「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

ALKALINE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アルカリ現像型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIGHT-BLOCKING PATTERN FORMATION OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加

プラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

(CO)POLYMER, MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

（共）重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LCD SUBSTRATE, AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ＬＣＤ基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DISPLAY SUBSTRATE, AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ディスプレイ基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レリーフパターンの製造方法、及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THAT例文帳に追加

ポリイミド前駆体組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、及び永久パターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

CURABLE SILICONE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

水溶性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING CONDUCTIVE COMPOSITION, BAKED PRODUCT PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

光硬化性導電組成物、焼成物パターン及びプラズマディスプレイパネル - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びこれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR ACID TRANSFER, ACID TRANSFER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

酸転写用組成物、酸転写用膜及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIN CURED OBJECT例文帳に追加

硬化性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び樹脂硬化物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

CURING COMPOSITION FOR TRANSCRIPTION MATERIAL AND METHOD FOR FORMING MINUTE PATTERN例文帳に追加

転写材料用硬化性組成物および微細パターン形成方法 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN USING SAME, AND COLOR FILTER例文帳に追加

感光性樹脂組成物ならびにこれを用いたパターンおよびカラーフィルタ - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD BY USING SAME例文帳に追加

感光性ポリイミド組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ANTIREFLECTION FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁