「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive resist composition for forming a fine resist pattern in good shape and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンを良好な形状で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern forming method etc., the plastic mold having a prescribed pattern is pushed to the visible radiation curable resin composition to mold the prescribed pattern, and the resin composition is cured by being irradiated with light.例文帳に追加

所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having preferable resolution even for a contact hole pattern and a trench pattern and low dependence on the pattern density in the manufacture of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターンやトレンチパターンについても良好な解像性を有し、疎密依存性も小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a black resist suitable for a thick film having good pattern dimensional stability, development margin, pattern adhesion and sharpness of pattern edge shape.例文帳に追加

パターン寸法安定性、現像マージン、パターン密着性、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好な厚膜に適したブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new resist pattern forming method by which reduction in film thickness of a resist pattern is suppressed, and a negative resist composition used in the resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膜減りが低減された新規なレジストパターン形成方法、および当該レジストパターン形成方法に用いられるネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern capable of easily manufacturing a fine pattern having excellent line edge roughness with high mass-productivity, and to provide a method for forming a fine pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れた微細なパターンを簡便かつ高い量産性で製造できる微細パターン形成用の樹脂組成物と微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

In a detector 100, a cross area pattern setting unit 106 sequentially sets a composition pattern of a first cross area pattern group for each pair of unit images.例文帳に追加

検出装置１００において、交差領域パターン設定部１０６が、第１の交差領域パターングループの構成パターンを各単位画像ペアに対して順次設定する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びレジスト膜 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE MADE BY USING THE SAME AND METHOD OF FORMING NEGATIVE-TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF PIXEL PATTERN, COLOR FILTER, DISPLAY ELEMENT AND COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

画素パターンの形成方法、カラーフィルタ、表示素子及び着色感放射線性組成物 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR MANUFACTURING METAL PATTERN MATERIAL, AND NOVEL POLYMER例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の製造方法、および、新規ポリマー - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE BASE MATERIAL, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED PHOTORESIST COMPOSITION, RESIST LAYER LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ホトレジスト組成物、レジスト層積層体およびレジストパタ−ン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LAYER TO BE PLATED, METHOD FOR PRODUCING METAL PATTERN MATERIAL, AND NEW POLYMER例文帳に追加

被めっき層形成用組成物、金属パターン材料の作製方法、及び、新規ポリマー - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR PROCESSING BOARD例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

VISIBLE LIGHT SENSITIVE POSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型可視光感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ—ン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THIN FILM RESIST PATTERN FOR OBLIQUE IMPLANTATION PROCESS例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物および傾斜インプランテーションプロセス用薄膜レジストパターンの形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感放射線性組成物、化合物、化合物の製造方法およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCING PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING A MICRO STRUCTURE AND OPTICAL PATTERN FORMING SACRIFICIAL FILM FORMING COMPOSITION例文帳に追加

マイクロ構造体の製造方法及び光パターン形成性犠牲膜形成用組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物およびその製造方法、酸発生剤 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC PART AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

印刷インキ組成物、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

METHYLENEDIOXOLANE COMPOUND, ACTINIC RAY COMPOSITION BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

メチレンジオキソラン化合物、それを用いた活性エネルギー線組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND PERMANENT RESIST例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジスト - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE GLASS PASTE COMPOSITION AND BAKED MATTER PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性ガラスペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERN CURED FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

To provide a lift-off positive resist composition capable of forming a fine lift-off pattern.例文帳に追加

微細なリフトオフ用パターンを形成できるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

NONIONIC PHOTOSENSITIVE COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in storage stability and giving a pattern of an inverted taper shape.例文帳に追加

保存安定性に優れた、逆テーパー形状パターンを与えるレジスト組成物を得る。 - 特許庁

SILICONE RUBBER COMPOSITION AND ORIGINAL PLATE OF DIRECT PATTERN FORMING WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE USING THE SAME例文帳に追加

シリコーンゴム組成物およびこれを用いた直描型水なし平版印刷版原版 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、およびこれを用いた物品、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATES例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及び基板の加工方法 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity and excellent in pattern shape.例文帳に追加

高感度かつパターン形状の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

感光性化合物、感光性組成物、レジストパターンの形成方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CURED PATTERN OF PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

感光硬化型樹脂組成物の硬化パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic properties and resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, ITS PRODUCTION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びその製造法、パターンの製造法並びに電子部品 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁