「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE THEREOF, CURED PRODUCT THEREOF AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method for formation of a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a method for forming a resin pattern using the composition.例文帳に追加

感光性樹脂組成物および該組成物を用いた樹脂パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM, AND RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON SUBSTRATE BOTH USING COMPOSITION例文帳に追加

レジスト下層膜用組成物、これを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition; and to provide a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

RESIN FOR UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION, UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜形成組成物用樹脂、上層膜形成組成物、及びフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

CURING RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR LASER AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

半導体レーザー用硬化型樹脂組成物及びその組成を使用したレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTORS, AND METHOD FOR RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION USING THIS COMPOSITION例文帳に追加

半導体用レジスト組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, TOPCOAT COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE THEREOF, CURED PRODUCT THEREOF, AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、および酸発生剤 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

ALUMINUM-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

アルミニウム含有感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING RESIST PROTECTIVE FILM AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加

レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

CURABLE SILICONE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

WATER-SOLUBLE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

水溶性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSETTING CONDUCTIVE COMPOSITION, BAKED PRODUCT PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

光硬化性導電組成物、焼成物パターン及びプラズマディスプレイパネル - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び半導体装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RIB PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、リブパターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

SALT, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

(CO)POLYMER, MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

（共）重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LCD SUBSTRATE, AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ＬＣＤ基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, DISPLAY SUBSTRATE, AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、ディスプレイ基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁