「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

SACRIFICIAL FILM FORMING COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, SACRIFICIAL FILM AND METHOD FOR REMOVING THE SAME例文帳に追加

犠牲膜形成用組成物、パターン形成方法、犠牲膜及びその除去方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR INJECTION NOZZLE COATING METHOD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

吐出ノズル式塗布法用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン製造方法並びに電子部品 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition producing a pattern excellent in resolution.例文帳に追加

解像度に優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that forms a pattern having excellent heat resistance and light transmitability, and also provide a pattern formed by the photosensitive resin composition and a display.例文帳に追加

耐熱光透過率に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン及び表示装置を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING IT, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

感光性組成物、これを用いたパターン形成方法、半導体素子の製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND RELIEF PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、その製造方法、及びレリーフパターンの形成方法 - 特許庁

PIGMENT-DISPERSED RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND COLORED PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND POSITIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION USED FOR THE SAME例文帳に追加

レジストパターン形成方法及びそれに用いるポジ型感放射線性樹脂組成物 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD OF PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD OF PRODUCING PRINTED-WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a novel resin, a resist composition using the resin, and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

新規な樹脂、該樹脂を用いたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A pretreatment composition, including a basic compound can be also applied prior to the application of the composition for fine pattern formation.例文帳に追加

微細パターン形成用組成物の塗布の前に塩基性化合物を含む前処理組成物を塗布することもできる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for obtaining a pattern with high sensitivity, and to provide a display device or the like using the composition.例文帳に追加

高感度でパターンを得られる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for immersion exposure and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a paste composition capable of matching pattern working by photolithography and obtaining a resin composition of high reflectance.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによるパターン加工に対応でき、高反射率の樹脂組成物が得られるペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide precursor resin composition having high sensitivity and high resolution, a method for producing pattern using the composition, and electronic parts.例文帳に追加

高感度及び高解像度を示す感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品。 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SYSTEM LCD, METHOD FOR PREPARING THE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

システムＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物、該ポジ型ホトレジスト組成物の調製方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIN FOR POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION USING THE SAME, LAMINATE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたポジ型レジスト組成物、積層体並びにレジストパターンの形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, BOARD WITH PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PREPARING THE PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法およびポジ型ホトレジスト組成物の製造方法 - 特許庁

NEW SULFONIUM COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE COMPOUND AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

新規なスルホニウム化合物、該化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polymer compound, positive type resist composition and resist pattern forming method using the positive type resist composition.例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、並びに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING ALICYCLIC UNSATURATED COMPOUND, POLYMER THEREOF, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

フッ素含有脂環式不飽和化合物、重合体、化学増幅レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition, a method for forming a photoresist pattern using the composition, a patterned resin composition, and a method for forming a photolithography.例文帳に追加

フォトレジスト組成物、該組成物を使用したフォトレジストパターンを形成する方法、パターン化樹脂組成物及びフォトリソグラフィーの形成方法を提供する - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide: a negative radiation-sensitive composition capable of forming a cured pattern having a low relative dielectric constant; a cured pattern forming method using the same; and a cured pattern obtained by the cured pattern forming method.例文帳に追加

低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法および該硬化パターン形成方法により得られる硬化パターンの提供。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of forming a permanent pattern having excellent sensitivity, resolution, resistance to electroless gold plating and storage stability, and a printed circuit board on which the permanent pattern is formed.例文帳に追加

感度、解像度、無電解金めっき耐性、及び保存安定性に優れた、永久パターンが形成されるプリント基板。 - 特許庁

DOUBLE-COLOR AMORPHOUS COLORED PARTICLE, MULTICOLORED PATTERN COATING MATERIAL COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND MULTICOLORED PATTERN COATING FILM FORMED THEREBY例文帳に追加

複色不定形着色粒子、これを含有する多彩模様塗料組成物とそれより形成される多彩模様塗膜 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING COLOR PATTERN, METHOD FOR FORMING COLOR PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

着色パターン形成用組成物、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a resist composition which can produce a resist pattern with a great focus margin and ensures good configuration of a resist pattern obtained therefrom.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンでレジストパターンを製造でき、得られるレジストパターンの形状が良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, MICRO DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND CROSSLINKING RESIN COMPOSITION例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、薄膜パターンの形成方法、マイクロデバイス及びその製造方法、並びに架橋性樹脂組成物 - 特許庁