「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING ANTIREFLECTIVE FILM, SUBSTRATE HAVING SILICON-CONTAINING ANTIREFLECTIVE FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ケイ素含有反射防止膜形成用組成物、ケイ素含有反射防止膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a composition with stable dispersibility suitable for an image formation and a method for formation of an electrically conductive pattern.例文帳に追加

分散性が安定し、画像形成に適した組成物および導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ADJUSTING DISSOLUTION CHARACTERISTIC AND METHOD OF FORMING TWO-LAYERED STRUCTURE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

溶解特性を調節する感光性樹脂組成物及びこれを用いた二層構造パターンの形成方法 - 特許庁

To provide a preferable radiation-sensitive resin composition for minute pattern formation due to an electron ray and an extreme ultraviolet ray.例文帳に追加

電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PERMANENT RESIST USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジスト - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING HEAT RESISTANT COATING EACH USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法 - 特許庁

To provide a resist composition which can obtain a resist pattern having excellent focus margin.例文帳に追加

優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

This composition of the coating agent for the lost pattern contains ores whose endothermic peak temperature (°C) of DTA is within a specified range.例文帳に追加

ＤＴＡの吸熱ピーク温度（℃）が特定範囲にある鉱石を含有する消失模型用塗型剤組成物。 - 特許庁

To provide a color filter composition and a color filter transfer film having excellent transfer properties and pattern formation properties.例文帳に追加

優れた転写性及びパターン形成性を有するカラーフィルター組成物及びカラーフィルター転写フィルムを提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, FORMING METHOD FOR RIB PATTERN, FORMING METHOD FOR HOLLOW STRUCTURE, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム、リブパターンの形成方法、中空構造の形成方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHODS FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法並びにフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a black matrix having excellent pattern precision and hardness is obtained by using nanoimprint lithography.例文帳に追加

ナノインプリントリソグラフィを用い、パターン精度、硬さに優れたブラックマトリックスが得られる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING STEPPED PATTERN USING SAME, AND METHOD FOR PRODUCING INK-JET HEAD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive coating material composition sensitive even to visible light and capable of forming a detailed pattern.例文帳に追加

可視光にも感光し、細密なパターンを形成することができる感光性塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, MANUFACTURE OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in depth-of-focus (DOF) characteristics and a resist pattern forming method.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition which forms a pattern having an excellent shape and DOF.例文帳に追加

優れた形状及びＤＯＦを有するパターンを形成するレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition that can form a pattern having an excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that forms a pattern having excellent exposure margin and focus margin.例文帳に追加

優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成できるフォトレジスト組成物用の樹脂の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is superior in weatherability, light and heat resistances and enables a fine pattern to be formed.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

WATER-SOLUBLE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

水溶性感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにカラー陰極線管の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern exhibiting sufficient resolution and having high transmittance.例文帳に追加

十分な解像度を示す、高い透過率のパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ORGANOSILOXANE POLYMERIC COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTIVE FILM例文帳に追加

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition giving a pattern of a forward tapered shape.例文帳に追加

順テーパー形状となるパターンを与える着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

フォトレジスト組成物、及びこれを利用したパターンの形成方法、並びに薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

CONDENSATE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

縮合物、感光性組成物およびその製造方法、およびそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME, AND RESIN例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び樹脂 - 特許庁

ACID-MODIFIED POLYESTERIMIDE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, PRINTED CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

酸変性ポリエステルイミド樹脂、感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体素子。 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR LETTERPRESS REVERSED OFFSET, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF POLYAMIC ACID DERIVATIVE, FORMATION OF POLYIMIDE FILM PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ポリアミド酸誘導体の製造方法、ポリイミド膜パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

PRINTING METHOD, PATTERN FILM FORMED BY USING THE PRINTING METHOD, AND INK COMPOSITION USED FOR THE PRINTING METHOD例文帳に追加

印刷方法、この印刷方法を用いて形成されたパターン膜、および、この印刷方法に用いるインク組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

MONOMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅レジスト用単量体、化学増幅レジスト用重合体、化学増幅レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

A chemical mechanical polishing composition is useful for chemically mechanically polishing a semiconductor wafer with a pattern containing a nonferrous metal.例文帳に追加

非鉄金属を含有するパターン付き半導体ウェーハのケミカルメカニカルポリッシングに有用なケミカルメカニカル研磨組成物。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, MANUFACTURING OF THE SAME, AND FORMATION OF HIGH POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ—ン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁

A transfer pattern to be imprinted is formed by the composition of two or more apertures which penetrate the mask membrane.例文帳に追加

マスクメンブレンを貫通する複数の開口で構成された転写すべき被転写パターンが形成されている。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED-WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a high-sensitive photosensitive resin composition, with which a pattern of high-resolution and high aspect ratio can be formed.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁