「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物及びパターンの製造方法並びに電子部品 - 特許庁

To provide a resist composition which suppresses the dimensional changes in a resist pattern due to the effect of change in passage of time, and to provide a resist pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

経時の影響によるレジストパターンの寸法変動が抑制されたレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR FABRICATING LCD AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND PERMANENT PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, NEW COMPOUND AND ACID-GENERATING AGENT例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

NEW COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING HIGH-ASPECT-RATIO RESIST PATTERN例文帳に追加

新規コポリマー、ホトレジスト組成物、および高アスペクト比のレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, NEW COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 - 特許庁

FILM-FORMING COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD AND THREE-DIMENSIONAL MOLD USING THE SAME例文帳に追加

膜形成組成物、これを用いたパターン形成方法及び三次元モールド - 特許庁

RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE PASTE COMPOSITION FOR CALCINATION AND CALCINED PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

焼成用感光性ペースト組成物及びそれを用いた焼成物パターン - 特許庁

PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法、感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, FORMED PRODUCT HAVING IRREGULAR PATTERN AND FORGERY-PROTECTING PAPER例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、凹凸パターンの形成物及び偽造防止用紙 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, HIGH MOLECULAR COMPOUND, AND COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

OPTICALLY ACTIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

光活性化合物及び感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING NEW POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

新規なポジ型感光性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PART USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターンの製造法及びこれを用いた電子部品 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST LOWER LAYER FILM, RESIST LOWER FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜およびパターン形成方法 - 特許庁

HEAT-RESISTANT PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF MANUFACTURING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

耐熱感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND PRODUCTION OF PATTERN USING THAT例文帳に追加

感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, POLYMERIZABLE COMPOUND, RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、重合性化合物、樹脂及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST FILM, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

フォトレジストフィルム、感光性樹脂組成物層およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

LIQUID-REPELLENT, ALKALI-RESISTANT COATING COMPOSITION AND COATING SUITABLE FOR PATTERN FORMING例文帳に追加

撥液、アルカリ耐性コーティング組成物及びパターン形成に適するコーティング - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD USING SAME例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ADDITIVE, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

添加剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

COMPOSITION FOR PHOTORESIST COATING, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジストコーティング用組成物、フォトレジストパターン形成方法及び半導体素子 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR LASER RESOLUTION, AND PATTERN FORMING MATERIAL IN USE THEREOF例文帳に追加

レーザー分解用樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成材料 - 特許庁

RESIN COMPOSITION FOR LASER DECOMPOSITION, AND PATTERN-FORMING MATERIAL BY USING THE SAME例文帳に追加

レーザー分解用樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

リソグラフィ用反射防止膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND ION IMPLANTATION METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及びイオンインプランテーション方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND FILM FOR PROTECTION OF SUBSTRATE例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物、パターン形成方法及び基板保護用フィルム - 特許庁

COMPOSITION FOR COATING FILM FORMATION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

塗布膜形成用組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

SPOT PATTERN MOLDING, COLORED RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

斑点模様成形品及び着色樹脂組成物とその製造方法 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION FOR PRINTING AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

印刷用硬化性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁