「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

ANTIREFLECTION FILM FORMING COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

反射防止膜形成用組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER, AND COMPOUND例文帳に追加

フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法および半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト組成物及びこれを用いるフォトレジストパターンの形成方法 - 特許庁

AQUEOUS ZINC INK PASTE COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION OF TIN OXIDE FILM例文帳に追加

酸化錫膜のパタ−ン形成用水性亜鉛インクペ−スト組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PATTERN OF THE SAME例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびそのパターンを有する半導体装置 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR, DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION, FORMING METHOD OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト組成物、フォトレジストパターンの形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性フィルム及びレジストパターンの製造法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN SAME例文帳に追加

パターン形成方法およびそれに用いる感光性樹脂組成物 - 特許庁

DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

分解性樹脂組成物及びそれを用いるパターン形成材料 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

The invention provides a silicone rubber composition for the correction of a tire pattern model.例文帳に追加

タイヤパターンモデルの修正に用いられるシリコーンゴム組成物である。 - 特許庁

COMPOUND, ACID-GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

樹脂の製造方法、樹脂、レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-sensitive composition developable with an aqueous alkali developing solution without swelling a fine pattern and excellent also in shelf stability and to provide a pattern forming method using the composition and a method for producing a semiconductor device using the composition.例文帳に追加

水性アルカリ現像液で微細パタンが膨潤することなく現像でき、かつ保存安定性にも優れた感放射線組成物を提供することにある。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED SUBSTRATE例文帳に追加

感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MANUFACTURE OF RESIST PATTERN BY USING THE SAME, AND ELECTRIC CIRCUIT BOARD EACH BY USING THE RESIT PATTERN MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いたレジストパターンの製造法及び電気回路板の製造法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN, COLOR FILTER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、およびパターン、カラーフィルタ、並びに画像表示装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE, RESIST PATTERN FORMATION METHOD AND CONDUCTOR PATTERN MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法及び導体パターン製造方法 - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, ITS CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD WITH THE CURED PRODUCT PATTERN例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びその硬化物パターン、並びに該硬化物パターンを具備するプリント配線板 - 特許庁

To provide a resist composition that can form a resist pattern of excellent shape, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED SUBSTRATE例文帳に追加

感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

BLACK PASTE COMPOSITION, FORMING METHOD OF BLACK MATRIX PATTERN USING SAME, AND ITS BLACK MATRIX PATTERN例文帳に追加

黒色ペースト組成物、及びそれを用いたブラックマトリックスパターンの形成方法、並びにそのブラックマトリックスパターン - 特許庁

PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, ITS CURED PRODUCT PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD WITH CURED PRODUCT PATTERN例文帳に追加

光硬化性樹脂組成物及びその硬化物パターン、並びに該硬化物パターンを具備するプリント配線板 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD OF METAL OXIDE THIN FILM AND COMPOSITION FOR FORMATION OF METAL OXIDE THIN FILM PATTERN例文帳に追加

金属酸化物薄膜のパターン形成方法および金属酸化物薄膜パターン形成用組成物 - 特許庁

This method for forming the nanometer order pattern comprises forming the nanometer order pattern with the polymer composition.例文帳に追加

この重合体組成物を用いてナノオーダーパターンを形成するナノオーダーパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PHOTOSENSITIVE FILM, PERMANENT PATTERN, METHOD FOR FORMING PERMANENT PATTERN, AND PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

感光性組成物、並びに、感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法、及びプリント基板 - 特許庁

RESIN, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION COMPRISING THE RESIN, PROTECTING FILM-FORMING COMPOSITION COMPRISING THE RESIN, PATTERN-FORMING METHOD USING THE POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PROTECTING FILM-FORMING COMPOSITION例文帳に追加

樹脂、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物、該樹脂を含有する保護膜形成組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該保護膜形成組成物を用いたターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN USING THE SAME COMPOSITION, AND COMPOUND USED IN THE SAME COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFYING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is used to manufacture a pattern.例文帳に追加

また、上記ポジ型感光性樹脂組成物を用いてパターンを製造する。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁