「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition for forming a fine resist pattern in good shape and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method etc., the plastic mold having a prescribed pattern is pushed to the visible radiation curable resin composition to mold the prescribed pattern, and the resin composition is cured by being irradiated with light.例文帳に追加

所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern capable of easily manufacturing a fine pattern having excellent line edge roughness with high mass-productivity, and to provide a method for forming a fine pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れた微細なパターンを簡便かつ高い量産性で製造できる微細パターン形成用の樹脂組成物と微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a black resist suitable for a thick film having good pattern dimensional stability, development margin, pattern adhesion and sharpness of pattern edge shape.例文帳に追加

パターン寸法安定性、現像マージン、パターン密着性、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好な厚膜に適したブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method by which reduction in film thickness of a resist pattern is suppressed, and a negative resist composition used in the resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

In a detector 100, a cross area pattern setting unit 106 sequentially sets a composition pattern of a first cross area pattern group for each pair of unit images.例文帳に追加

検出装置１００において、交差領域パターン設定部１０６が、第１の交差領域パターングループの構成パターンを各単位画像ペアに対して順次設定する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME例文帳に追加

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NONIONIC PHOTOSENSITIVE COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in storage stability and giving a pattern of an inverted taper shape.例文帳に追加

保存安定性に優れた、逆テーパー形状パターンを与えるレジスト組成物を得る。 - 特許庁

SILICONE RUBBER COMPOSITION AND ORIGINAL PLATE OF DIRECT PATTERN FORMING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME例文帳に追加

シリコーンゴム組成物およびこれを用いた直描型水なし平版印刷版原版 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition enabling formation of a pattern with excellent mechanical characteristics.例文帳に追加

機械特性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

COLORING COMPOSITION FOR CORRECTING COLOR PATTERN DEFECT AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF COLOR FILTER例文帳に追加

着色パターン欠陥修正用着色組成物およびカラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a new polymer compound and a resist composition and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

新規な高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

PHOTO-SETTING SOLVENTLESS PAINTING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性無溶剤型ペインティング組成物およびそれを用いた模様形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, ITS PRODUCTION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びその製造法、パターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

WATER-REPELLENT COMPOSITION, WATER-REPELLENT THIN FILM AND THIN FILM HAVING WATER-REPELLENT HYDROPHILIC PATTERN例文帳に追加

撥水性組成物、撥水性薄膜および撥水性親水性パターンを有する薄膜 - 特許庁

RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

樹脂組成物、並びに、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

POSITIVE ULTRAVIOLET SENSITIVE RESIN COMPOSITION ND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING FINE PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

ACTIVATION ENERGY LINE CURABLE SILICONE COMPOSITION AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物及びそれを用いたネガ型パターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a pattern having an excellent focus margin can be obtained.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING A MICRO STRUCTURE AND OPTICAL PATTERN FORMING SACRIFICIAL FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加

マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCING PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PART AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

印刷インキ組成物、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

METHYLENEDIOXOLANE COMPOUND, ACTINIC RAY COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

メチレンジオキソラン化合物、それを用いた活性エネルギー線組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND PERMANENT RESIST例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジスト - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURING COMPOSITION FOR OPTICAL NANO IMPRINT LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD EMPLOYING IT例文帳に追加

光ナノインプリントリソグラフィ用光硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁