「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive photosensitive composition having excellent exposure latitude and little dependence on the pattern density.例文帳に追加

露光ラチチュードに優れ、疎密依存性が小さいポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ORGANIC ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを利用したフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT例文帳に追加

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition from which a pattern having excellent exposure margin can be obtained.例文帳に追加

優れた露光マージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物及びそれを用いたレリ−フパターンの製造法、電子部品。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR PRODUCING THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND SOLDERING RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたソルダーレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in sensitivity, resolution, LER (line edge roughness), pattern features and outgas properties.例文帳に追加

感度、解像度、ＬＥＲ、パターン形状、アウトガスに優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME TO FORM BLACK PATTERN例文帳に追加

光硬化性組成物及びそれを用いて黒色パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE WITH RESIST FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

TOP COATING COMPOSITION FOR PREVENTING AMINE CONTAMINATION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

アミン汚染防止用トップコーティング組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST CROSS-LINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST CROSSLINKER, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING SILICONE COMPOUND, SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素ケイ素化合物、シリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ARTICLE例文帳に追加

光塩基発生剤、感光性ポリイミド樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁

GLASS COMPOSITION FOR SILVER PASTE, PHOTOSENSITIVE SILVER PASTE USING THE SAME AND ELECTRODE PATTERN例文帳に追加

銀ペースト用ガラス組成物及びそれを用いた感光性銀ペースト及び電極パターン - 特許庁

COMPOSITION OF INTERMEDIATE LAYER MATERIAL FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

多層レジストプロセス用中間層材料組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND PRODUCTION OF PATTERN THEREWITH, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

POLYIMIDE, PRECURSOR THEREOF, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポリイミド及びその前駆体、感光性樹脂組成物、パターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

METHOD FOR SYNTHESIZING POLYNAPHTHYLENE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポリナフチレンの合成方法、感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE ORGANIC ANTIREFLECTION FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性有機反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, ITS PREPARATION AND SEMICONDUCTOR PATTERN FORMING METHOD UTILIZING SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物、その製造方法及びそれを利用した半導体パターンの形成方法 - 特許庁

AMIDE DERIVATIVE, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アミド誘導体、重合体、化学増幅型感光性樹脂組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING UPPER ANTIREFLECTION FILM, UPPER ANTIREFLECTION FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層反射防止膜形成用組成物、上層反射防止膜及びパターン形成方法 - 特許庁

MULTIOXYGEN-CONTAINING COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

多酸素含有化合物、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR, LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ポリイミド前駆体、感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び半導体装置 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN AND POLYMERIZABLE COMPOUND, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法 - 特許庁

TOP COATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト用のトップコーティング組成物及びそれを利用したフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, MULTILAYER RESIST MATERIAL USING THE SAME AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、それを用いた多層レジスト材料及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE PATTERNING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FILM BY USING THE SAME例文帳に追加

導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND PROCESS FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE COMPOSITION FOR PHOTO-NANOIMPRINT LITHOGRAPHY AND MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE WITH PATTERN例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物、及びパターン付き基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE VISIBLE LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition having excellent sensitivity and resolution and giving a favorable pattern profile.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更にはパターン形状も良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それに用いる化合物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR EUV LIGHT EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ＥＵＶ光露光用レジスト組成物並びにこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁