「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE FLUORINE-CONTAINING RESIN COMPOSITION, HARDENED FILM OBTAINED FROM THE COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

感光性含フッ素樹脂組成物、該組成物から得られる硬化膜、およびパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a method for forming a resin pattern using the composition.例文帳に追加

感光性樹脂組成物および該組成物を用いた樹脂パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM, AND RESIST UNDERLAY FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN ON SUBSTRATE BOTH USING COMPOSITION例文帳に追加

レジスト下層膜用組成物、これを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線または感放射線樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of forming a pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE THEREOF, CURED PRODUCT THEREOF AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

OXOALKYL GROUP-CONTAINING SULFONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION例文帳に追加

オキソアルキル基を有するスルホニウム塩化合物、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIN FOR UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION, UPPER LAYER FILM FORMING COMPOSITION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜形成組成物用樹脂、上層膜形成組成物、及びフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁

CURING RESIN COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR LASER AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

半導体レーザー用硬化型樹脂組成物及びその組成を使用したレジストパターン形成方法 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, TOPCOAT COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、レジスト組成物、トップコート組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTORS, AND METHOD FOR RESIST-FILM AND PATTERN FORMATION USING THIS COMPOSITION例文帳に追加

半導体用レジスト組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAMINATE THEREOF, CURED PRODUCT THEREOF, AND PATTERN FORMING METHOD USING COMPOSITION例文帳に追加

感光性樹脂組成物、その積層体、その硬化物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM, AND METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN例文帳に追加

感光性組成物、感光性フィルム、及び、永久パターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物および酸発生剤 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

UPPER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION, UPPER LAYER FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

上層膜形成組成物、上層膜およびパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、重合体、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 - 特許庁

SALT, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターンの形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RELIEF PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RELIEF PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び半導体装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RIB PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、リブパターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁

PASTE COMPOSITION FOR FORMING HEAT-RESISTANT ELECTROCONDUCTIVE PATTERN ON BASE PLATE例文帳に追加

耐熱性導電パターンを基板に形成するためのペースト組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN OBTAINED FROM IT, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これから得られるパターン、及び表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, PATTERN PRODUCING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターン製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM例文帳に追加

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁