「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern material used for the artificial marble, which is compounded in this resin composition, is obtained by a process wherein one or more kinds of other pattern materials are added to and compounded in a pattern composition for the artificial marble, and the composition thus prepared is molded and cured and then crushed and classified.例文帳に追加

人造大理石成形用樹脂組成物に配合される人造大理石用の柄材として、人造大理石用の柄材組成物に１種類以上の別の柄材を添加配合して成形硬化させたものを粉砕分級して得られた柄材を使用する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in lithographic characteristics and a pattern profile, a method for forming a resist pattern using the resist composition, a novel compound useful as an acid generator for the resist composition, and an acid generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。 - 特許庁

To provide a resin composition for pattern reverse, the resin composition capable of being suitably embedded in a resist pattern formed on a substrate without mixing the resist pattern and showing excellent durability against oxygen ashing and storage stability, and to provide a method for forming a reversed pattern.例文帳に追加

基板に形成されたレジストパターンとミキシングすることがなく、且つこのパターン間に良好に埋め込むことができると共に、酸素アッシング耐性及び保存安定性に優れるパターン反転用樹脂組成物及び反転パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be suitably used when ArF excimer laser light is used as an exposure light source, excels in line edge roughness, and causes neither pattern collapse nor problem of development defects, and a pattern forming method using the same, and to further provide a positive resist composition excellent in pattern profile and exposure latitude and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern having high sensitivity and resolution, small line width roughness (LWR), and a superior exposure latitude (EL) and pattern form is formed, to provide a pattern formed by the pattern forming method, and to provide a chemically amplified resist composition used in the pattern forming method, and a resist film formed of the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力が高く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、露光ラチチュード（ＥＬ）及びパターン形状に優れたパターンを形成できるパターン形成方法、該パターン形成方法から形成されたパターン、該パターン形成方法に用いられる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for highly finely and efficiently forming a pattern such as a wiring pattern and a solder resist pattern by having high sensitivity and very high time passage stability of sensitivity, and to provide a pattern forming material having a photosensitive layer formed by the photosensitive composition, a photosensitive laminate, a pattern forming apparatus, and a pattern forming method.例文帳に追加

高感度であるとともに、感度の経時安定性が極めて高く、配線パターン及びソルダーレジストパターン等のパターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithographic characteristics, and a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A radiation-sensitive composition and a method for using the composition to reduce the probability of pattern collapse are provided.例文帳に追加

パターンのつぶれの確率を低減するための放射に敏感な組成物及び組成物を使用するための方法は、提供される。 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, NEGATIVE PHOTOSENSITIVE DRY FILM, MATERIAL OBTAINED BY USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性ドライフィルム、その組成物を使用して得られる材料及びパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POSITIVE PHOTOSENSITIVE DRY FILM, MATERIAL OBTAINED BY USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、その組成物を使用して得られる材料及びパターン形成方法 - 特許庁

COLORED COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING COLORED COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER, COLOR DISPLAY ELEMENT, AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

着色組成物、着色組成物の製造方法、着色パターン、カラーフィルタ、カラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、この組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

CURING PROMOTER, THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

硬化促進剤、熱硬化性樹脂組成物、感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD AND PRODUCTION OF X-RAY MASK USING THAT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法およびＸ線マスクの製造方法 - 特許庁

The composition of this invention is particularly useful as an underlayer material in the pattern forming process of two-layer, three-layer, four-layer or more multilayer composition.例文帳に追加

本発明の組成物は、２、３、４又はより多層のパターン形成プロセスに於ける基層材料として特に有用である。 - 特許庁

PHOTOACID GENERATOR, COPOLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION例文帳に追加

光酸発生剤、共重合体、化学増幅型レジスト組成物、および化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

The photoresist composition containing such a polymer, a substrate coated with the photoresist composition and the method of forming a photolithographic pattern are disclosed.例文帳に追加

このポリマーを含むフォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a resist pattern of good shape with high resolution and a resist pattern forming method.例文帳に追加

高い解像性で、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resist pattern having small LWR (line width roughness) and excellent pattern shape.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLORED PATTERN, COLORED PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLORED PATTERN, COLORED PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resist pattern having a small LWR and an excellent pattern form.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which generates little foreign matters and enables to form a good pattern and a pattern forming method.例文帳に追加

異物の発生が少なく、良好なパターンを形成できるレジスト組成物及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is capable of forming a resist pattern that has low LWR and excellent pattern shape.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

RADIATION CURABLE COMPOSITION, ITS STORING METHOD, CURED FILM FORMING METHOD, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN USAGE, ELECTRONIC COMPONENT, AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加

放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of attaining suppression of swelling and high resolution of a resist pattern, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジストパターンの膨潤の抑制と高解像性とを達成可能なネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION, COLORED PATTERN FORMING METHOD, COLORED PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a resist composition showing good LWR (line width roughness), a pattern profile and extremely superior performance in pattern-falling resistance.例文帳に追加

良好なＬＷＲとパターンプロファイル形状、及びパターン倒れ耐性において極めて優れた性能を示すレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition exhibiting excellent resolution with which a resist pattern having a good shape is formed, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

解像性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern in which line edge roughness (LER) is reduced and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition causing little pattern collapse for the formation of a fine pattern and having low dependence on the mask covering rate.例文帳に追加

微細パターンの形成においても、パターン倒れの発生が少ない、マスク被覆率依存性が小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING METAL FILM, METHOD FOR FORMING METAL PATTERN, METAL FILM, METAL PATTERN, NEW COPOLYMER AND COMPOSITION FOR FORMING POLYMER LAYER例文帳に追加

金属膜形成方法、金属パターン形成方法、金属膜、金属パターン、新規共重合ポリマー、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁

COLORED CURABLE RESIN COMPOSITION, COLORED PATTERN FORMING METHOD, COLORED PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

着色硬化性樹脂組成物、着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a resist pattern excellent in shape and etching resistance, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

形状およびエッチング耐性に優れたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is excellent in resolution and has good lithography properties and a good pattern profile and a method for forming a resist pattern and a polymer compound useful as the resist composition.例文帳に追加

解像性に優れ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL COMPRISING THE SAME, METHOD OF FORMING PATTERN, ARTICLE USING THE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BASE-GENERATING AGENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物からなるパターン形成用材料、パターン形成方法、及び当該感光性樹脂組成物を用いた物品、並びに塩基発生剤 - 特許庁

To provide a photosensitive composition excellent in dimensional stability, a pattern forming material having a photosensitive layer formed of the photosensitive composition, a photosensitive laminate, and a pattern forming method.例文帳に追加

寸法安定性に優れた感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in sensitivity, stability with time, resolution, roughness characteristics, a pattern profile and outgassing characteristics, and to provide a method for forming a pattern by using the resin composition.例文帳に追加

感度、経時安定性、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れたレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition that forms a pattern having an excellent shape and good line edge roughness and shape, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

優れた形状、良好なラインエッジラフネス及び形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターンの形成方法等を提供することにある。 - 特許庁

There are also provided a spinless coating method using the composition, a method for fabricating an organic film pattern, and a liquid crystal display including an organic film pattern fabricated by the composition.例文帳に追加

この組成物を使用したスピンレスコーティング方法と有機膜パターンの形成方法及びこの組成物により製造された有機膜パターンを含む液晶表示装置も提供される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a high resolution resist pattern with good rectangularity and reduced LER, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

矩形性が良好で、ＬＥＲが低減された、高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁