「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vinyl chloride resin composition having a grain pattern and a woody touch.例文帳に追加

木目模様および木材と同様な触感を有する塩化ビニル系樹脂組成物を得ること。 - 特許庁

ULTRAVIOLET-CURABLE RESIN COMPOSITION, ULTRAVIOLET- CURABLE SHEET, AND FORMATION OF PATTERN BY USING SAID SHEET例文帳に追加

紫外線硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性シート及び該シートを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY SUBSTRATE USING SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CIRCUIT FORMING SUBSTRATE, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、回路形成用基板、レジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in pattern uniformity and heat resistance after a hard baking step.例文帳に追加

ハードベーク工程後のパターン均一性及び耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

To provide a resist composition that can manufacture a resist pattern of excellent CD uniformity.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition useful in treating hair growth disorders, such as female pattern alopecia.例文帳に追加

女性型脱毛症等の毛髪成長障害の治療のために有用な組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which sufficiently satisfies a focus margin(DOF) in producing a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）を十分に満足するレジスト組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法および半導体デバイス - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resin composition for producing a transparent molded product imparted with interference pattern.例文帳に追加

干渉模様が付与された透明な成形品の製造が可能な樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC-RAY OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物および該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition from which a pattern having high resolution can be obtained.例文帳に追加

解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition that gives a pattern with an excellent exposure margin.例文帳に追加

露光マージンに優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND RESIN USABLE THEREFOR, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE COMPOSITION FOR CONDUCTOR PATTERN, ELECTRONIC DEVICE USING IT, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

導体パターン用導電性組成物、それを用いた電子デバイス、及び電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY, OR UV, AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

COLD SETTING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR PATTERN CURED FILM AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

HIGH-POLYMER COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

高分子化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND INSPECTION METHOD AND PREPARING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調製方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING HEAT RESISTANT RESIN PATTERN, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、耐熱性樹脂パターンの製造方法および有機電界発光素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN AND PRINTED BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The data composition parts (12 and 28) synthesize the pattern data on display data (4) of a display part (8).例文帳に追加

前記データ合成部（１２、２８）は、表示部（８）の表示データ（４）に前記パターンデータを合成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MAKING CURED RELIEF PATTERN USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE SILICONE RESIN COMPOSITION, ITS HARDENED PRODUCT AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE-TYPE FINE PATTERN例文帳に追加

感光性シリコーン樹脂組成物及びその硬化物並びにネガ型微細パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern profile after being subjected to heat treatment.例文帳に追加

高感度で、熱処理後のパターン形状に優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

RESIN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND ACID GENERATOR COMPRISING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに化合物及びそれからなる酸発生剤 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物及びその製造方法 - 特許庁

The pattern-forming material has a layer of the composition on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、前記組成物からなる層を設けたことを特徴とするパターン形成材料。 - 特許庁

(METH)ACRYLATE DERIVATIVE HAVING LACTONE STRUCTURE, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF PATTERN例文帳に追加

ラクトン構造を有する（メタ）アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ION IMPLANTATION AND PATTERN FORMING METHOD FOR ION IMPLANTATION例文帳に追加

イオンインプランテーション用感放射線性樹脂組成物、及びイオンインプランテーション用パターン形成方法 - 特許庁

(METH)ACRYLIC ACID ESTER, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FORMED PATTERN例文帳に追加

（メタ）アクリル酸エステル、重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂、それを含むフォトレジスト組成物及びそれを用いたフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR, PRODUCTION OF POLYIMIDE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポリイミド前駆体、ポリイミドの製造法、感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION OF IRREGULAR REFLECTION PREVENTING FILM, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

乱反射防止膜組成物、これを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ITS PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

感光性樹脂組成物とそのパターン形成方法およびそれを用いた半導体素子とその製法 - 特許庁