「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

COLORANT COMPOSITION FOR DEVELOPING PATTERN OF OLEFIN- BASED RESIN MOLDING PRODUCT AND SYNTHETIC RESIN MOLDING PRODUCT例文帳に追加

オレフィン系樹脂成形品の模様発現用着色剤組成物及び合成樹脂成形品 - 特許庁

HYDROPHILIC MONOMER, HYDROPHILIC PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

親水性モノマー、それを含有する親水性フォトレジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURED BY USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法及びこれを利用して製造された半導体素子 - 特許庁

FLUORINE CONTAINING COMPOUND, FLUORINE CONTAINING POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NOVEL POLYIMIDE SILICONE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

新規ポリイミドシリコーン及びこれを含有する感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST LAYERED BODY, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING ION IMPLANTED SUBSTRATE例文帳に追加

レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターンの形成方法、及びイオン注入基板の製造方法 - 特許庁

ADDITIVE, METHOD FOR PREPARING COMPOUND, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

添加剤、化合物の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV (EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION) AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線またはＥＵＶ（極端紫外光）用レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING SULFONIC ACID SALT, PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

含フッ素スルホン酸塩類、光酸発生剤、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE-RAY SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition from which a pattern or a coating film excellent in solvent resistance can be formed.例文帳に追加

耐溶剤性に優れたパターンや塗膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

GLAZE COMPOSITION FOR DECORATION OF CERAMIC PRODUCT AND FORMATION OF DECORATIVE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

セラミック製品の装飾用釉薬組成物およびこれを用いた装飾模様の形成方法 - 特許庁

To provide a composition which has a low production cost and can form a pattern with high resolution and high sensitivity.例文帳に追加

製造コストが安く、高解像度、高感度でパターンを形成できる組成物を提供する。 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH RESIST PATTERN IS FORMED例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物および微細パターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE ANISOTROPIC ELECTROCONDUCTIVE COMPOSITION AND ANISOTROPIC ELECTROCONDUCTIVE PATTERN FORMED BY USING THE SAME例文帳に追加

光硬化型異方性導電組成物及びそれを用いて形成した異方性導電パターン - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PHOTOSENSITIVE LAYERED PRODUCT, PERMANENT PATTERN FORMING METHOD, PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、プリント基板 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性塗料組成物、ポジ型感光性樹脂の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, DRY FILM THEREOF, PATTERN FORMATION METHOD AND FILM FOR PROTECTING ELECTRIC/ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム、パターン形成方法及び電気・電子部品保護用皮膜 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, SHEET, TRANSFER FOIL, METHOD OF FORMING FINE RUGGED PATTERN AND OPTICAL ARTICLE例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、シート、転写箔、微細凹凸パターン形成方法、及び光学用物品 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR TREATING HAIR GROWTH DISORDER, SUCH AS FEMALE PATTERN ALOPECIA, AND COMPOSITION USEFUL THEREFORE例文帳に追加

女性型脱毛症等の毛髪成長障害の治療方法とそのために有用な組成物 - 特許庁

To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

RADIATION-CURING COMPOSITION, METHOD FOR STORING THE SAME, METHOD FOR FORMING CURED FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN USING METHOD, ELECTRONIC COMPONENT, AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加

放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 - 特許庁

To provide a resist composition which ensures a good focus margin in resist pattern production and good CD uniformity and good configuration of a resist pattern obtained therefrom.例文帳に追加

レジストパターン製造時のフォーカスマージン、並びに、得られるレジストパターンのＣＤ均一性及び形状が良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that has high lithography characteristics and forms a resist pattern with a favorable shape, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、且つ、良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which is excellent in adhesion of a resist film to a substrate or the like, and suppresses pattern collapse, and also to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト膜の基板等に対する密着性に優れ、パターン倒れが抑制されたレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

CURABLE COMPOSITION FOR SOLID STATE IMAGING ELEMENT; PHOTOSENSITIVE LAYER, PERMANENT PATTERN, WAFER LEVEL LENS, AND SOLID STATE IMAGING ELEMENT INCLUDING THE SAME; AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition which enables to form a resist pattern of good shape with small LWR and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition with which a resist pattern having excellent CD uniformity can be produced and a frequency of occurrence of defects in obtained resist pattern is reduced.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性のレジストパターンを製造でき、得られたレジストパターンの欠陥の発生数も少ないレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for fine pattern formation, which smoothly shrinks a resist pattern by a heat treatment, and is easily removed by subsequent treatment with an aqueous alkali solution.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

PROCESSED PIGMENT, PIGMENT DISPERSION COMPOSITION, METHOD FOR FORMING COLORED PATTERN, COLORED PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

加工顔料，顔料分散組成物，着色パターン形成方法、着色パターン、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示素子 - 特許庁

To provide a positive-acting photoresist composition having high resolving power and forming a resist pattern whose side wall is perpendicular while preventing the trailing of the lower part of the pattern.例文帳に追加

高解像力を有し、レジストパターン下部の裾引きを防止し、かつパターンの側壁角度が垂直であるポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

A control part 5 reads a bar code position pattern corresponding to the profile image of the taken image from a pattern memory 21, and transmits to the image composition part 19.例文帳に追加

制御部５は撮影画像の輪郭画像に対応するバーコード位置パターンをパターンメモリ２１から読み出して画像合成部１９に送る。 - 特許庁

RADIATION-CURING COMPOSITION, METHOD FOR STORING THE SAME, METHOD FOR FORMING CURED FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR USING PATTERN, ELECTRONIC COMPONENT AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加

放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, gives an excellent resist pattern profile and has high sensitivity.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、優れたレジストパターンプロファイルが得られる高感度の化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern having a satisfactory shape, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that can excellently form an ultrafine pattern even when photocuring composition is applied by using an ink jetting method.例文帳に追加

インクジェット法を用いて光硬化組成物の適用を行っても超微細パターンが良好に形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method excellent in resolution and sensitivity, and a photosensitive resin composition suitable for the pattern forming method.例文帳に追加

解像度および感度に優れたレジストパターンの形成方法、並びにそのパターンの形成方法に適した感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, RESIST PATTERN, CROSSLINKABLE NEGATIVE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION FOR ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT, RESIST FILM AND RESIST-COATED MASK BLANKS例文帳に追加

レジストパターン形成方法、レジストパターン、有機溶剤現像用の架橋性ネガ型化学増幅型レジスト組成物、レジスト膜、及びレジスト塗布マスクブランクス - 特許庁

The resist pattern is obtained as follows; the photosensitive resin composition is applied on a support, dried, subjected to predetermined pattern exposure and developed.例文帳に追加

また、レジストパターンは、上記感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥してから所定のパターン露光をした後、現像して得られる。 - 特許庁

To provide a resin composition that can preferably maintain adhesiveness between a pattern image and a substrate with the pattern image formed thereon when the pattern image is formed, while maintaining water repellency and ink repellency on the upper face of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁