「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目)

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composition patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4879件

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例文

To provide a resist composition that forms a resist pattern improved in the collapse of the resist pattern, line edge roughness and the generation of scum, less liable to the deterioration of the profile, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure; and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Or, after coating the rough surface in the recessed groove with a coating resin composition, the conductive composition is filled in the space of the remaining recessed groove and printed, and thereby, the rough surface of the conductor pattern layer is formed on the surface of the conductive composition layer as the surface of the coating resin layer in which the coating resin composition is solidified on the surface of the conductive composition layer.例文帳に追加

或いは、凹状溝内の粗面を被覆樹脂組成物で被覆した後、残りの凹状溝の空間に導電性組成物を充填して印刷することで、導電性組成物層表面に被覆樹脂組成物が固化した被覆樹脂層の面として導電体パターン層の粗面を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used for fabrication processes of semiconductors such as ICs, for manufacturing circuit boards of liquid crystals, thermal heads or the like and other photofabrication processes, the composition being excellent in the dependency on a pattern density, line edge roughness and a pattern profile and improved in the sensitivity in exposure to EUV light and a dissolution contrast; and to provide a pattern forming method using the photosensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new uncolored radiation sensitive resin composition having a high transmittance to visible light, capable of easily forming a cured resin pattern of an objective shape because of a wide range of proper development condition, and capable of forming a cured resin pattern excellent in chemical resistance because the composition has a crosslinkable group, and to provide a cured resin pattern formed using the radiation sensitive resin composition.例文帳に追加

着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、適正な現像条件の範囲が広いので、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成でき、さらに架橋基を有するので耐薬品性に優れた硬化樹脂パターンが形成できる新たな感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁

例文

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

例文

To provide a sensitive composition by which roughness is reduced and outgas is suppressed, a compound used for the sensitive composition, and a pattern forming method using the composition, while the sensitive composition is used for a semiconductor manufacturing process of an IC or the like, manufacture of a liquid crystal, a thermal head or the like, and other fabrication processes, and a pattern forming method using the sensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラフネスが低減し、アウトガスが抑制された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for exposure by x-ray, electron beam or EUV light that is excellent in pattern collapse margin and bridge margin with no residue of a resist composition on a substrate and excellent in resistance to scattered (flare) light, and a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, roughness characteristics and stability with time, and can form a pattern in a favorable shape, and suppresses PEB (post exposure bake) temperature dependence, and to provide a resist film formed by using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

感度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成することができ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an upper layer film-forming composition to be used for an immersion lithography method, the composition capable of improving a depth of focus and giving a good pattern, and to provide an upper layer film obtained from the upper layer film-forming composition, and a pattern forming method using the upper layer film.例文帳に追加

液浸露光法において用いられる上層膜形成組成物であって、焦点深度を向上させることができ、且つ、良好なパターンを得ることができる上層膜形成組成物および該上層膜形成組成物から得られる上層膜並びに該上層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a phenolic resin composition, which shows high elongation even when the composition is applied to a semiconductor device and cured by heat at 250°C or lower, and can be used as an alternative material of a polyimide resin or a polybenzoxazole resin, and to provide a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

半導体装置に適用して、２５０℃以下の熱で硬化させた際でも、伸度が高く、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁

例文

A semiconductor device has the solder bump 20 formed on a substrate 10, and the composition measurement pattern 30 formed on the substrate 10 for measuring the composition of the solder bump 20, the composition measurement pattern 30 having the same volume with the solder bump 20 and larger surface area than the solder bump 20.例文帳に追加

基板１０に形成されたはんだバンプ２０と、前記基板１０に形成されていて前記はんだバンプ１０の組成を測定するための組成測定パターン３０を有し、前記組成測定パターン３０は、前記はんだバンプ２０と同体積を有し、前記はんだバンプ２０の表面積よりも大きい表面積を有する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is a photosensitive composition used in a process of producing a semiconductor of IC or the like, in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and in another photofabrication process, and which is excellent in line edge roughness, resolution and pattern profile, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物であり、ラインエッジラフネス、解像力、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition used for manufacture of a color filter by an ink-jet system which makes a forming process of a pixel pattern simple and low-cost, a color filter having the pixel pattern formed with the resin composition by the ink-jet system and a method for manufacturing the color filter by the ink-jet system utilizing the resin composition.例文帳に追加

画素パターンの形成工程が簡便で低コストのインクジェット方式によりカラーフィルタを製造するために用いる樹脂組成物、該樹脂組成物からインクジェット方式により形成された画素パターンを有するカラーフィルタ、および該樹脂組成物を用いるインクジェット方式によるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The non-filter part is formed of a transparent resin pattern with a pigment removed from a resin of the same composition as that of a color filter material.例文帳に追加

そして、無フィルタ部を、カラーフィルタ材料と同一組成の樹脂から色素を取り除いた透明樹脂パターンで形成する。 - 特許庁

The low molecular weight material suppresses film formation of the ink composition 22 for reverse printing (a transfer layer 22a, a pattern layer) on the blanket 21.例文帳に追加

低分子材料は、反転印刷用インキ組成物２２（転写層２２ａ，パターン層）のブランケット２１上でのフィルム化を抑える。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物層、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that forms an electrode having low volume resistivity and an excellent pattern form.例文帳に追加

本発明は、体積抵抗が低く、パターン形状に優れる電極を形成することができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for dry exposure excellent in development defect suppressing property, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

現像欠陥抑制性に優れるドライ露光用フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ACTINIC-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, FORMING METHOD FOR RESIST PATTERN, AND BONDING METHOD FOR MEMBER TO BE BONDED例文帳に追加

感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of suppressing the generation of a watermark during immersion exposure, and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

液浸露光時にウォーターマークの発生を抑制しうるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition capable of accurately forming a pattern having excellent resolution and a desired shape.例文帳に追加

解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMATION OF COLOR PHOSPHOR PATTERN, PRODUCTION OF PLASMA DISPLAY BACK PATE, PLASMA DISPLAY BACK PLATE AND PLASMA DISPLAY例文帳に追加

着色蛍光体パターン形成用組成物、プラズマディスプレイ背面板の製造方法、プラズマディスプレイ背面板及びプラズマディスプレイ - 特許庁

PHOTOSENSITIVE HIGH MOLECULAR COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING SAME AND PRODUCTION OF CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

感光性高分子化合物，感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法および陰極線管の製造方法 - 特許庁

Such a negative photosensitive resin composition has excellent pattern resolution and excels also in adhesiveness to the opposite bases.例文帳に追加

このようなネガ型感光性樹脂組成物は優れたパターン解像性を有し、且つ対向基盤との接着性にも優れている。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern excellent in thermal stability without generating residue.例文帳に追加

残渣を生ずることなく、熱安定性に優れた着色パターンを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATION GROUP-CONTAINING RESIN FOR USE IN THE SAME例文帳に追加