「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition allowing formation of a pattern in which pattern collapse is suppressed, which hardly induces development failure and exhibits excellent stability with lapse of time, and also to provide a method for forming a pattern, using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが抑制され、かつ現像不良が発生しにくく、更に経時安定性に優れたパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern film capable of obtaining the pattern film whose surface is formed with a concavo-convex pattern without carrying out development after a photosensitive resin composition layer is formed and the photosensitive resin composition layer is partially exposed.例文帳に追加

感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming composition comprising a metal fine particle dispersion, which has a simple composition and for which any of conventional light sources can be used, and a pattern forming method.例文帳に追加

簡単な組成で、しかも従来から慣用の光源のいずれも使用することができる、金属微粒子分散液からなるパターン形成用組成物、及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in resolution in lithography, having high etching resistance and capable of giving an ultrafine resist pattern and to provide an appropriate pattern forming method using the composition.例文帳に追加

リソグラフィーにおける解像度に優れ、高エッチング耐性を有し、極めて微細なレジストパターンを得ることを可能とするレジスト組成物及びこれを用いた好適なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity to i-line, forming a fine pattern free from peeling particularly in development and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern using the composition and electronic parts.例文帳に追加

ｉ線に対する露光感度が高く、特に現像時に微細パターンの剥離の無い、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの製造法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method superior in lithography characteristics and capable of forming a resist pattern of excellent shape, and to provide a nitrogen-containing polymer compound useful for the resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できる、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに当該レジスト組成物用として有用な含窒素高分子化合物の提供。 - 特許庁

To obtain a positive type resist composition giving a photoresist which forms a rectangular pattern in the production of a semiconductor device and to obtain a positive type resist composition which ensures low edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造にて矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与えるポジ型レジスト組成物を提供し、またラインパターンのエッジラフネスが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern excellent in in-plane uniformity (CDU) of line width, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

線幅の面内均一性（ＣＤＵ）に優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition and a resist pattern forming method superior in lithography characteristics and capable of forming a resist pattern of excellent shape, and to provide a high molecular compound suitable for the resist composition.例文帳に追加

リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。 - 特許庁

To provide a composition excellent in sensitivity to actinic radiation, radiation or heat, a resist film formed using the composition, a method for forming a pattern using the composition and an inkjet recording method using the composition.例文帳に追加

活性光線若しくは放射線又は熱に対する感度に優れた組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法及びインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having a substantially constant sensitivity distribution relative to an exposure light having a wavelength of 400-410 nm, and excelling in pattern reproducibility, highly suppressing variations in pattern form and permitting handling in bright room environment; a pattern forming material and a photosensitive laminate with the photosensitive composition laminated thereon; and a pattern forming apparatus and a pattern forming process.例文帳に追加

４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能な感光性組成物、該感光性組成物を積層したパターン形成材料及び感光性積層体、パターン形成装置、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for pattern formation having good sensitivity and tenting strength, excellent in adhesion to a substrate such as a substrate for printed wiring formation, also having good strippability from a support and good resolution, and enabling a high-definition pattern to be formed, and to provide a pattern forming material obtained by using the composition and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

感度、テンティング強度が良好であるのみならず、プリント配線形成用基板等の基体との密着性に優れ、支持体からの剥離性、及び解像度が良好で、高精細なパターンを形成可能なパターン形成用組成物及びこれを用いたパターン形成材料、及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To obtain a new polymer compound and a positive type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive type resist composition.例文帳に追加

新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition containing a new compound suitable for use as an acid generator for a resist composition, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition having good line edge roughness and a chemically amplified positive resist composition wherein the pattern is miniaturized in a reflow step.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING POSITIVE RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、並びに、それを用いた感光性エレメント、ポジ型レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

ETCHING RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD USING THE SAME, AND WATER-SOLUBLE POLYMER FOR ETCHING RESIST COMPOSITION例文帳に追加

エッチングレジスト組成物、これを用いたパターン形成方法及び配線基板の製造方法およびエッチングレジスト組成物用水溶性重合体 - 特許庁

A pattern is formed by coating the photosensitive composition on a substrate, subjecting the composition to image-wise exposure, treating the same with an aqueous alkaline solution, and then firing.例文帳に追加

この感光性組成物を基材上に塗布し、像様露光し、アルカリ水溶液で処理し、焼成することによりパターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a heat-resistant positive photosensitive resin composition having good sensitivity and resolution, and to provide a method for producing a pattern by the use of the composition.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性のポジ型感光性樹脂組成物、上記組成物の使用による、パターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To allow a composition measurement pattern, which is so sized as to be taken with a measurement by a fluorescent X-ray measuring instrument, to have the same composition with a solder bump.例文帳に追加

蛍光Ｘ線測定装置で測定可能な大きさの組成測定パターンの組成を、はんだバンプと同じにすることを可能にする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PATTERN FORMING RESIN LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY ELEMENT CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びパターン形成樹脂層の製造方法、並びに該感光性樹脂組成物を含む半導体装置及び表示素子 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND例文帳に追加

新規なスルホニウム化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び新規なスルホニウム化合物 - 特許庁

To obtain a new polymer compound and a positive-type resist composition and to provide a method for forming a resist pattern using the positive-type resist composition.例文帳に追加

新規な高分子化合物およびポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE SOLDER RESIST FILM, AND PERMANENT PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME AND PRINT CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性ソルダーレジスト組成物及び感光性ソルダーレジストフィルム、並びに、永久パターン、その形成方法及びプリント基板 - 特許庁

To provide a resist composition with which a pattern having a favorable feature can be formed, and to provide a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

良好な形状のパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a stage (1), a photosensitive composition (ferroelectric forming composition layer) 3 which can form a ferroelectric thin film on a substrate 2 is applied to form a photosensitive layer, which is exposed to a specific pattern and developed to pattern the ferroelectric forming composition layer 3.例文帳に追加

（ａ）工程：基板２上に強誘電体薄膜を形成可能な感光性組成物３を塗布し、感光層を形成し、所定のパターンの露光を行い、現像することにより、強誘電体形成性組成物層３をパターニングする。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can provide good pattern shape and line-edge roughness in normal exposure (dry exposure), liquid immersion exposure and double exposure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound used in the photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a baking resin composition capable of being baked even at a low temperature, especially a baking photosensitive resin composition, and to provide a process for forming a ceramic pattern using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

低温でも焼成が可能な焼成用樹脂組成物、特に焼成用感光性樹脂組成物及び、該感光性樹脂組成物を用いたセラミックパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter and a method of manufacturing the composition, a color filter including a colored pattern manufactured using the composition, and an image display device.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタ用着色硬化性組成物及びその製造方法、これを利用して製造される着色パターンを含むカラーフィルタ及び画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a compound enabling utilization for a resist composition and a positive resist composition containing the compound and to provide a method for forming a resist pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用としての利用が可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMER COMPOUND USED FOR POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND FOR USE IN PRODUCTION OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される樹脂、該樹脂の製造に使用される重合性化合物及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polymeric compound useful for a positive resist composition, a positive resist composition including the polymeric compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物用に有用な高分子化合物、該高分子化合物を有するポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM, ANTIREFLECTION FILM FORMED OF THE COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、該反射防止膜形成用組成物からなる反射防止膜、および該反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a negative-type radiation-sensitive composition that has a high resolution, has a wide depth of focus (DOF), provides a proper pattern shape, and forms a curing pattern of a low-relative dielectric constant, and to provide a curing pattern that uses the pattern and a forming method of the curing pattern.例文帳に追加

高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、得られるパターン形状が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure improved in pattern falling, sensitivity and property of following an immersion liquid, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

パターン倒れ、感度、液浸液追随性が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can give a high-contrast pattern at a high sensitivity and is excellent in the resolution of a fine pattern and in adhesion.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られると同時に、微細パターンの解像性及び接着性に優れたポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition capable of forming a baked material pattern such as an electrode pattern of high accuracy showing an excellent hardening depth.例文帳に追加

高精度で且つ優れた硬化深度を示す電極パターン等の焼成物パターンを形成することができる感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

There are also provided the pattern forming material having a photosensitive layer formed of the photosensitive composition, the photosensitive laminate and the pattern forming method.例文帳に追加

また本発明は、前記感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、及びパターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a resist composition having excellent temporal stability of a resist pattern and achieving decrease in development defects, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの経時安定性に優れ、かつ現像欠陥低減を達成可能なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves edge roughness of a pattern, remedies the problem of development defects and gives an excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A pattern information composition means 13 combines the pattern information 5 indicating a copy inhibited page with the generated original image data and generates the composite image data.例文帳に追加

パターン情報合成手段１３は生成された原稿画像データに複写禁止頁を示すパターン情報５を合成して合成画像データを生成する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE-RESIN TRANSFER FILM, RESIN PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN PATTERN, BASE BOARD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

感光性組成物、感光性樹脂転写フイルム、樹脂パターン及び樹脂パターンの製造方法、並びに液晶表示装置用基板及び液晶表示装置 - 特許庁