「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The repair agent composition for a lost pattern or the adhesive composition for a lost pattern consists of organic polymer particles and a binder resin for sticking the particles.例文帳に追加

消失模型用補修剤組成物または消失模型用接着剤組成物は、有機ポリマー粒子と同粒子を固着するためのバインダー樹脂とからなる。 - 特許庁

ACID TRANSFER RESIN FILM-FORMING COMPOSITION, ACID TRANSFER RESIN FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

酸転写樹脂膜形成用組成物、酸転写樹脂膜及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND PHOTOBASE GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および光塩基発生剤 - 特許庁

OVERCOATING COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト用オーバーコーティング組成物及びこれを利用したフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND IN-PLANE PRINTING PROCESS METHOD USING THE SAME例文帳に追加

パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION COATING, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in PEB temperature dependence, line edge roughness, exposure latitude and pattern profile, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度依存性、ラインエッジラフネス、露光ラチチュード、及びパターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR PRODUCTION OF SYSTEM LCD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF PRODUCING RESIN PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた樹脂パターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern with an excellent shape.例文帳に追加

形状の優れたレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition that can obtain a pattern with excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSETTING GLASS PASTE COMPOSITION AND FIRED MATERIAL PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

光硬化性ガラスペ—スト組成物及びそれを用いた焼成物パタ—ン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、レジストパターンの形成方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法および電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

パタン形成方法および半導体装置の製造方法および感光性組成物 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND AND RESIN例文帳に追加

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法並びに新規化合物及び樹脂 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING FLUORESCENT PATTERN AND PRODUCTION OF BACK-PLATE OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加

蛍光体パターン形成用組成物及びプラズマディスプレイ背面板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, FLEXIBLE SUBSTRATE AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品 - 特許庁

POLYMERIC COMPOUND, ACID GENERATOR, POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、酸発生剤、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN-FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POLYIMIDE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ポリイミド組成物及びそれを用いたポリイミドパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN OF RESIN COMPOSITION HAVING SULFONAMIDE STRUCTURE BY QUANTUM BEAM例文帳に追加

量子ビームによるスルホンアミド構造を有する樹脂組成物のパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING BASE BLOCKING ANTIREFLECTION FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩基遮断性反射防止膜形成用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

SURFACE ANTIREFLECTION FILM FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

表面反射防止膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

UNSATURATED MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

不飽和単量体、重合体、化学増幅レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

The dipropylene glycol dialkyl ether is preferably used for a solvent composition for forming a pattern of an electronic parts, and in particular for a solvent composition for color filter pattern printing.例文帳に追加

前記ジプロピレングリコールジアルキルエーテルは電子部品パターン形成用溶剤組成物、特に、カラーフィルタパターン印刷用溶剤組成物として使用することが好ましい。 - 特許庁

ORGANIC REFLECTION PREVENTION FILM COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN PHOTORESIST USING THE SAME例文帳に追加

有機反射防止膜組成物及びこれを用いたフォトレジストのパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR PHOTORESIST PROTECTIVE FILM, PHOTORESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

フォトレジスト保護膜用組成物、フォトレジスト保護膜およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

LOST-WAX COMPOSITION FOR PRECISION CASTING AND METHOD FOR MAKING PATTERN FOR PRECISION CASTING例文帳に追加

精密鋳造用ロストワックス組成物及び精密鋳造用模型の作製方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTORESIST FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルム、レジストパターン形成方法 - 特許庁

SULFONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

スルホニウム塩化合物及びレジスト組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition capable of forming a precise conductor wiring pattern.例文帳に追加

精密な導体配線パターンを形成できるエポキシ樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

POLYBENZOXAZOLE, ITS POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール及びそのポジ型感光性樹脂組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁

INTERMEDIATE LAYER COMPOSITION FOR MULTILAYER RESIST PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

多層レジストプロセス用中間層組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁