「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a liquid crystal composition for a pattern retardation film that enables production of a patterned retardation film with a small unevenness on a surface.例文帳に追加

表面の凹凸が小さいパターン位相差フィルムを製造できるパターン位相差フィルム用液晶組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink composition for screen printing which can form a high precision pattern and an electroconductive coated film.例文帳に追加

高精細なパターンを形成することが可能なスクリーン印刷用導電性インキ組成物及び導電性塗膜の提供。 - 特許庁

The non-filter part is formed of a transparent resin pattern with a pigment removed from a resin of the same composition as that of a color filter material.例文帳に追加

そして、無フィルタ部を、カラーフィルタ材料と同一組成の樹脂から色素を取り除いた透明樹脂パターンで形成する。 - 特許庁

The low molecular weight material suppresses film formation of the ink composition 22 for reverse printing (a transfer layer 22a, a pattern layer) on the blanket 21.例文帳に追加

低分子材料は、反転印刷用インキ組成物２２（転写層２２ａ，パターン層）のブランケット２１上でのフィルム化を抑える。 - 特許庁

To provide a method for forming a conductive pattern having a flat surface on a base material, and a composition used in this method.例文帳に追加

基材上に、表面が平坦な導電性パターンを形成する方法およびその方法に用いる組成物を提供する。 - 特許庁

COLORED COMPOSITION FOR LIGHT-SHIELDING FILM, LIGHT SHIELDING FILM, METHOD FOR FORMING LIGHT-SHIELDING PATTERN, SOLID STATE IMAGING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

遮光膜用着色組成物、遮光膜及び遮光パターンの形成方法、並びに固体撮像素子及びその製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSPACER AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOSPACER, PROTECTIVE FILM, COLORED PATTERN, SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性組成物、フォトスペーサー及びフォトスペーサーの製造方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 - 特許庁

The photosensitive adhesive composition has a minimum melt viscosity of not more than 30,000 Pa s as measured at 20°C to 200°C after pattern formation.例文帳に追加

パターン形成後の２０℃〜２００℃における最低溶融粘度が３００００Ｐａ・ｓ以下である感光性接着剤組成物。 - 特許庁

The colored photosensitive resin composition is patterned to form a colored pattern and a color filter can be produced.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングして着色パターンを形成し、カラーフィルターを製造することができる。 - 特許庁

To provide a new colored photosensitive resin composition capable of forming a color filter with less residue and good pattern adhesion.例文帳に追加

残渣が少なく、パターン密着性が良好なカラーフィルタを形成しうる新たな着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING MATERIAL, IMAGE FORMING METHOD, LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR AND METHOD FOR PRODUCING THE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、パターン形成材料、画像形成方法、平版印刷版原版および平版印刷版の作成方法 - 特許庁

CONDUCTIVE INK COMPOSITION, METHOD FOR PRINTING VERY FINE PATTERN USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF TRANSLUCENT ELECTROMAGNETIC SHIELD MEMBER例文帳に追加

導電性インキ組成物とそれを用いた微細パターンの印刷方法および透光性電磁波シールド部材の製造方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition which improves the shape of a resist pattern, that is, rectangularity and film thickness reduction while retaining resolution.例文帳に追加

解像性は維持しつつ、レジストパターンの形状、すなわち、矩形性および膜減りを改善したホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material includes a support and at least a photosensitive layer formed of the photosensitive composition on the support.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に前記感光性組成物からなる感光層を少なくとも有するパターン形成材料である。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION LAYER, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物層、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法およびプリント配線板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition that forms an electrode having low volume resistivity and an excellent pattern form.例文帳に追加

本発明は、体積抵抗が低く、パターン形状に優れる電極を形成することができる感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a resist composition, which is capable of forming a pattern with few defects.例文帳に追加

欠陥の少ないパターンを形成することができるレジスト組成物を製造するレジスト組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern excellent in thermal stability without generating residue.例文帳に追加

残渣を生ずることなく、熱安定性に優れた着色パターンを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATION GROUP-CONTAINING RESIN FOR USE IN THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂 - 特許庁

The ink composition 12 is applied to a substrate 10 in the form of a pattern and a metal plating layer 14 is formed on the ink layer.例文帳に追加

支持体１０上にパターン状にインク組成物１２が塗設され、その上に金属めっき層１４が形成されている。 - 特許庁

A resist pattern modifying material is provided which comprises a water-soluble or alkali-soluble composition consisting of a resin and a crosslinking agent.例文帳に追加

樹脂と架橋剤とからなる水溶性またはアルカリ可溶性の組成物から構成されるレジストパターン改質材料。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet using an aqueous composition comprising a copper complex type yellow pigment.例文帳に追加

．基材シート上に、銅錯体系黄色顔料を含む水性組成物により絵柄模様層が形成されている化粧シート。 - 特許庁

COLORED CURABLE COMPOSITION FOR ULTRAVIOLET LASER EXPOSURE, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY例文帳に追加

紫外光レーザー露光用の着色硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び表示装置 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of forming a black matrix having a high light blocking effect and excellent pattern reproducibility.例文帳に追加

高遮光性および優れたパターン再現性を有するブラックマトリックスを形成できる感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

SURFACE METAL FILM MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, METAL PATTERN MATERIAL, ITS PRODUCTION METHOD, COMPOSITION FOR FORMING POLYMER LAYER, AND NEW POLYMER例文帳に追加

表面金属膜材料、その作製方法、金属パターン材料、その作製方法、ポリマー層形成用組成物、及び新規ポリマー - 特許庁

PHOSPHORUS-CONTAINING COMPOUND, RESIN COMPOSITION BY USING THE SAME, METHOD FOR FORMING PHOTO SENSITIVE FILM AND RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

リン含有化合物及びこれを用いた樹脂組成物、並びに、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

The extrusion molded article with imparted pattern on the surface comprising the polymer composition containing 1,2-polybutadiene.例文帳に追加

１，２−ポリブタジエン含有重合体組成物の押出成形品であって、表面にパターンを有するパターン付与押出成形品。 - 特許庁

The decorative sheet is constituted by forming a pattern layer on a base material sheet using an aqueous composition comprising an isoindoline yellow pigment.例文帳に追加

基材シート上に、イソインドリン系黄色顔料を含む水性組成物により絵柄模様層が形成されている化粧シート。 - 特許庁

POLYMER MANUFACTURING METHOD, POLYMER FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH PATTERN FORMED THEREON例文帳に追加

重合体の製造方法、半導体リソグラフィー用重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法 - 特許庁

To perform high-accuracy composition even if no light-and-shade pattern exists in an overlapping portion of neighboring element mapping images.例文帳に追加

隣接する元素マッピング像のオーバーラップ部分に濃淡のパターンが存在しない場合でも精度の高い合成を可能とする。 - 特許庁

By using the above photosensitive resin composition, the lens sheet having a high-definition light shielding pattern excellent in yellowing resistance can be obtained.例文帳に追加

該感光性樹脂組成物を用いることで、耐黄変性に優た高精細の遮光パターンを有するレンズシートをえることができる。 - 特許庁

POLISHING MATERIAL, CMP SLURRY COMPOSITION, FORMING METHOD OF RTN PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

研磨用材料、ＣＭＰ用スラリー組成物、ＲＴＮパターンの形成方法、半導体素子の製造方法及び半導体素子 - 特許庁

There are also provided a photosensitive dry film, a photosensitive laminated film and a resin pattern using a resin composition containing a polyamide resin having a specific structure.例文帳に追加

特定の構造を有するポリアミド樹脂を含む樹脂組成を用いた、感光性ドライフィルム、感光性積層フィルム、樹脂パターン。 - 特許庁

The resist composition for forming a fine pattern includes an oxime sulfonic acid compound expressed by general formula (1).例文帳に追加

下記一般式（１）で表されるオキシムスルホン酸化合物を含有することを特徴とする微細パターン形成用レジスト組成物。 - 特許庁

SILPHENYLENE-CONTAINING PHOTOCURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR ELEMENT OBTAINED USING THE METHOD例文帳に追加

シルフェニレン含有光硬化性組成物、それを用いたパターン形成方法およびその方法により得られる光半導体素子 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE LAYER, PERMANENT PATTERN, WAFER LEVEL LENS, SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTORESIST COMPOSITION USING THE POLYMER, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト重合体とその製造方法、これを利用したフォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

The coating film using the resin composition is subjected to pattern exposure and development in the method for forming the patterned insulative films.例文帳に追加

パターン状絶縁性被膜の形成方法では、当該樹脂組成物による塗膜にパターン露光および現像が行われる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for forming a transparent cured resin pattern and coating film which have excellent heat resistance.例文帳に追加

耐熱性に優れた透明硬化樹脂パターン及び塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition capable of stably forming a colored pattern whose section has a forward tapered shape.例文帳に追加

断面形状が順テーパー状の着色パターンを安定して形成しうる着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having practical sensitivity and capable of forming a minute negative type resist pattern free from swelling.例文帳に追加

実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSPACER AND METHOD FOR FORMING THE SAME, PROTECTIVE FILM, COLORED PATTERN, SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE, AND DISPLAY DEVICE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、フォトスペーサー及びその形成方法、保護膜、着色パターン、表示装置用基板、並びに表示装置 - 特許庁

To provide a resist composition for producing a resist pattern that has excellent CD uniformity (CDU) and few incidence numbers of defects.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有し、欠陥の発生数が少ないレジストパターン製造用レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating agent for a resist pattern, which is excellent in performance (curing performance) of insolubilizing and curing a resist pattern, and allows an insoluble resist pattern which is sufficiently stable against a subsequent exposure process, a developing solution and a positive radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

レジストパターンを不溶化して硬化させる性能（硬化性能）に優れ、その後の露光処理、現像液、及びポジ型感放射線性樹脂組成物に対して十分に安定な不溶化レジストパターンとすることが可能なレジストパターンコーティング剤を提供する。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition which forms a fine pattern without causing chipping and undercut of a pattern edge even with a small amount of light exposure or generating undissolved residues and scum on a pattern edge in development.例文帳に追加

低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁