「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY PROCESS, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition that gives a pattern with an excellent exposure margin.例文帳に追加

露光マージンに優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosensitive composition suitable for forming a fine pattern.例文帳に追加

形成パターンの微細化の要請に適合したアルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM FORMING METHOD AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト成膜方法及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHENOLIC RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING CURED RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

フェノール樹脂組成物並びにこれを用いた硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

METAL NANOCOLLOIDAL COMPOSITION, INK COMPRISING THE SAME AND METHOD FOR FORMING METAL PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

金属ナノコロイド系組成物、それを含むインクおよびそれを用いた金属模様の形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition, from which a pattern having excellent line edge roughness can be formed.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The conductive composition for a conductor pattern contains resin and conductive metal particles.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン用導電性組成物は、樹脂と、導電性金属粒子を含む。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a pattern having superior exposure tolerance.例文帳に追加

優れた露光裕度を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

COLORED CURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLOR PATTERN, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

着色硬化性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING COMPOSITION, IMAGE RECORDING MATERIAL USING SAME AND PRODUCTION OF RECORDING MATERIAL例文帳に追加

パターン形成用組成物、それを用いた画像記録材料、および記録材料の製造方法 - 特許庁

RESIN, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION EMPLOYING IT, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

樹脂およびその製造方法、それを用いたポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint excellent in pattern accuracy and also high in the elasticity recovery ratio.例文帳に追加

パターン精度に優れ、かつ、弾性回復率が高いナノインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING SUCH POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、該高分子化合物を含有するフォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable silicone composition efficiently forming a high-precision negative pattern.例文帳に追加

精度の高いネガ型パターンを効率良く形成可能な硬化性シリコーン組成物を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOCURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光重合開始剤、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN例文帳に追加

厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物および厚膜レジストパターンの製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming a resist pattern having sufficiently high resolution.例文帳に追加

十分に高い解像度を有するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent generation of fixed pattern noise on composite image data in performing image composition.例文帳に追加

画像合成を行う際において、合成画像データに固定パターンノイズが生じないようにする。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) WITH ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線を用いてＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having thermal flow adaptability and to obtain a finer pattern.例文帳に追加

サーマルフロー適性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供し、より微細なパターンを実現する。 - 特許庁

To provide a resist composition which ensures improved resolution and line edge roughness (LER) of a pattern.例文帳に追加

パターンの解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が改善されたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition forming a precise pattern with a low resistance.例文帳に追加

抵抗値が低くかつ高精細なパターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

COPOLYMER FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト用共重合体およびその製造方法、レジスト組成物、ならびにパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition superior in size controllability, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

寸法制御性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The data composition parts (12 and 28) synthesize the pattern data on display data (4) of a display part (8).例文帳に追加

前記データ合成部（１２、２８）は、表示部（８）の表示データ（４）に前記パターンデータを合成する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER-LAYER FILM, METHOD OF FORMING THE RESIST LOWER-LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING HEAT RESISTANT RESIN PATTERN, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、耐熱性樹脂パターンの製造方法および有機電界発光素子 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND INSPECTION METHOD AND PREPARING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、ネガ型レジスト組成物の検査方法及び調製方法 - 特許庁

TOP ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

上部反射防止膜の組成物、およびこれを用いた半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAMINATE, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN AND PRINTED BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND AND RESIN USABLE THEREFOR, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE COMPOSITION FOR CONDUCTOR PATTERN, ELECTRONIC DEVICE USING IT, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

導体パターン用導電性組成物、それを用いた電子デバイス、及び電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY, OR UV, AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

COLD SETTING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR PATTERN CURED FILM AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品 - 特許庁

HIGH-POLYMER COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

高分子化合物、これを用いた感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁