「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND RESIN USED FOR POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE PASTE COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE CALCINATION AND METHOD OF FORMING WIRING PATTERN USING THE PASTE COMPOSITION例文帳に追加

低温焼成用導電性ペースト組成物及びそのペースト組成物を用いた配線パターンの形成方法 - 特許庁

ALICYCLIC UNSATURATED COMPOUND, POLYMER, CHEMICAL AMPLIFYING RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION例文帳に追加

脂環式不飽和化合物、重合体、化学増幅レジスト組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

ALKALINE DEVELOPMENT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON GREEN SHEET USING THE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いたグリーンシート上へのパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, CHEMICAL COMPOUND USED IN IT, PATTERN FORMING METHOD USING THIS PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

This photosensitive composition contains compounds of specific structures, and this pattern forming method uses this photosensitive composition.例文帳に追加

特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FILM, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、膜及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION USING POLYMER HAVING 1,2-DIOL STRUCTURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

１，２−ジオール構造を有する重合体を用いたネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ALKALI DEVELOPING TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON GREEN SHEET BY USING THE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びその樹脂組成物を用いたグリーンシート上へのパターン形成方法。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK USING THE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク - 特許庁

The polybenzoxazole resin can be obtained in a positive pattern by exposing the photosensitive resin composition and developing the exposed photosensitive resin composition.例文帳に追加

そして、感光性樹脂組成物を露光および現像してポジ型のパターンでポリベンゾオキサゾール樹脂を得る。 - 特許庁

LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF LIGHT-SHIELDING COMPOSITION, SOLDER RESIST, PATTERN FORMING METHOD AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE例文帳に追加

遮光性組成物、遮光性組成物の製造方法、ソルダレジスト、パターン形成方法、及び固体撮像素子 - 特許庁

To provide a composition for forming a porous pattern, capable of forming the porous pattern with a controlled structure by easy processes and, moreover, capable of forming the pattern only in a desired area, to provide the porous pattern, and to provide a method for forming the porous pattern.例文帳に追加

構造の制御された多孔質パターンを容易なプロセスで、しかも、所望の場所のみに形成することができる多孔質パターン形成用組成物、多孔質パターンおよびその形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID STATE IMAGING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition having high sensitivity, giving a pattern with a high rate of a residual film and excellent in the resolution and pattern shape of a minute pattern.例文帳に追加

高感度で高残膜率のパターンを得られ、同時に微細パターンの解像性及びパターン形状に優れた感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for suppressing failure of a pattern, when resolving a minute pattern, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

微細なパターンを解像しようとするときのパターン倒れを抑制したポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition giving a relief pattern with high sensitivity, and to form a cured relief pattern having chemical resistance in the pattern after curing on a substrate.例文帳に追加

本発明の感光性樹脂組成物は、高感度でレリーフパターンが得られ、硬化後のパターンに耐薬品性を有する硬化レリーフパターンを基板上に形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition from which a resist pattern excellent in lithographic characteristics and a resist pattern profile and having high sensitivity can be formed, and to provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a novel pattern forming method by which a high-definition pattern can easily be formed, and to provide a photo-sedimentation type composition suitable for such a pattern forming method.例文帳に追加

高精細パターンを簡便に形成できる新規なパターン形成方法と、このようなパターン形成方法に好適なフォト沈降型組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a base material for a pattern forming material, a positive resist composition, and a method for forming a resist pattern which enable a pattern with reduced line edge roughness (LER) to be formed.例文帳に追加

ＬＥＲの低減されたパターンが形成できるパターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

METALLIC FILM-FORMING METHOD, METALLIC FILM-FORMING SUBSTRATE, METALLIC FILM, METALLIC PATTERN-FORMING METHOD, METALLIC PATTERN-FORMING SUBSTRATE, METALLIC PATTERN, AND POLYMER LAYER-FORMING COMPOSITION例文帳に追加

金属膜形成方法、金属膜形成用基板、金属膜、金属パターン形成方法、金属パターン形成用基板、金属パターン、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁

To provide a composition for forming an electroless plating pattern, from which an electroless plating pattern can be accurately formed, and to provide a coating liquid and a method for forming an electroless plating pattern.例文帳に追加

無電解メッキパターンを正確に形成できる無電解メッキパターン形成用組成物、塗布液、及び無電解メッキパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming both a high density pattern and an isolated pattern with good profiles even when an ultrafine resist pattern is formed.例文帳に追加

超微細なレジストパターンを形成する場合においても、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成できるポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for microfabrication of a resist pattern which is used for miniaturizing the line width of a resist pattern in a step of forming a resist pattern in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスにおけるレジストパターンの形成段階でレジストパターンの線幅微細化に使用されるレジストパターン微細化組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity, enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and ensures little residual film in an unexposed portion, and a pattern forming method using the negative resist composition.例文帳に追加

感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能で、未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enables formation of a pattern having good pattern collapse resistance and few development defects, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れが良好であり、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has excellent sensitivity and resolution and reduces a dimensional difference between a sparse pattern and a dense pattern, and a manufacturing method of relief pattern and an electronic component using the resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力に優れ、且つ疎密パターン寸法差を小さくするネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition, a method of forming a pattern using the positive photosensitive resin composition, and a semiconductor device having a photoresist pattern obtained by the method of forming a pattern.例文帳に追加

ポジティブ型感光性樹脂組成物、ポジティブ型感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、パターン形成方法によって得られるフォトレジストパターンを有する半導体素子を提供する。 - 特許庁

PHOTO-CURABLE NANOIMPRINT COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION, AND NANOIMPRINT REPLICA MOLD COMPRISING CURED PRODUCT OF THE COMPOSITION例文帳に追加

光硬化性ナノインプリント用組成物、該組成物を用いたパターンの形成方法、及び該組成物の硬化体を有するナノインプリント用レプリカ金型 - 特許庁

To provide a new acid generator for a resist composition, a resist composition containing the acid generator, and a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の新規酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIN FOR USE IN THE RESIST COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD WITH THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジスト組成物、該レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL USING THE COMPOSITION例文帳に追加

フォトレジスト組成物、前記フォトレジスト組成物を利用したパターンの形成方法、及びこれを利用した薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

NOVEL COMPOUND, POLYMER COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

新規な化合物、高分子化合物、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION, BOARD WITH PHOTOSENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE POLYAMIDEIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性ポリアミドイミド樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF LCD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PRODUCING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTI-REFLECTION FILM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND PANEL HAVING PATTERN CALCINED BY USING SAME例文帳に追加

感光性ペースト組成物及びそれを用いて焼成物パターンを形成したパネル - 特許庁

RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMING USING THE SAME, AND METHOD FOR FORMING CAPACITOR例文帳に追加

樹脂組成物、これを利用したパターン形成方法、及びキャパシタ形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁