「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目)

エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード（EL：Exposure Latitude）、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polysiloxane resin composition for forming a reversed pattern and being properly embedded in a gap of a mask pattern which is excels in resistance to dry etching and in preservation stability, without being mixed with a mask pattern formed on a substrate to be processed, and to provide a method for forming the inverted pattern which uses the composition.例文帳に追加

被加工基板上に形成されたマスクパターンとミキシングすることがなく、かつこのマスクパターンの間隙に良好に埋め込むことができ、ドライエッチング耐性及び保存安定性に優れる反転パターン形成用のポリシロキサン樹脂組成物及びこれを用いた反転パターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high sensitivity and a favorable pattern profile and a favorable film remaining rate in an unexposed portion, to provide a method for manufacturing a relief pattern to obtain a pattern with high resolution and a preferable profile from the above composition, and to provide electronic parts with high reliability having the above relief pattern.例文帳に追加

本発明は、感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物により、解像度が高く、良好な形状のパターンが得られるレリーフパターンの製造方法、このレリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter in which when a pattern is formed by photolithography using a colored photosensitive resin composition, the side faces of the edges of the pattern are shaped by removing an uncured colored photosensitive resin composition remaining on the side faces and the edges of the pattern are shaved to make the pattern fine.例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターンを形成する際に、前記パターンの端部側面に残存する未硬化の着色感光性樹脂組成物を除去し、整形することに加え、パターンの端部から削り取ることで精細化するカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying the requirements of wide exposure latitude, reduction in line edge roughness, a desirable pattern configuration and dry etching resistance and giving a pattern with few defects after development, and to provide a method for forming a pattern by use of the above composition.例文帳に追加

広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics, the resolution and dry etching resistance of an isolated pattern and enables a pattern of good configuration to be formed, and to provide a pattern forming method using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low-cost photosensitive paste composition, with which a high-definition pattern in a thin film having a low resistance and less roughness at a pattern edge can be formed on a glass substrate, and to provide a method for forming a pattern that uses the photosensitive paste composition.例文帳に追加

安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、パターンエッジの荒れが少ない高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物ならびに前記感光性ペースト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which has high resolution and allows fine holes to be formd and allows a cured pattern with a good elastic modulus and a low relative dielectric constant to be formed, and to provide a cured pattern obtained using the negative radiation-sensitive composition, and a method for forming the cured pattern.例文帳に追加

高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.例文帳に追加

ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an extremely easy method of manufacturing a substrate for pattern formation, which does not contaminate a processing apparatus, the substrate for pattern formation which is manufactured by the manufacturing method, has superior adhesion to a photosensitive composition layer, and suppresses pattern collapse, and a pattern formation method which uses the substrate for pattern formation and forms a fine photosensitive composition pattern of <100 nm.例文帳に追加

処理装置を汚染するなどの影響がなく、極めて簡便なパターン形成用基板の製造方法、及び当該製造方法により製造される、感光性組成物層との密着性に優れ、且つパターン倒れを抑制できる新規なパターン形成用基板、並びに、当該パターン形成用基板を用いた、１００ｎｍ未満の微細な感光性組成物パターンを形成し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a pattern forming method using the same having small line edge roughness even in the formation of a fine pattern, and having a wide defocus latitude even in various patterns such as a sparse or dense pattern, a line or trench pattern, and so forth.例文帳に追加

微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスが小さく、疎又は密パターン、ライン又はトレンチパターンなど種々のパターンにおいてもデフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The spider web pattern coating method is embodied by one wherein the spider web pattern is prepared by coating a substrate with the coating composition to form continuous threads and is composed of a thread-like pattern part and a pattern part comprising mixed and collected thread-like patterns.例文帳に追加

また、前記乱糸模様が、前記塗料組成物を連続した糸状で被塗物上に塗着させてなり、糸状の模様部分と、糸状の模様が混じりあい溜まった模様部分とを含む乱糸模様である乱糸模様塗装方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which, when used for forming a pattern image, can keep proper adhesion of the pattern image to a substrate on which the pattern image is formed, while retaining water repellence and ink repellence of the upper surface of the pattern image.例文帳に追加

パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in dissolution stability and lithography characteristics and easily evaluated, and to provide a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

溶解安定性、リソグラフィー特性に優れており、評価の容易なレジスト組成物および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel positive resist composition using a low molecular material as a base material component, and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

基材成分として低分子材料を用いた新規なポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING ACTIVE ENERGY RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加