「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist composition which enables to form a pattern having excellent line edge roughness (LER) and mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer for a resist composition excellent in exposure margin (EL) and focus margin (DOF) on forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを形成する際の露光マージン（ＥＬ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）に優れるレジスト組成物用の重合体を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT BOARD FOR SEMICONDUCTOR PACKAGE例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び半導体パッケージ用回路基板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for color filters capable of forming a pattern and comprising C.I. Solvent Orange 56 and a photoacid generator.例文帳に追加

パターンを形成しうるＣ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ５６と光酸発生剤とを含むカラーフィルタ形成用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、この樹脂組成物を用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク、並びに、高分子化合物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及びプラズマディスプレイパネル用基板の製造方法 - 特許庁

To provide a photosensitive color composition or the like suppressing exposure illuminance dependency, having a high residual film ratio and little development residue and stably forming a pattern of excellent resolution.例文帳に追加

露光照度依存性を抑え、残膜率が高くかつ現像残渣が少なく、解像性に優れたパターンを安定的に形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent solubility in an organic solvent and good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性に優れ、かつリソグラフィー特性も良好なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having improved balance of the dense and coarse patterns of a resist pattern, improved line edge roughness and an improved margin for exposure.例文帳に追加

レジストパターンの密／粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスや露光マージンが改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁

CURABLE RESIN FOR FORMING PHOTOSENSITIVE PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER, SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL AND LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加

感光性パターン形成用硬化性樹脂、その製造方法、硬化性樹脂組成物、カラーフィルター、液晶パネル用基板、及び、液晶パネル - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, METHOD OF MANUFACTURING PHOTORESIST POLYMER, POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、重合体、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

FLUORINE-CONTAINING SULFONATE HAVING POLYMERIZABLE ANION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, FLUORINE-CONTAINING RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

重合性アニオンを有する含フッ素スルホン塩類とその製造方法、含フッ素樹脂、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST POLYMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMING METHOD OF PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト用単量体、フォトレジスト用重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの形成方法、及び、半導体素子。 - 特許庁

LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND LASER-DECOMPOSABLE PATTERN-FORMING MATERIAL AND FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR OF LASER ENGRAVING TYPE USING THE SAME例文帳に追加

レーザー分解性樹脂組成物並びにそれを用いるレーザー分解性パターン形成材料及びレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版 - 特許庁

To provide a highly strippable photosensitive resin composition and to form a circuit pattern using the same with good productivity and yield.例文帳に追加

剥離性の極めてすぐれた感光性樹脂組成物を提供し、それを用いて極めて生産性、歩留まり良く回路パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition minimized in the performance fluctuation resulting from fluctuation of a baking condition, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ベーク条件の変動による性能変動の小さいポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By containing these compounds, the light-sensitivity of the photosensitive resin composition becomes higher, and a development margin of the pattern becomes larger.例文帳に追加

これらの化合物を含有することで、感光性樹脂組成物は光に対する感度が高くなり、パターンの現像マージンが大きくなる。 - 特許庁

The composition can form a uniform pattern on the surface of a substrate, and does not exert harmful effect on work environment as well.例文帳に追加

この組成物は、基板表面に均一なパターンを形成することが可能であり、さらに、作業環境にも悪影響を与えない。 - 特許庁

The electroplating method using the composition employs a pulse pattern that improves physical properties of the metal surface.例文帳に追加

本発明の組成物を使用する本発明の電気めっき方法は、金属表面の物理的性質を改善するパルスパターンを使用する。 - 特許庁

In another embodiment, the retroreflective ink composition (4) with the mixed color is fixed to the surface of the target cloth (3) so as to draw a prescribed pattern.例文帳に追加

また、前記調合カラー再帰反射性インキ組成物（４）を、対象とする生地（３）の表面に所定の模様を附して固着する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in sensitivity and resolution and satisfying even a rectangular pattern shape and good edge roughness.例文帳に追加

感度と解像性に優れ、更には矩形なパターン形状、良好なエッジラフネスの特性をも満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a new black photosensitive resin composition which can form a color pattern with a wide margin and no production of residue.例文帳に追加

残さを発生させず、広い現像マージンで着色パターンを形成し得る、新たな黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for color filters capable of maintaining good pattern adhesion without producing residues after development.例文帳に追加

現像後残渣を生じることなく良好なパターン密着性を維持することができるカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves the profile of a resist pattern and suppresses a variation of line width due to laying in a vacuum chamber.例文帳に追加

レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。 - 特許庁

Alternatively, the photopolymerizable composition is applied on a substrate, pattern exposure is performed, (1) developed and heated or (2) heated and developed to obtain a cured material.例文帳に追加

光重合性組成物を基材に塗布し、パターン露光し、（１）現像した後、加熱、又は（２）加熱した後、現像し、硬化物を得る。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of giving a pattern in which a change in the line width is low, while maintaining high sensitivity even when a recycled developing solution is used.例文帳に追加

リサイクル現像液を用いても、高感度を維持しながら、線幅変化が低いパターンを与えるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses material elution in immersion exposure, and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

浸漬露光時の物質溶出が抑制された液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying positive resist composition excellent in decrease in line edge roughness, resolution and a cross-sectional profile of the resist pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスの低減、解像性及びレジストパターン断面形状に優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RELIEF PATTERN USING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING HEAT-RESISTANT COATING FILM, AND ELECTRONIC PARTS HAVING THESE COMPONENTS例文帳に追加

感光性樹脂組成物並びにそれを用いたレリーフパターンおよび耐熱性塗膜の製造方法およびそれらを有する電子部品 - 特許庁

The method of intaglio offset printing includes using the ink composition, silicone blanket and intaglio to form a printing pattern on the surface of a substrate plate.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法は、前記インキ組成物とシリコーンブランケットと凹版とを用いて、基板の表面に印刷パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV ensuring an expanded focal depth and improved foreign matter on a resist pattern.例文帳に追加

焦点深度の拡大、及びレジストパターン上の異物が改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for semiconductors with excellent sensitivity and roughness properties, and a method for resist-film and pattern formation using the same.例文帳に追加

感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The composition for forming a black pattern contains (a) black pigment and (b) amorphous silica particles whose average particle size is 0.1-1 μm.例文帳に追加

（ａ）黒色顔料、及び（ｂ）平均粒子径０．１〜１μｍの非晶質シリカ粒子を含有する、黒色パターン形成用組成物である。 - 特許庁

POLYMER OF PHOTOACID GENERATOR, MANUFACTURING METHOD THEREOF, TOP ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION CONTAINING THIS, AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

光酸発生剤の重合体、その製造方法、これを含む上部反射防止膜の組成物及び半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR, PHOTOCURABLE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR例文帳に追加

光重合開始剤、光硬化性組成物、パターン形成方法、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び光重合開始剤の製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYORGANOSILOXANE COMPOSITION, POLYORGANOSILOXANE-CURED RELIEF PATTERN AND METHOD FOR FORMING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

感光性ポリオルガノシロキサン組成物、ポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン及びその形成方法、並びに半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

To provide a positive resist composition used in ArF excimer laser lithography, etc., and suitable for thermal flow and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等に使用され、サーマルフロー用として好適なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having adequate sensitivity and capable of forming a coating film or pattern having a high transmittance.例文帳に追加

十分な感度を有すると共に、高い透過率の塗膜又はパターンを形成し得る感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

感光性接着剤組成物、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which can form a curing resin pattern having a high transmission factor at a wavelength of 400 nm.例文帳に追加

波長４００ｎｍにおいて高い透過率を有する硬化樹脂パターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a styrene resin composition which can be relatively inexpensively and easily extruded into a molding having a natural woodgrain pattern.例文帳に追加

比較的安価に違和感のない木目模様を有する成形品が容易に押出成形し得るスチレン系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a stimulation-sensitive composition which has excellent sensitivity, pattern profiles and dependency on condensation and rarefaction and hardly generates particles during preservation with lapse of time.例文帳に追加

感度、パターンプロファイル、疎密依存性が優れ、且つ経時保存時にパーティクルを発生し難い感刺激性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive positive photosensitive composition by having high sensitivity and high resolution and having wide development latitude, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

高感度かつ高解像度であり、現像ラチチュードも広く、安価なポジ型感光性組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive polymer composition having excellent sensitivity and resolution, and to provide a method of forming a relief pattern that uses the same, and an electronic part.例文帳に追加

感度及び解像度が感光性重合体組成物、これを用いたレリーフパターンの製造法および電子部品を提供する。 - 特許庁