「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a novel resist composition, a resist pattern forming method using the resist composition, a novel compound useful as a component for the positive resist composition, particularly as an acid generator, and an acid generator.例文帳に追加

新規なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用の成分、特に酸発生剤として有用な新規な化合物および酸発生剤を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for immersion exposure, the composition giving a preferable pattern shape and having an excellent depth-of-focus characteristic and a small amount of eluted material into water in contact with the composition during immersion exposure.例文帳に追加

得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ、且つ液浸露光時に接触した水への溶出物の量が少ない液浸露光用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR RESIST PRODUCED BY THE SAME PRODUCTION METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME RESIN FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME RESIST COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物用樹脂の製造方法、この製造方法により製造されたレジスト用樹脂、該レジスト用樹脂を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator comprising the compound, a resist composition containing the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for resist composition, an acid generator made from the compound, a resist composition including the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide: a polymeric compound useful as a base component of a resist composition; a positive resist composition containing the efficiently; and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な高分子化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble polymer having a low curing shrinkage (high film remaining rate in curing), a photosensitive resin composition excellent in a pattern profile after curing, and a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device and a light emitting device having the cured relief pattern.例文帳に追加

硬化収縮が低い（硬化時残膜率が高い）アルカリ可溶性重合体、及びキュア後のパターン形状に優れた感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置及び発光装置の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition which can provide a pattern having improved uniformity of coating film thickness and excellent size uniformity in the wafer surface on which the pattern has been formed by liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

塗布膜厚の均一性が改善され、且つ、液浸露光により形成されたパターンのウエハー面内における寸法均一性に優れるパターンを提供可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition which is excellent in pattern formation, adhesiveness after pattern formation, heat resistance after adhesion and moisture resistance reliability, to provide an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with adhesive layer, and a semiconductor device which use the photosensitive adhesive composition and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

パターン形成性、パターン形成後の接着性、接着後の耐熱性及び耐湿信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for cured film pattern formation having a long pot life after mixing a base resin with a curing agent or having excellent storage stability as a one-part composition, and capable of forming a cured film pattern excellent in film properties, and to provide a method for producing a cured film pattern using the same.例文帳に追加

主剤と硬化剤の混合後のポットライフが長く、又は一液としての保存安定性に優れ、皮膜特性に優れる硬化皮膜パターンを形成できる硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive polymer composition having high sensitivity and ensuring a good pattern shape and a good rate of a residual film in the unexposed part, a method for forming a pattern by which a high resolution pattern having a good shape is obtained by using the composition and electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、前記の組成物の使用により、解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a double-color amorphous colored particle capable of giving excellent design properties and three-dimensional depth to a coating film, a multicolored pattern coating material composition capable of forming a multicolored pattern coating film having excellent design properties and three-dimensional depth, and a multicolored pattern coating film formed by the composition.例文帳に追加

塗膜に優れた意匠性と立体感があるような深みを付与できる複色不定形着色粒子、および意匠性に優れ、立体感があるような深みのある多彩模様塗膜を形成できる多彩模様塗料組成物と、それより形成される多彩模様塗膜の提供。 - 特許庁

To provide a positive type heat resistance photosensitive polymer composition having high sensitivity and ensuring a good pattern shape and a good rate of a residual film in the unexposed part, a method for producing a pattern by which a high resolution pattern having a good shape is obtained by using the composition and electronic parts having high reliability.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パタ−ン形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の耐熱性感光性重合体組成物、前記の組成物の使用により解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

The composition for removing the photoresist pattern capable of improving the removal reliability on the photoresist pattern contains aminoethoxyethanol, a polyalkylene-oxide composition, a glycol ether compound and an aprotic polarity solvent containing nitrogen as the remainder, by minimizing the residual quantity of the photoresist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンの残留量を最少化させることによって、フォトレジストパターンの除去信頼性を向上されることができるフォトレジストパターン除去用組成物は、アミノエトキシエタノール、ポリアルキレンオキサイド化合物、グリコールエテール化合物、及び残部として含窒素非プロトン性極性溶媒を含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is rapidly developed and stripped, has good adhesion, etching and plating resistances, and forms a conductor pattern excellent in linearity, and also to provide a resist pattern using the same and a conductor pattern.例文帳に追加

現像、剥離が速く、良好な密着性、耐エッチング性、耐めっき性を有し、直線性に優れた導体パターンを作成できる感光性樹脂組成物、および、それを用いたレジストパターン、導体パターンの提供。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which is excellent in sensitivity, capability of reducing development defects, and pattern shape in negative pattern formation with a developer containing an organic solvent, and to provide a chemical amplification type resist composition and resist film.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The material pattern formation method by an ink-jet method includes the steps of forming a resist-molding pattern using a chemically amplified novolak resin composition and applying a metal material or an organic material to the resist-molding pattern.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型ノボラック樹脂組成物からレジストモールドパターンを形成し、該レジストモールドパターン内に金属材料または有機材料をインクジェット方式によって塗布する材料パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

And the manufacturing method of the conductive pattern includes pattern making by applying and drying the composition containing silver ultrafine particles on surfaces of base materials and by ultraviolet ray irradiation and/or re-feeding of moisture to the pattern.例文帳に追加

およびこの銀超微粒子含有組成物を基材表面に塗布・乾燥させることによりパターンを作製し、該パターンに紫外線の照射および／または水分の再付与を行う導電性パターン作製方法。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high exposure latitude for forming a resist pattern on a substrate and capable of forming a pattern with excellent resolution and perpendicularity, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

基板上にレジストパターンを形成する際の露光余裕度が大きく、且つ解像性、垂直性に優れるパターンを形成することができるポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which enables a resin composition with a mixed pattern material to be rapidly, energetically and uniformly poured into a mold, so as to offer a molded article having a uniformly distributed pattern with no pattern unevenness.例文帳に追加

柄ムラのない均一分布の柄模様の成形品を得るために、柄材を配合した樹脂組成物を金型内に素早く、勢いよく、かつ均一に流し込むことができる製造方法提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of preventing short circuiting failure or the like between patterns, and capable of forming easily a highly reliable and highly precise pattern at low cost, and a photosensitive composition suitable for the pattern forming method.例文帳に追加

パターン間のショート不良などがなく、信頼性の高い高精細パターンを簡便に低コストで形成できるパターン形成方法と、このようなパターン形成方法に好適な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprints, in which the components on a substrate are less vaporized during its application to a thin film, capable of forming a good pattern, and a pattern forming method using this, and a pattern obtained thereby.例文帳に追加

薄膜塗布時にも基材上の成分の揮発が少なく、良好なパターンが形成できるインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法およびこれにより得られるパターンを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern by which a conductive pattern can be easily and surely formed, and to provide a composition for forming a pattern which can be favorably used for the method.例文帳に追加

本発明の課題は、簡易、かつ、確実に導電性のパターンを形成することができる導電性パターン形成方法及びこの方法に好適に使用することができるパターン形成用組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a functional pattern, having high storage stability and capable of forming a functional pattern superior in bonding properties to a glass substrate, and to provide a functional pattern forming method.例文帳に追加

ガラス基板への結着性に優れた機能性パターンを形成することができ、しかも保存安定性の高い機能性パターン形成用感光性樹脂組成物および機能性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING METALLIC FILM, METALLIC FILM USING THE SAME, SUBSTRATE FOR FORMING METALLIC FILM, METHOD OF FORMING METALLIC PATTERN, METALLIC PATTERN USING THE SAME, SUBSTRATE FOR FORMING METALLIC PATTERN, AND COATING LIQUID COMPOSITION FOR FORMING POLYMER PRECURSOR LAYER例文帳に追加

金属膜形成方法、それを用いた金属膜、金属膜形成用基板、金属パターン形成方法、及びそれを用いた金属パターン、金属パターン形成用基板、ポリマー前駆体層形成用塗布液組成物 - 特許庁

To provide a photosensitive color composition which reduces a rise of a color pattern in an overlap portion when used to form a color pattern having the overlap portion on a pattern structure (for example, a resin black matrix).例文帳に追加

パターン構造物（例えば、樹脂ブラックマトリクス）上に重なり部を有する着色パターンの形成に用いたときに、該重なり部における着色パターンの盛り上がりを低減できる感光性着色組成物を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST LAYER, IMPRINT METHOD, PATTERN FORMING BODY, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

MAGNETIC FILLER-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THOSE例文帳に追加

磁性フィラーを含有する感光性樹脂組成物及び感光性フィルム並びにそれらを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition which can provide a resist pattern having excellent line width roughness.例文帳に追加

優れたラインウィズスラフネスを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING THERMALLY DECOMPOSABLE LOWER LAYER FILM FOR MULTI-LAYERED RESIST PROCESS, LOWER LAYER FILM, MULTI-LAYERED RESIST, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

多層レジストプロセス用熱分解性下層膜形成組成物、下層膜、多層レジストおよびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ADJUSTING DISSOLUTION CHARACTERISTIC AND METHOD OF FORMING TWO-LAYERED STRUCTURE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

溶解特性を調節する感光性樹脂組成物及びこれを用いた二層構造パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a preferable radiation-sensitive resin composition for minute pattern formation due to an electron ray and an extreme ultraviolet ray.例文帳に追加

電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

This composition of the coating agent for the lost pattern contains ores whose endothermic peak temperature (°C) of DTA is within a specified range.例文帳に追加

ＤＴＡの吸熱ピーク温度（℃）が特定範囲にある鉱石を含有する消失模型用塗型剤組成物。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM FOR PERMANENT RESIST, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線基板 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING ANTIREFLECTIVE FILM, SUBSTRATE HAVING SILICON-CONTAINING ANTIREFLECTIVE FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、ケイ素含有反射防止膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a composition with stable dispersibility suitable for an image formation and a method for formation of an electrically conductive pattern.例文帳に追加

分散性が安定し、画像形成に適した組成物および導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PERMANENT RESIST USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジスト - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING HEAT RESISTANT COATING EACH USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法 - 特許庁

To provide a color filter composition and a color filter transfer film having excellent transfer properties and pattern formation properties.例文帳に追加

優れた転写性及びパターン形成性を有するカラーフィルター組成物及びカラーフィルター転写フィルムを提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, FORMING METHOD FOR RIB PATTERN, FORMING METHOD FOR HOLLOW STRUCTURE, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品 - 特許庁