「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alkali-developable resin composition and an alkali-developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesion, alkali resistance, etc., and capable of forming a fine pattern with high accuracy.例文帳に追加

感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in both of solubility in an organic solvent and a coating property to a support, and also to provide a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

有機溶剤への溶解性と、支持体への塗布性のいずれも優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid-generating agent for a resist composition, an acid-generating agent consisting of the compound, a resist composition containing the acid-generating agent and a method for producing a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive coloring composition which is superior in color characteristic, fine-pattern forming capability and properties after curing, a pigment dispersed composition for preparing the photosensitive coloring composition, and a color filter and a liquid crystal display in which picture elements, especially blue picture elements, are formed by using the resin composition.例文帳に追加

色特性、微細パターン形成能、さらには硬化後物性にも優れた感光性着色組成物、その調製に用いる顔料分散組成物、当該樹脂組成物を用いて画素、特に青色画素を形成したカラーフィルター及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of ensuring satisfactory improvement of sensitivity, exposure latitude and pattern collapse, in a process of producing a semiconductor such as IC and in production of a circuit board of a liquid crystal, a thermal head or the like, and a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造に於いて、感度、露光ラチチュード、パターン倒れについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with sufficient sensitivity and resolution, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method and a method for manufacturing a printed wiring board using the composition.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition developable with an aqueous alkali solution, having excellent mechanical properties (mechanical strength), sensitivity, resolution and heat resistance and giving a pattern of a good profile, and to provide a method for producing a pattern using the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能であり、機械物性（機械強度）、感度、解像度および耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物および該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたパターンの製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that gives a cured relief pattern with high resolution on copper or a copper alloy, as a useful coating film for manufacturing electric and electronic materials, and to provide a pattern forming method, a semiconductor device and a method for manufacturing the device using the above composition.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な塗膜として、銅又は銅合金上で高い解像度の硬化レリーフパターンを与えうる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いたパターン形成方法並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has high removability of development residue, allows formation of a fine pattern and is excellent in heat resistance, toughness, resolution and insulation; a forming method of a photosensitive film, a photosensitive laminate and a permanent pattern, using the photosensitive composition; and a printed board.例文帳に追加

現像残渣除去性が高く、微細パターンが形成でき、耐熱性、強靭性、解像性、及び絶縁性に優れている感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁

To provide a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent and high sensitivity and can obtain a resist pattern having a good shape, a process for producing the same, a radiation-sensitive composition including the same, and a resist pattern-forming method using the radiation-sensitive composition.例文帳に追加

安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、その製造方法、それを含む感放射線性組成物、および該感放射線性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pigment dispersion composition suitable for a colored curable composition simultaneously satisfying both the maintenance of the adhesiveness of a colored pattern to a support and the suppression of occurrence of residuals even if developing conditions are strengthened when the colored pattern is formed on the support.例文帳に追加

支持体上に着色パターン形成する際に現像条件を強化した場合であっても、支持体に対する着色パターンの密着性維持と残渣の発生抑制とを両立しうる着色硬化性組成物に好適な顔料分散組成物の提供。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is improved in developability and enables to form a pattern having good conformability to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

現像性が改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好なパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming an impurity diffusion layer includes a pattern formation step, whereby a pattern is formed by printing the diffusion agent composition onto a semiconductor substrate, and a diffusion step, whereby the impurity diffusion component (A) in the diffusion agent composition is diffused onto the semiconductor substrate.例文帳に追加

また、不純物拡散層の形成方法は、半導体基板に、上述の拡散剤組成物を印刷してパターンを形成するパターン形成工程と、拡散剤組成物の不純物拡散成分（Ａ）を半導体基板に拡散させる拡散工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a resist composition improving lithographic characteristics and forming a resist pattern of an excellent shape, a method for forming a resist pattern, a photobase generator for use in the resist composition, and a new compound useful as the photobase generator.例文帳に追加

リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for ultraviolet laser exposure which enables to form a pattern having high adhesion to a substrate, and to provide a pattern forming method using the colored curable composition, a method for manufacturing a color filter, a color filter obtained by the method, and a display including the color filter.例文帳に追加

基板との密着性が高いパターンを形成しうる紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、それにより得られたカラーフィルタ及び該カラーフィルタを備えた表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having no coloring but high transmittance for visible light and easily forming a transparent hardened resin pattern of the objective feature, and to provide a transparent hardening resin pattern with high controlling property of the profile formed by using the above composition.例文帳に追加

着色がなく可視光に対する高い透過率を有し、目的とする形状の透明硬化樹脂パターンを容易に形成できる感放射線性樹脂組成物と、それを用いて形成された、プロファイル制御性のよい透明硬化樹脂パターンを提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having excellent resolution while maintaining high sensitivity specific to a chemically amplified resist in the process of forming a pattern by irradiation with active energy rays, and to provide a method for producing a relief pattern, and electronic components using the resist composition.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によるパターン形成において、化学増幅レジスト特有の高感度を維持しつつ解像力に優れるネガ型レジスト組成物、及び当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using an alcoholic organic solvent in which solubility of a resist material is good and which exhibits excellent lithography characteristics and forms a resist pattern of good configuration, and to provide a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性が良好であり、優れたリソグラフィー特性を示し、良好な形状のレジストパターンを形成できるアルコール系有機溶剤を用いたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition that has excellent resolution, can suppress the occurrence of a defect after development, and shows good lithographic characteristics and a pattern profile, to provide a method for forming a resist pattern, and to provide a polymer compound useful for the above resist composition and a method for producing the polymer compound.例文帳に追加

解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a titanium black dispersion composition for forming a light-shielding film, which has high dispersibility of titanium black and high storage stability; and a radiation-sensitive composition having good flatness due to reduced residue in pattern formation leading to no generation of roughness on the top face of the pattern.例文帳に追加

チタンブラックの分散性が高く、保存安定性の高い遮光膜形成用のチタンブラック分散組成物、および、パターン形成したときに、残渣が抑制され、パターン上面の荒れが発生せず平坦性の良好な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition and a photosensive film for efficiently forming a highly fine permanent pattern superior in insulation reliability, transparency and glossiness by having excellent sensitivity and resolution, and also to provide a permanent pattern forming method using the photosensitive film, and a printed circuit board forming a pattern by the permanent pattern forming method.例文帳に追加

優れた感度及び解像度を有し、絶縁信頼性、透明性、及び光沢度に優れた高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、該感光性フィルムを用いた永久パターン形成方法、該永久パターン形成方法によりパターンが形成されるプリント基板の提供。 - 特許庁

The method of forming the conductive baked material pattern is the method of forming the conductive baked material pattern by forming a pattern of the resin composition containing the base metal on a base material and by baking the pattern in the atmosphere, and a temperature elevation speed at baking is 10 °C/min. or more.例文帳に追加

本発明にかかる導電性焼成物パターンの形成方法は、基材上に卑金属を含む樹脂組成物のパターンを形成し、そのパターンを大気中で焼成して導電性焼成物パターンを形成する方法であって、焼成時の昇温速度が１０℃／分以上であることを特徴とする。 - 特許庁

To improve the reproducibility of transfer to a resin sheet surface of a geometrical pattern formed in a roll in a resin sheet with the geometrical pattern formed by holding a sheet-shaped extruded material between a pattern roll with the geometrical pattern formed and a cooling roll after a resin composition is melted/extruded.例文帳に追加

樹脂組成物を溶融押出した後、シート状押出物を幾何学的模様が付された型付ロールと冷却ロールとの間に挟持することにより幾何学模様が付与された樹脂シートにおいて、ロールに付された幾何学模様の樹脂シート表面への転写再現性が向上された樹脂シートを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is used to form a pattern by ultraviolet exposure and development, enables to convert the formed pattern to a pattern of a forward tapered shape excellent in smoothness when the formed pattern is heat treated, and forms a coating film excellent in heat resistance and weatherability.例文帳に追加

紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。 - 特許庁

To form a pattern shape by which a wide angle of view and good reflexivity are ensured by using a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern of μm unit, excellent in verticality at the side portions of the pattern shape and having such moderate thermal fluidity as to be able to make the flat face of the top of the pattern a curved surface.例文帳に追加

μｍ単位の微細なパターンを形成することができ、さらにパターン形状の側面部分における垂直性に優れ、パターン頂上部の平坦面を曲面化できる適度な熱流動性を有する感光性樹脂組成物により、広い視野角で良好な反射特性が得られるパターン形状を形成する。 - 特許庁

This nano imprint mold forms a convexo-concave pattern 11 on a substrate 10 with resist, embeds a shape memory composition material 12 (NiTi alloy) on the above convexo-concave pattern, covers it with a film, and then peels off the film from the above convexo-concave pattern to obtain a mold 13 with the above convexo-concave pattern transcribed.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 - 特許庁

There is also provided a method for forming a fine pattern according to the present invention comprising the steps of: forming a first protruding pattern on a film to be processed; forming a spacer formed from the resin composition at a sidewall of a protruding part of the protruding pattern; and forming a fine pattern by using the spacer or a resin layer disposed around the spacer as a mask.例文帳に追加

また、本発明により微細パターンの形成方法は、被加工膜上に、第一の凸パターンを形成させ、その凸パターンの凸部側壁に前記樹脂組成物から形成されたスペーサーを形成させて、そのスペーサー、またはスペーサーの周りに配置された樹脂層をマスクとして微細パターンを形成させるものである。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for ultraviolet laser exposure which enables to form a pattern having high linewidth stability in a developing step on a substrate, to provide a pattern forming method giving stable pattern profile, and to provide a method for manufacturing a color filter suitable for forming a colored pixel pattern of a color filter.例文帳に追加

現像工程における線幅安定性が高いパターンを基板上に形成しうる紫外光レーザー露光用着色硬化性組成物を提供し、パターン形状の安定なパターン形成方法を提供し、カラーフィルタの着色画素パターンの形成に好適なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition with which a pattern with a low refractive index, excellent film strength and few development defects can be formed at high resolution, a pattern forming material, as well as a photosensitive film using it, a pattern forming method, a pattern film, a low refractive index film, an antireflection film, an optical device and a solid state imaging element.例文帳に追加

本発明は、屈折率が低く、更には、膜強度に優れ、現像欠陥が少ないパターンを高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

[2] The method for forming a resist pattern includes a step for obtaining a resist film by applying the negative type photosensitive composition defined by [1] on a base material, a step for pattern-exposing the obtained resist film, and a step for forming a resist pattern by developing the resist film after the pattern-exposure and by dissolving and removing the unexposed resist film.例文帳に追加

［２］［１］記載のネガ型感光性組成物を基材上に塗布してレジスト膜を得る工程と、得られたレジスト膜をパターン露光する工程と、パターン露光後のレジスト膜を現像して未露光部のレジスト膜を溶解除去してレジストパターンを形成する工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a radiation-curing composition giving a cured object excellent in pattern accuracy even under relatively small exposure energy, a method for storing the same, a method for forming a cured film and a method for forming a pattern.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation curable composition for obtaining a hardener superior in pattern precision even when an exposure amount is comparatively small, and to provide its storing method, a cured film forming method, and a pattern forming method.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2).例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, an actinic ray- or radiation-sensitive film, mask blanks, and a pattern formation method, which enable pattern formation with excellent shapes.例文帳に追加

良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、マスクブランクス、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dot pattern forming method of forming a fine dot pattern using a positive radiation-sensitive resin composition, and to provide a method of manufacturing a conductive shaped article using the dot patten forming method.例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物を用いて微細なドットパターンを形成する方法、及び、このドットパターン形成方法を利用して導電性造形物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can be developed with an aqueous alkali solution and from which a pattern of good shape excellent in chemical resistance and mechanical characteristics is obtained, a method for producing a pattern and electronic components.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像可能であり、耐薬品性、機械特性に優れる良好な形状のパタ−ンが得られるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition which easily and efficiently forms a fine resist pattern without practically generating scum between parts of an insolubilized first resist pattern.例文帳に追加

不溶化処理された第一のレジストパターンの間にスカムをほとんど生じさせることなく、微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming a pattern with an excellent resolution, a wide exposure latitude (EL) and a small line width variation (LWR), a chemical amplification resist composition used in the method, and a resist film.例文帳に追加

解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

At this time, a resin composition for the pattern material prepared by compounding attidives such as the curing agent or the like with a composite resin is cured to be used as the pattern material, wherein a butyral resin is added to the thermosetting resin.例文帳に追加

この際に、柄材として、熱硬化性樹脂にブチラール樹脂を添加した複合型樹脂に硬化剤などの添加剤を配合して調製された柄材用樹脂組成物を硬化させたものを用いる。 - 特許庁

To provide a resin composition which is developed with water, achieves good pattern accuracy, ensures little residue of organic matter after baking by heating, and is used chiefly for a resistive element pattern excellent in adhesion, and also to provide a cured product thereof.例文帳に追加

水で現像ができ、パターン精度が良好で、加熱焼成後の有機物の残渣が少なく、密着性に優れた抵抗体パターン用等の樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes a process of irradiating a coating film made of the photosensitive resin composition with active rays in a pattern, heating the film at 50 to 80°C, and then developing and removing the portion not irradiated.例文帳に追加

前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、５０℃〜１８０℃で加熱した後、未照射部を現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for forming a fine line pattern particularly even when the space width of a line-and-space pattern is wide and excellent also in transparency, sensitivity and resolution to radiation.例文帳に追加

特に、ライン・アンド・スペースパターンのスペース幅が広い場合にも、微細なラインパターンを形成でき、しかも放射線に対する透明性、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes a process of irradiating a coating film made of the above photosensitive resin composition with active ray in a pattern, heating the film at 50 to 180°C and then developing and removing the portion not irradiated.例文帳に追加

これらの感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、５０〜１８０℃で加熱した後、未照射部を現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a paste composition by which a fine wiring pattern can be formed without occurrence of bleeding on a pattern formed by a screen print making even when repetitious print using a same screen printing plate is carried out.例文帳に追加

同じスクリーン製版で繰り返し印刷しても、スクリーン印刷された印刷パターンに滲みが発生せず、精細な配線パターンを形成することが可能なペースト組成物を提供すること。 - 特許庁