「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁

PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

BASE POLYMER FOR RESIST COMPOSITION, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト組成物用ベースポリマー並びにレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁

POLYMER FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

感光性組成物用重合体およびこれをもちいたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, OPTICAL DEVICE, AND SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

COMPOUND FOR RESIST, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト用化合物、感放射線性組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

ACID-SENSITIVE COPOLYMER, RESIST COMPOSITION, AND FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

酸感応性共重合体、レジスト組成物及びレジストパタ—ンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE ELECTRON BEAM RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

POLYMER, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

重合体、感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND PHOTO-SEDIMENTATION TYPE COMPOSITION USED FOR THE METHOD例文帳に追加

パターンの形成方法、及び該方法に用いられるフォト沈降型組成物 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FORMED WITH PATTERN例文帳に追加

重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、パターン形成方法、及び薄膜トランジスタアレイ基板 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF RESIST PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RESIN PATTERN USING THE SAME AND DISPLAY ELEMENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、それを用いた硬化樹脂パターン及び表示素子 - 特許庁

POSITIVE THERMOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型感熱性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING-THERMOSETTING RESIN COMPOSITION AND RESINOUS INSULATION PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及び樹脂絶縁パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN USING THE SAME AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

NOVEL COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING HIGH-ASPECT-RATIO RESIST PATTERN例文帳に追加

新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子デバイス - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND FLUORINE-CONTAINING RESIN例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法および含フッ素樹脂 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

サーマルフロー用化学増幅型ポジレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING PHOTOSENSITIVE RESIST UNDERLAYER FILM AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in resolution of an isolated pattern and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

孤立パターンの解像性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolution and giving a resist pattern of good rectangularity and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

高解像性で、矩形性の良好なレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of improving the standing wave of a side wall of a resist pattern and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

レジストパターン側壁のスタンディングウェーブを改善できるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION AND BAKED MATERIAL PATTERN FORMED USING THE SAME例文帳に追加

感光性ペースト組成物及びそれを用いて形成された焼成物パターン - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING MATERIAL, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PATTERNED FILM, ANTIREFLECTION FILM, INSULATING FILM, OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ポジティブ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING POROUS FILM, METHOD FOR FORMING PATTERN AND POROUS SACRIFICE FILM例文帳に追加

多孔質膜形成用組成物、パターン形成方法、及び多孔質犠性膜 - 特許庁

UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN例文帳に追加

液浸用上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

DIPROPYLENE GLYCOL DIALKYL ETHER AND SOLVENT COMPOSITION FOR FORMING PATTERN OF ELECTRONIC PART例文帳に追加

ジプロピレングリコールジアルキルエーテル、及び電子部品パターン形成用溶剤組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

METHOD FOR CURING PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物の硬化方法、及びレリーフパターンの製造方法 - 特許庁