「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

樹脂組成物、並びに、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

POSITIVE ULTRAVIOLET SENSITIVE RESIN COMPOSITION ND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁

DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a composition for the formation of a resist protective film and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN AND COLOR FILTER FORMED USING THE SAME例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物ならびにそれを用いて形成されたパターン及びカラーフィルタ - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

POLYMER, ITS PRODUCTION METHOD, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物及びその製造方法並びに感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

COLORED COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER, COLOR DISPLAY ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

着色組成物、着色パターン、カラーフィルタ、カラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法 - 特許庁

COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a pattern having an excellent focus margin can be obtained.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOCURING COMPOSITION FOR OPTICAL NANO IMPRINT LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD EMPLOYING IT例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND AND QUENCHER CONSISTING OF THE SAME COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー - 特許庁

ULTRAVIOLET SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

INORGANIC PARTICLE-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND INORGANIC PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

無機粒子含有感光性樹脂組成物、感光性フィルムおよび無機パターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION CONTAINING HEAT RESISTANT RESIN PRECURSOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

耐熱性樹脂前駆体を含む組成物とその組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE COMPOSITION AND PLASMA DISPLAY PANEL WITH BLACK PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性組成物及びそれを用いて黒色パターンを形成したプラズマディスプレイパネル - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、半導体装置及び電子デバイス - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, IMMERSION EXPOSURE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

含フッ素化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

感放射線組成物およびパタン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

CHEMICAL COMPOUND FOR PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING RESIN SOLUTION FOR PHOTORESIST, PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

POLYIMIDE-BASED PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTING FILM例文帳に追加

ポリイミド系光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

COLORANT COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING COLOR FILTER DEFECT例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD, POLYMER AND COMPOUND OF THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液晶表示素子製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法 - 特許庁

IMAGE FORMING METHOD USING LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND LIQUID APPLYING DEVICE例文帳に追加

液体組成物を用いた画像形成方法、パターン形成方法及び液体付与装置 - 特許庁

RESIST POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN FOR PRODUCTION OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及び液晶表示素子製造用レジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern having an excellent shape.例文帳に追加

形状に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity and improved edge roughness of a pattern.例文帳に追加

高感度で、パターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

ONE-COMPONENT RESIST COMPOSITION FOR INK JET AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN USING IT例文帳に追加

インクジェット用一液型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING NEGATIVE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition enabling formation of a pattern with excellent mechanical characteristics.例文帳に追加

機械特性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁