「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

FILM-FORMING RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIN PATTERN, AND THE RESULTANT RESIN PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用樹脂組組成物、感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法及びそれにより得られた樹脂パターン、並びに電子デバイス - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN例文帳に追加

ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁

HEAT RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

耐熱感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体デバイス - 特許庁

A display control device includes a pattern data generation part (10) and data composition parts (12 and 28).例文帳に追加

パターンデータ生成部（１０）と、データ合成部（１２、２８）とを備える。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING PROCESS例文帳に追加

感放射線性組成物、その製造方法、ならびにパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物の製造方法、及びそれを用いたレリーフパターン - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR FILM FORMATION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF RESIN PATTERN, RESIN PATTERN OBTAINED BY THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用樹脂組成物、感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法およびそれにより得られた樹脂パターン、ならびに電子デバイス - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for producing a flat pattern so that the pattern is not made spherical when the composition is cured by heating in photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法での加熱硬化の際にパターンが球面化せず、平坦なパターンを製造できるポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANO-IMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

熱リソグラフィー用レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

HARDENING RESIN COMPOSITION FOR COLOR PATTERN, COLOR FILTER AND LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加

着色パターン用硬化性樹脂組成物、カラーフィルター、及び、液晶パネル - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN, LAMINATE AND DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、積層体、及びデバイス - 特許庁

SILICON-CONTAINING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ケイ素含有レジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME例文帳に追加

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is used to manufacture a pattern.例文帳に追加

また、上記ポジ型感光性樹脂組成物を用いてパターンを製造する。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RELIEF PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁

HIGHLY ELECTROCONDUCTIVE INK COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING METALLIC ELECTROCONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

高導電性インク組成物および金属導電パターンの作製方法 - 特許庁