「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RELIEF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物の製造方法、及びそれを用いたレリーフパターン - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

下層膜形成用組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING PROCESS例文帳に追加

感放射線性組成物、その製造方法、ならびにパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANOIMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST, AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びパターン製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANO-IMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, RESIST LAMINATE, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

熱リソグラフィー用レジスト組成物、レジスト積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID-FORMING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

FILM-FORMING RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIN PATTERN, AND THE RESULTANT RESIN PATTERN, AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

膜形成用樹脂組組成物、感光性樹脂組成物、樹脂パターンの製造方法及びそれにより得られた樹脂パターン、並びに電子デバイス - 特許庁

COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIN FOR RESIST, RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide a new resist composition and a new resist pattern forming method.例文帳に追加

新規なレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを利用したパターンの形成方法 - 特許庁

HIGHLY ELECTROCONDUCTIVE INK COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING METALLIC ELECTROCONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

高導電性インク組成物および金属導電パターンの作製方法 - 特許庁

WOODGRAIN PATTERN-FORMING THERMOPLASTIC RESIN COMPOSITION AND WOODGRAIN PATTERNED MOLDED PRODUCT例文帳に追加

木目模様形成熱可塑性樹脂組成物及び木目模様成形品 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、レリーフパターンの製造法および電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND METHOD FOR FORMING SOLDER RESIST PATTERN例文帳に追加

ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

HEAT RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

耐熱感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体デバイス - 特許庁