「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

The photosensitive composition can be used to produce a desired cured pattern such as a flat panel display bulkhead pattern, a dielectric pattern, or an electrode pattern in good productivity by a lift-off method or a photolithographic method.例文帳に追加

このような感光性組成物を用いることにより、リフトオフ法やフォトリソグラフィー法により、フラットパネルディスプレイの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターンなどの所望の焼成物パターンを生産性良く形成できる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a resist pattern having a halftone pattern portion is formed using a photosensitive resist composition so that excellent residual film thickness exposure margin and dry etching resistance of the halftone pattern portion are ensured.例文帳に追加

感光性レジスト組成物を用いて、ハーフトーンパターン部を有するレジストパターンを形成する方法であって、ハーフトーンパターン部の残膜厚露光マージンと耐ドライエッチング性に優れたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive polymer composition having high sensitivity, a good pattern shape and a good rate of a residual film in the unexposed part, to produce a relief pattern using the composition and to provide high reliability electronic parts with the relief pattern.例文帳に追加

感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物を用いたレリーフパターンの製造法、該レリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a resist pattern which sufficiently satisfies MEEF, LWR and CDU and pattern collapse resistance properties, and to provide a method for forming the resist pattern using the radiation sensitive resin composition.例文帳に追加

ＭＥＥＦ、ＬＷＲ、ＣＤＵ及び耐パターン倒れ性を十分に満足するレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物並びにこの感放射線性樹脂組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving the circularity of a pattern and allowing formation of a pattern with a good focus latitude, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターンの真円性改善に効果が有り、フォーカス余裕度が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Then a composition for a light shielding layer is applied all over the surface of the pattern forming substrate where the wettable pattern is formed so as to deposit and fix the composition for the light shielding layer on the lyophilic region only to form the light shielding layer pattern.例文帳に追加

そして、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布し、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着、固着させて、遮光層パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, from which a pattern excellent in a pattern profile, roughness performance and over exposure margin can be formed, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The composition determination section 122 calculates the degree of association between the composition and the feature pattern as an evaluation value, and determines the composition of an input image based on the evaluation value.例文帳に追加

構図決定部１２２は、各構図と特徴パターンとの間の関連度を評価値として算出し、前記評価値に基づいて入力画像の構図を決定する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, COMPOUND USED FOR SYNTHESIS OF THE RESIN, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To obtain a compound usable as a resist composition, a positive type resist composition containing the compound and to provide a method for forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用として利用可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A photosensitive composition comprising a chemical compound of a specific structure, a pattern forming method using the photosensitive composition, and a chemical compound of a specific structure constituting the photosensitive composition are disclosed.例文帳に追加

特定構造の化合物を含有する感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける特定構造の化合物。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of pattern formation using the composition, the positive resist composition improved in performances relating to a pattern profile, pattern falling and scum and excellent in a receding contact angle with an immersion liquid and water following-up property.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming an excellent relief pattern with low residual stress at a low curing temperature using an alkali developable photosensitive relief pattern forming material, a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

アルカリ現像性の感光性レリーフパターン形成材料を用いて、低キュア温度で残留応力が低く、優れたレリーフパターンを形成する、感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good sensitivity, developability and adhesion and enabling a high-definition permanent pattern to be efficiently formed, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

感度、現像性、及び密着性が良好で、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good sensitivity, developability and adhesion and capable of efficiently forming a high-definition permanent pattern, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and a printed circuit board on which a pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

感度、現像性、及び密着性が良好で、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

A composition control means 17 controls the pattern information composition means 13 so as to vary the position relation of the original image data with respect to the pattern information 5 and combine the composite image data again when the pattern information detection means 15 does not detect the pattern information 5.例文帳に追加

合成制御手段１７は、パターン情報検知手段１５がそのパターン情報５を検知しないとき、そのパターン情報５に対する原稿画像データの位置関係を可変して合成画像データを再合成するようパターン情報合成手段１３を制御する。 - 特許庁

To provide an insulator ink resin composition that can help form a resist pattern by simple printing method, wherein the resist pattern is excellent in storage stability, ionic migration resistance, visibility in a thin film, and insulation reliability; to provide the resist pattern formed by using the insulator ink resin composition; and to provide a method of forming the resist pattern.例文帳に追加

保存安定性、耐イオンマイグレーション、薄膜での視認性、及び絶縁信頼性に優れるレジストパターンを簡便な印刷法により形成することのできる絶縁体インク樹脂組成物と、この絶縁体インク樹脂組成物を用いたレジストパターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having high sensitivity and very high storage stability and capable of efficiently forming a pattern with high definition, to provide a pattern forming material and a photosensitive laminate in which the photosensitive composition has been laminated, and to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The radiation-curable composition is used for the method of manufacturing the rugged pattern sheet by making a rugged pattern die in press contact with a sheet W, in which the liquid radiation-curable composition is applied on its surface, and transferring the rugged pattern of the rugged pattern die to the surface of the sheet.例文帳に追加

表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition used for forming grain patterns and giving molded products each having the grain pattern such as a cross grain pattern or a straight grain pattern, a smooth appearance and a matte wood-like touch, and to provide the grain pattern molded product using the resin composition and having excellent weather resistance.例文帳に追加

板目模様，柾目模様等の木目模様を有し、外観が平滑で、かつ、艶消し状の木質感を有する成形品が得られる木目模様形成熱可塑性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を用いた耐候性に優れた木目模様成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a good resist pattern in a shrinking process for making a resist pattern narrow by carrying out a treatment such as heating after forming the resist pattern, and to provide a layered product using the resist composition and a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンを形成した後に加熱等の処理を行うことにより当該レジストパターンを狭小させるシュリンクプロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いた積層体及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of pattern formation with the same, and to provide a positive resist composition improved in various performances such as pattern profile, pattern collapse and scumming and excellent also in backward contact angle of an immersion liquid and water follow-up properties, and also to provide a method of pattern formation.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming an excellent relief pattern with low residual stress at a low cure temperature using an alkali developable photosensitive relief pattern forming material, a method for manufacturing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

アルカリ現像性の感光性レリーフパターン形成材料を用いて、低キュア温度で残留応力が低く、優れたレリーフパターンを形成する、感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high solubility in a safe solvent, high sensitivity and giving a favorable resist pattern profile, and to provide a method for manufacturing the composition and a method for forming a resist pattern using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、良好なレジストパターン形状を与える感放射線性組成物、その製造方法および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion exposure, the composition which improves reproducibility of a mask shape, pattern collapse and exposure latitude when the resist is used for liquid immersion exposure and which shows excellent follow-up property in liquid immersion liquid, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

液浸露光に適用した場合のマスク形状再現性、パターン倒れ及び露光ラチチュードを改良し、液浸液追随性に優れた液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for EUV excellent in lithographic characteristics and a pattern profile in EUV lithography, and to provide a production method of the resist composition for EUV and a method for forming a resist pattern using the resist composition for EUV.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィーにおいて、リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたＥＵＶ用レジスト組成物、該ＥＵＶ用レジスト組成物の製造方法、および該ＥＵＶ用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which enables to form a resist pattern of good profile, a resist pattern forming method using the negative resist composition, and a polymer compound useful as a resin component used in the negative resist composition.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition having good resolution of a pattern obtained therefrom, and to provide a salt and an acid generator for obtaining the composition.例文帳に追加

得られるパターンの解像度が良好なレジスト組成物、これを実現する塩及び酸発生剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that can suppress the occurrence of a water mark during immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND POSITIVE RESIST COMPOSITION USING THE HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物および該高分子化合物を用いたポジ型レジスト組成物 - 特許庁

To provide a polymer composition for forming a nanometer order fine pattern, and to provide a process for performing a fine processing with the polymer composition.例文帳に追加

ナノオーダーの微細パターンを形成する重合体組成物及び該重合体組成物により微細加工を行う工程を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, AND PERMANENT PATTERN, FORMATION METHOD THEREFOR AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン、その形成方法及びプリント基板 - 特許庁

The cyclic compound has a specific structure and the radiation-sensitive composition includes the compound, and the resist pattern-forming method uses the composition.例文帳に追加

特定構造を有する環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of further improving a mask error enhancement factor (MEEF) of a pattern obtained from the composition.例文帳に追加

得られるパターンのマスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）をより改善することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in transparency, heat resistance, developability and flatness and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れた感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition excellent in development resistance, and to provide a pattern forming method using the photocurable resin composition.例文帳に追加

現像耐性に優れた光硬化性樹脂組成物、及び該光硬化性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE BASE GENERATOR, ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE BASE GENERATOR COMPOSITION, BASE REACTIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性エネルギー線塩基発生剤、感活性エネルギー線塩基発生剤組成物、塩基反応性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

METAL INK COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING METAL WIRING USING THE SAME AND ELECTROCONDUCTIVE PATTERN FORMED BY THE METAL INK COMPOSITION例文帳に追加

金属インキ組成物及びこれを用いる金属配線形成方法並びに該金属インキ組成物で形成される導電性パターン - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR-CONTAINING RESIN COMPOSITION, AND POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME AND PATTERN FORMATION OF THE SAME例文帳に追加

ポリイミド前駆体を含む樹脂組成物とポジ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた電子装置とそのパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE METAL NANOPARTICLE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性金属ナノ粒子およびこれを含む感光性組成物、ならびにその感光性組成物を用いた導電性パターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition which reduces LER and is excellent in resolution and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＬＥＲの低減、解像性に優れたポジ型レジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent positive resist composition that is excellent in line edge roughness, prevents a pattern falling and does not cause the pattern falling even if a focus and exposure particularly in a fine pattern are varied.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing a relief pattern and a polyimide pattern, a coating film of the photosensitive composition or the photosensitive material is irradiated with active rays along a pattern and developed to remove a portion not irradiated.例文帳に追加

また、レリーフパターン及びポリイミドパターンの製造方法としては、感光性組成物又は感光材料の塗膜に活性光線をパターン状に照射し、未照射部を現像除去する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having high sensitivity, giving a high contrast pattern, capable of shortening a development time and excellent in the resolution, adhesiveness and pattern shape of a minute pattern.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られると同時に、現像時間を短縮でき、微細パターンの解像性及び接着性、パターン形状に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁