「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a photosensitive coloring composition for obtaining a pattern having excellent linearity and not causing a defect, wherein light resistance and solvent resistance of the obtained colored pattern are excellent.例文帳に追加

パターンの直線性が良好で、カケが生じない良好なパターンが得られ、且つ、得られた着色パターンの耐光性が良好で耐溶剤性に優れる着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method that excels in exposure latitude and sensitivity, which can form a pattern that also excels in line-width variation, and to provide a chemically-amplified resist composition using the method.例文帳に追加

線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of striking a balance between excellent pattern configuration and excellent roughness properties; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

優れたパターン形状と優れたラフネス特性とを両立させ得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray or radiation-sensitive resin composition with an improved pattern profile and improved line edge roughness, which is excellent in storage stability, and a pattern forming method using it.例文帳に追加

パターンプロファイルやラインエッジラフネスを改善し、さらに保存安定性の良い感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition forming a resist pattern which is prevented from top loss and pattern collapse and has good squareness and sufficient LWR suppressing performance.例文帳に追加

トップロスを抑制して矩形性が良好であり、ＬＷＲ抑制能も満足し、かつパターン倒れが抑制されたレジストパターンを形成可能な感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for suppressing formation of a T-shaped top in a pattern after developed, and suppressing wrinkles or generating flows induced in a pattern, after post-baking.例文帳に追加

現像後のパターンがＴ−Ｔｏｐ形状となることを抑制し、かつ、ポストベーク後のパターンにシワを生じたり、フローを生じたりすることを抑制できる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

On the other hand, the pattern molded article Z is manufactured by a lamination shaping method using a heat-resistant thermoplastic resin composition to integrally form a pattern having an uneven shape or a groove shape.例文帳に追加

一方、パターン成形物Ｚは、積層造形法により、耐熱性の熱可塑性樹脂組成物を使用して凹凸形状や溝形状等のパターンを一体的に形成する。 - 特許庁

The multicolored pattern coating film is formed using the multicolored pattern coating material composition containing the double-color amorphous colored particle 10 including a plurality of amorphous materials 11a, 11b having different colors.例文帳に追加

色の異なる複数の不定形物１１ａ，１１ｂからなる複色不定形着色粒子１０を含有する多彩模様塗料組成物を用いて多彩模様塗膜を形成する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition with which a resist pattern excellent in adhesion to a substrate is formed and which is suited for the manufacture of a system LCD (liquid crystal display), and provide a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

基板に対する密着性の良好なレジストパターンを形成でき、システムＬＣＤ製造用として好適なポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a salt achieving even better line edge roughness (LER) in a formed pattern, a resist composition comprising the salt, and a method for forming a pattern.例文帳に追加

得られるパターンにおいて、さらに良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を実現することができる塩、この塩を含有するレジスト組成物及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The processing liquid for forming the pattern due to the chemically amplified resist composition contains a resin soluble in an organic solvent and the organic solvent, and the method for forming the resist pattern using it is provided.例文帳に追加

有機溶剤に可溶な樹脂と有機溶剤とを含有する化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern in which good soldering and gold plating can be carried out after resist pattern formation using a conventional solder resist composition, especially a solder resist dry film.例文帳に追加

従来のソルダーレジスト組成物、特にソルダーレジストドライフィルムを用いてレジストパターン形成後、続いて良好な半田付け、金めっきを行なうことができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for dry development with which it is possible to form a high resolution pattern with low line edge roughness in a silylation process, and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

シリル化プロセスにおいて、低ラインエッジラフネスで、高解像度なパターンの形成が可能となるドライ現像用の感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high heat resistance and dissolving property and capable of forming a pattern with excellent resolution and perpendicularity, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

耐熱性、溶解性が高く、且つ解像性、垂直性に優れるパターンを形成することができるポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity, resolution, and moreover, a pattern profile and line edge roughness relating to pattern formation by irradiation of X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

Ｘ線、電子線又はイオンビームの照射によるパターン形成に関して、感度、解像力に優れ、更にはパターン形状、ラインエッジラフネスにも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition suitable for exposure with light having a wavelength shorter than 200 nm and forming a high resolution resist pattern, and also to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having enhanced lithographic characteristics and capable of forming fine resist pattern having a satisfactory shape in a resist film having a super thin film, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

超薄膜のレジスト膜において、リソグラフィー特性が向上し、良好な形状の微細なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To obtain an insulating resin composition having characteristics excellent in high adhering property of a circuit pattern, fine pattern-forming property, high heat resistance, low thermal expansion coefficient, or the like, and to provide a multi-layered printed circuit board.例文帳に追加

回路パターンの高密着性、微細パターン形成性、高耐熱性、低熱膨張率などに優れた特性の絶縁性樹脂組成物および多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the biochip, a pattern obtained from the radiation-sensitive composition is formed on a substrate surface by a lithography method, and the pattern is used as reforming domain.例文帳に追加

本発明のバイオチップの製造方法は、リソグラフィー法により基板の表面に感放射線性組成物から得られるパターンを形成し、該パターンを改質領域とすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high planarization performance and high sensitivity in combination in an application of a transparent curing resin pattern and having high productivity of the transparent curing resin pattern.例文帳に追加

透明硬化樹脂パターン用途において高い平坦化性能や高い感度等を兼ね備え、透明硬化樹脂パターンの生産性の高い感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a high sensitivity photosensitive resin composition comprising a polyimide precursor, developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability and to provide a new positive pattern forming method.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能でポジ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体からなる高感度の感光性樹脂組成物と新規なポジ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for an ion implantation process which is high in the uniformity of resist pattern dimension in a step part of a substrate and is excellent in an embedding property in the step part, and to provide a method of forming a pattern using the resin composition for the ion implantation process.例文帳に追加

基板の段差部におけるレジストパターン寸法の均一性が高く、段差部の埋込性が良好である、イオン注入工程用の樹脂組成物及び該イオン注入工程用の樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitable for ArF excimer laser lithography and has preferable line edge roughness in addition to performances such as resolution, sensitivity and a pattern shape, and to provide a chemically amplified positive resist composition in which the pattern can be more finely divided in a reflow process.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that excels in the roughness characteristics, exposure latitude, depth of focus, and development defect performance and that allows to form a pattern of favorable configuration, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a paste composition used to form an electrode and wiring of a flat panel display, a member of an advanced mounting material, a solar cell and the like, a pattern forming method using the composition, and a method of manufacturing an electrode using the pattern forming method.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイ、高度実装材料の部材および太陽電池などの電極や配線の形成に用いられるペースト組成物、該組成物を用いたパターン形成方法ならびに該パターン形成方法を用いた電極の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for a UV ray laser, the composition capable of forming a pattern having high sensitivity of line width and excellent linearity and heat resistance, and to provide a pattern forming method, a method for manufacturing a color filter, a color filter and a display device.例文帳に追加

線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるパターンを形成しうる紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for liquid immersion exposure and improved in such problems as collapse of a resist pattern due to post exposure delay between steps of exposure and PEB (post exposure bake), deterioration in the profile and production of scum during liquid immersion exposure, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化、スカムの発生が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having the pattern formability by an alkali developer and satisfactory re-adhesivity after exposure as well, and to provide an adhesive film, an adhesive sheet and an adhesive pattern each using the composition, and a semiconductor device.例文帳に追加

アルカリ現像液によるパターン形成性を有すると共に、露光後の十分な再接着性を有する感光性接着剤組成物、及びそれを用いた接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、並びに半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide: a radiation-sensitive composition for nanoimprint, sufficiently satisfying basic characteristics such as hardenability and excellent in etching resistance, in forming a pattern by means of a nanoimprint method; and a method for forming a pattern using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

本発明の目的は、ナノインプリント法によるパターン形成において、硬化性等の基本特性を十分満足すると共に、エッチング耐性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive type photoresist composition for thick films capable of forming a thick-film resist pattern having high resolution and dimension controllability, and having favorable rectangularity, and to provide a production method of a thick-film resist pattern using such composition.例文帳に追加

解像性、寸法制御性が高く、かつ、矩形性の良好な厚膜レジストパターンを形成可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物、及びそのような組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition capable of forming a space pattern excellent in heat resistance and having a high aspect ratio on a thick film board with good perpendicularity and resolution and to provide a board with a photosensitive film, a resist pattern forming method and a method for preparing the photoresist composition.例文帳に追加

厚膜基板上で、耐熱性に優れ、高アスペクト比のスペースパターンを垂直性、解像性よく形成可能なポジ型ホトレジスト組成物、感光性膜付基板、レジストパターンの形成方法およびポジ型ホトレジスト組成物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition having excellent sensitivity, PEB (post exposure bake) temperature dependence and roughness characteristics and allowing formation of a pattern with a favorable feature, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ＰＥＢ温度依存性及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light or radiation sensitive resin composition which allows formation of a pattern having less water residue defects, bubble defects, and development residue defects and is superior in LWR, and a pattern forming method using this resin composition.例文帳に追加

水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition and a method for forming a resist pattern, by which a fine resist pattern can be formed with favorable lithographic characteristics, and to provide a new polymeric compound useful for the resist composition, and a compound useful as a monomer of the polymeric compound.例文帳に追加

微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition very excellent in heat resistance, enabling formation of a resist pattern having good adhesion to a substrate and suitable for a light shielding film such as a black matrix and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

耐熱性が顕著に優れ、基板との密着性が良好なレジストパターンを形成することができ、ブラックマトリックスなどの遮光膜としての用途に好適なレジスト組成物と、該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition of which a first resist pattern is insolubilized to form an insolubilized resist pattern having sufficient stability to subsequent exposure, a developer and a second positive radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

第一のレジストパターンを不溶化させ、その後の露光処理、並びに現像液及び第二のポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having proper sensitivity and superior raw stock preservability by using an oxime derivative and a specific sensitizer, a photosensitive film, a permanent pattern forming method using the photosensitive composition, and to provide a printed circuit board on which a permanent pattern is formed by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

オキシム誘導体と特定の増感剤を用いることにより、感度が良好で、かつ生保存性に優れる感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative tone development, which reduces line edge roughness, enhances in-plane uniformity of a pattern dimension and shows excellent bridge margin, so as to stably form a high precision fine pattern for manufacturing a highly integrated electronic device with high precision, and to provide a method for forming a pattern using the resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ラインエッジラフネスを低減し、パターン寸法の面内均一性を高め、更にはブリッジマージンに優れたネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition for forming a pattern satisfying demands for high sensitivity, high resolution (for example, high resolving power, an excellent pattern profile and small line edge roughness (LER)) and good dry etching durability, and to provide a resist film, a resist-coated mask blank, a resist pattern forming method and a photomask using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin capable of forming an overcrowded pattern and an isolated pattern both excellently in shapes when a fine resist pattern of ≤0.35 μm is formed, excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and having no change in resin composition in each molecular weight region, a method of synthesizing the same and a positive-type photoresist composition using the same.例文帳に追加

０．３５μｍ以下の微細なレジストパターンを形成する場合に、密集パターン、孤立パターン共に形状良く形成でき、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れ、各分子量域において樹脂組成の違いのないフェノールノボラック樹脂、その合成方法およびそれを用いたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for forming a resist pattern that has remedied collapse of the resist pattern, line edge roughness and generation of scum and that has little degradation in the profile and good follow-up property to an immersion liquid during immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the photosensitive resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition which improves the adhesion of a pattern formed using a colored photosensitive resin composition to a substrate, does not cause peeling of a minute pattern after development and prevents occurrence of a bite shape between a pattern and a substrate and to provide a color filter using the same and a method for producing the same.例文帳に追加

着色感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンと基板との密着性を改良し、現像後に微小パターンの剥離を起こさず、パターンと基板との間の食い込み形状の発生を防止した着色感光性樹脂組成物並びにこれを用いたカラーフィルター及びその製造方法を提供する。 - 特許庁