「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性塗料組成物、ポジ型感光性樹脂の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING POLYMER FOR RESIST, POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN例文帳に追加

レジスト用重合体の製造方法、レジスト用重合体、レジスト組成物、およびパターン製造方法 - 特許庁

RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint excellent in pattern accuracy and also high in the elasticity recovery ratio.例文帳に追加

パターン精度に優れ、かつ、弾性回復率が高いナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTERMEDIATE LAYER CONTAINING SILYLPHENYLENE POLYMER AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

シリルフェニレン系ポリマー含有中間層形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加

感光性重合体組成物、並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMING COMPOSITION, IMAGE RECORDING MATERIAL USING SAME AND PRODUCTION OF RECORDING MATERIAL例文帳に追加

パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

COLORED CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLOR PATTERN, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

着色硬化性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition capable of giving a pattern having ≤50 nm resolution with good sensitivity.例文帳に追加

５０ｎｍ以下の解像度のパターンを感度よく得ることができる感光性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography, a resist pattern forming method and a fluorine contained copolymer.例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING CATHODE RAY TUBE例文帳に追加

感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び陰極線管の製造方法 - 特許庁

This curable composition is useful for forming a colored pattern or a black matrix of a color filter.例文帳に追加

この硬化性組成物は、カラーフィルタの着色パターンやブラックマトリックスの形成に有用である。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER-LAYER FILM, METHOD OF FORMING THE RESIST LOWER-LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition which ensures improved resolution and line edge roughness (LER) of a pattern.例文帳に追加

パターンの解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition forming a precise pattern with a low resistance.例文帳に追加

抵抗値が低くかつ高精細なパターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

COPOLYMER FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in size controllability, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

寸法制御性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive composition suitable for forming a fine pattern.例文帳に追加

形成パターンの微細化の要請に適合したアルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMING METHOD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHENOLIC RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

フェノール樹脂組成物並びにこれを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND PRODUCTION METHOD OF THICK-FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of obtaining a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

解像性のよいパターンを得ることができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINT CIRCUIT BOARD例文帳に追加

樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

COLORING CURABLE COMPOSITION, COLORED PATTERN, COLOR FILTER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

着色硬化性組成物、着色パターン、カラーフィルタ、その製造方法、及び液晶表示素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMATION METHOD AND PRINTED SUBSTRATE例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METAL NANOCOLLOIDAL COMPOSITION, INK COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR FORMING METAL PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

金属ナノコロイド系組成物、それを含むインクおよびそれを用いた金属模様の形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition, from which a pattern having excellent line edge roughness can be formed.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The conductive composition for a conductor pattern contains resin and conductive metal particles.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン用導電性組成物は、樹脂と、導電性金属粒子を含む。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a pattern having superior exposure tolerance.例文帳に追加

優れた露光裕度を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SUCH POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable silicone composition efficiently forming a high-precision negative pattern.例文帳に追加

精度の高いネガ型パターンを効率良く形成可能な硬化性シリコーン組成物を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOCURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光重合開始剤、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物および厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁