「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

The light diffuse reflecting film and liquid crystal display element have the pattern formed from the composition.例文帳に追加

光拡散反射膜および液晶表示素子は、前記組成物から形成されたパターンを有する。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition which can form a pattern having excellent MEEF (Mask Error Enhancement Factor) and profile.例文帳に追加

優れたＭＥＥＦ及び形状を有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供。 - 特許庁

NEW MULTIBRANCHED COMPOUND, NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

新規な多分岐化合物、並びにネガ型感光性組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition capable of manufacturing a resist pattern excellent in line edge roughness (LER).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which forms a coating film and a pattern which are excellent in chemical resistance.例文帳に追加

耐薬品性に優れた塗膜及びパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition which can produce a resist pattern having good resolution and configuration.例文帳に追加

解像度及び形状が良好なレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a chemically amplified resist composition, which can reduce development defects on a pattern.例文帳に追加

パターン上の現像欠陥を低減できる化学増幅型レジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables to obtain a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior line edge roughness to be formed.例文帳に追加

優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new positive resist composition suitable for use in lithography and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition which provides a pattern having an excellent line width roughness (LWR).例文帳に追加

優れたラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of preparing a resist pattern excellent in sensitivity.例文帳に追加

感度が良好なレジストパターンを作製することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

NEW COMPOUND AND ITS PRODUCTION METHOD, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

新規な化合物およびその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD AND PRINTED WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a cured resin pattern which ensures small degassing amount.例文帳に追加

脱ガス量が少ない硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer resin composition, a method for forming pattern by using the same and a method for forming a capacitor.例文帳に追加

高分子樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法が開示される。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC FILM AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC FILM OR DIELECTRIC FILM PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

絶縁膜形成用組成物及びこれを用いた絶縁膜または絶縁膜パターンの形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION SENSITIVE TO ACTIVE ENERGY RADIATION AND POLYMER PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、及び、該樹脂組成物を用いてなる高分子パターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME, AND COMPOUND IN SAME例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of suppressing occurrence of dimples and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディンプルの発生を抑制できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in both flexibility and heat resistance.例文帳に追加

柔軟性及び耐熱性ともに優れるパターンを形成可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent the dimensional change of a pattern of poly silsesqui azane system photosensitive composition including photo-acid initiator.例文帳に追加

光酸発生剤を含むポリシルセスキアザン系感光性組成物のパターン寸法変化を防止すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in dimension controlling property and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

寸法制御性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which ensures a good negativing margin and a resist pattern forming method.例文帳に追加

良好なネガ化マージンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THICK-FILM RESIST FILM FORMATION, THICK-FILM RESIST LAMINATE AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a curable resin composition which reduces repelling of an oriented film solution on a coated film or a pattern.例文帳に追加

塗膜やパターン上に対する配向膜溶液のはじきを低減させる硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, FORMING METHOD FOR HOLLOW STRUCTURE, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品 - 特許庁

POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND STARTING COMPOUND FOR RESIST POLYMER例文帳に追加

レジスト用重合体、レジスト組成物、およびパターン製造方法、並びにレジスト用重合体用原料化合物 - 特許庁

INORGANIC POWDER-CONTAINING RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING MEMBER FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition which can form a pattern having excellent resolution and shape.例文帳に追加

優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which enables a resist pattern having superior resolution to be obtained.例文帳に追加

優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photoresist composition which can form a pattern having an outstanding mask error enhancement factor.例文帳に追加

優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory exposure margin.例文帳に追加

優れた露光マージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁

To ensure a high resolution for a resist layer having a predetermined composition so as to form a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを形成するために、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。 - 特許庁

To provide a side wall-forming composition suitable for forming a side wall in contact with a photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンに接してサイドウォールを形成するのに好適なサイドウォール形成組成物を提供すること。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁