pattern forming method forms a coating film of the photosensitive composition on a substrate, exposes and develops the coating film, to be formed into the pattern, deposits inorganic powder on the obtained pattern, and burns it.例文帳に追加

基板上に感光性組成物の塗膜を形成し、該塗膜を露光、現像してパターンとし、得られたパターン上に無機粉末を付着させ、焼成することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In this composition for artificial marble, which is obtained by blending additives such as a filler, a pattern material for expressing a pattern or a hardening material, plural kinds of pattern materials different in specific gravity are mixed.例文帳に追加

合成樹脂に充填剤と柄を表現する柄材、硬化材などの添加物を配合して得られる人造大理石の組成物において、複数種類の比重の異なる柄材を混合する。 - 特許庁

When the photosensitive paste composition is used, the desired fired body patters such as the partition wall pattern, dielectric pattern and electrode pattern of PDP can be formed with good productivity.例文帳に追加

このような感光性組成物を用いることにより、リフトオフ法やフォトリソグラフィー法により、ＰＤＰの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターンなどの所望の焼成物パターンを生産性良く形成できる。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or a radiation sensitive resin composition which provides a fine pattern superior in exposure latitude and a pattern form, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming material having the photosensitive layer formed by the photosensitive composition, the photosensitive laminate, the pattern forming apparatus with the photosensitive laminate, and the pattern forming method are provided.例文帳に追加

該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL FILM, SUBSTRATE FOR FORMING METAL FILM, METAL FILM LAMINATE, METHOD FOR FORMING METAL PATTERN, SUBSTRATE FOR FORMING METAL PATTERN, METAL PATTERN MATERIAL, AND COATING LIQUID COMPOSITION FOR FORMING POLYMER PRECURSOR LAYER例文帳に追加

金属膜形成方法、金属膜形成用基板、金属膜積層体、金属パターン形成方法、金属パターン形成用基板、金属パターン材料、及び、ポリマー前駆体層形成用塗布液組成物 - 特許庁

To provide a polyvalent phenolic material as a base material for a pattern forming material with which a pattern with high resolution and reduced line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

ＬＥＲの低減された高解像性のパターンが形成できるパターン形成材料の基材用の多価フェノール材料、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

There are also provided the pattern forming material and the photosensitive laminate having a photosensitive layer formed of the photosensitive composition, the pattern forming apparatus equipped with the photosensitive laminate and the pattern forming method.例文帳に追加

該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can form a fine resist pattern, which can control the taper angle of the resist pattern to a proper angle, and which can form a resist pattern excellent in the focal depth range.例文帳に追加

微細なレジストパターンを形成でき、該レジストパターンのテーパー形状の角度を適度な角度に制御でき、また焦点深度幅に優れるレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE PHOTOSENSITIVE FILM, AND PRINTED BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、並びにそれを用いたパターン形成方法及びプリント基板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

The light diffuse reflecting film and liquid crystal display element have the pattern formed from the composition.例文帳に追加

光拡散反射膜および液晶表示素子は、前記組成物から形成されたパターンを有する。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND MANUFACTURING METHOD FOR INSULATING RESIN PATTERN AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT USING IT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた絶縁性樹脂パターンの製造方法および有機電界発光素子 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

COLORING PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION, FORMING METHOD OF COLORING PATTERN, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、 - 特許庁

Then, a composition step composites the plurality of obtained ternarized images to obtain the common pattern.例文帳に追加

そして、合成ステップは、取得された複数枚の三値化画像を合成して共通パターンを取得する。 - 特許庁

To obtain a sustained release composition capable of releasing a useful bacterium in a desired release pattern.例文帳に追加

有用菌を所望のリリースパターンで放出することができる徐放性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which can form a pattern having excellent MEEF (Mask Error Enhancement Factor) and profile.例文帳に追加

優れたＭＥＥＦ及び形状を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

NEW MULTIBRANCHED COMPOUND, NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

新規な多分岐化合物、並びにネガ型感光性組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

NOVEL COMPOUND, PREPARATION METHOD THEREOF, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁