「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition that can form a pattern having an excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that forms a pattern having excellent exposure margin and focus margin.例文帳に追加

優れた露光マージン及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for a photoresist composition capable of forming a pattern having satisfactory resolution and exposure margin.例文帳に追加

優れた解像度及び露光マージンを有するパターンを形成できるフォトレジスト組成物用の樹脂の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is superior in weatherability, light and heat resistances and enables a fine pattern to be formed.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The present invention provides the optical film pattern-printed with a white pigment composition containing titanium oxide on a surface of a base material.例文帳に追加

基材の表面に酸化チタンを含む白色顔料組成物をパターン印刷してなる光学フィルムである。 - 特許庁

COMPOSITION FORMING ANTIREFLECTIVE LIGHT ABSORBING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

反射防止用光吸収膜形成組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, LOW-MOLECULAR COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a colored positive radiation-sensitive resin composition having high resolution in a colored cured resin pattern.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition in which a resist pattern having a high resolution and a high aspect ratio is formed.例文帳に追加

高解像度、高アスペクト比であるレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

WATER-SOLUBLE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

水溶性感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法並びにカラー陰極線管の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a pattern exhibiting sufficient resolution and having high transmittance.例文帳に追加

十分な解像度を示す、高い透過率のパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

ORGANOSILOXANE POLYMERIC COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTIVE FILM例文帳に追加

オルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

To provide a colored alkali developable photosensitive resin composition giving a pattern of a forward tapered shape.例文帳に追加

順テーパー形状となるパターンを与える着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

フォトレジスト組成物、及びこれを利用したパターンの形成方法、並びに薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

CONDENSATE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

縮合物、感光性組成物およびその製造方法、およびそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which a pattern which is excellent in terms of adhesion to a substrate is obtained.例文帳に追加

本発明の感光性樹脂組成物によれば、基板との密着性に優れたパターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition capable of forming a pattern having excellent resolution.例文帳に追加

優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with the excellent coating property so as to form a pattern with the excellent resolution.例文帳に追加

塗布性に優れ、かつ解像性に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cement composition with a joint-like pattern bringing about a tiled texture, and the like.例文帳に追加

タイル張りの質感を醸し出す目地状模様を有したセメント組成体の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition that allows formation of a pattern having a good shape and line edge roughness.例文帳に追加

形状及びラインエッジラフネスが良好なパターンを形成できるレジスト組成物フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a pattern having superior CD uniformity by using resin in a resist composition.例文帳に追加

この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition providing a resist pattern having an excellent shape and the like.例文帳に追加

優れた形状等を有するレジストパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition which can form a pattern or a coated film excellent in NMP resistance and heat resistance.例文帳に追加

耐ＮＭＰ性、耐熱性に優れたパターンや塗膜を形成できる硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

ACID-MODIFIED POLYESTERIMIDE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, PRINTED CIRCUIT BOARD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

酸変性ポリエステルイミド樹脂、感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及び半導体素子。 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR LETTERPRESS REVERSED OFFSET, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME, AND RESIN例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、それを用いたパターン形成方法、及び樹脂 - 特許庁

PRINTING METHOD, PATTERN FILM FORMED BY USING THE PRINTING METHOD, AND INK COMPOSITION USED FOR THE PRINTING METHOD例文帳に追加

印刷方法、この印刷方法を用いて形成されたパターン膜、および、この印刷方法に用いるインク組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法 - 特許庁

MONOMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅レジスト用単量体、化学増幅レジスト用重合体、化学増幅レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

A chemical mechanical polishing composition is useful for chemically mechanically polishing a semiconductor wafer with a pattern containing a nonferrous metal.例文帳に追加

非鉄金属を含有するパターン付き半導体ウェーハのケミカルメカニカルポリッシングに有用なケミカルメカニカル研磨組成物。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, MANUFACTURING OF THE SAME, AND FORMATION OF HIGH POLYMER OPTICAL WAVEGUIDE PATTERN例文帳に追加

光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ—ン形成方法 - 特許庁

To provide resist composition having satisfactory defocusing latitude, profiles, and a side lobe margin in preparing the pattern of contact holes.例文帳に追加

コンタクトホールパターン作製の際、デフォーカスラチチュード、プロファイル、サイドローブマージンが良好なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY LINE SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE FILM例文帳に追加

感活性エネルギー線樹脂組成物、感活性エネルギー線樹脂フィルム及び該フィルムを用いるパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND FLUORINE-CONTAINING POLYMER COMPOUND例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING POLYMERIZABLE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

重合性組成物の製造方法、感光性フィルム及びその製造方法、並びに、永久パターンの形成方法 - 特許庁

The cover 6 is formed by injecting a resin composition into a molded pattern from an injection molding machine.例文帳に追加

このカバー６は、射出成形機から樹脂組成物を成形型に射出することにより形成されている。 - 特許庁

PHOTORESIST CROSSLINKING MONOMER, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト架橋単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING SULFONATES, FLUORINE-CONTAINING SULFONATE RESIN, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性含フッ素スルホン酸塩類、含フッ素スルホン酸塩樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法及び半導体素子 - 特許庁

TOPCOAT COMPOSITION, ALKALI DEVELOPER-SOLUBLE TOPCOAT FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ANTIREFLECTION POLYMER, ITS PRODUCTION, ANTIREFLECTION FILM COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

反射防止用重合体とその製造方法、反射防止膜組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

COPOLYMER FOR PHOTORESIST AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, AND MANUFACTURES OF RESIST PATTERN AND PRINTED CIRCUIT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

To provide a high-sensitivity black photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern with a large development margin.例文帳に追加

広い現像マージンで着色パターンを形成し得る、高感度の黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁