「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a conductive composition to use for manufacturing a conductive pattern having a conductive path with a decreased cross-section area while maintaining high conductivity and low resistivity.例文帳に追加

高い伝導率および低い抵抗率を維持しながら、減少した断面積を有する導電路を有する伝導性パターンの製造に使用するための伝導性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

An auxiliary line pattern for deciding composition stored in a ROM 37a is superimposed on the picked-up image displayed on the monitor 25 and displayed by an auxiliary line display device.例文帳に追加

また、液晶モニタ２５に表示された撮像画像に重ねて、ＲＯＭ３７ａに記憶された構図決定用の補助線パターンが補助線表示装置によってスーパーインポーズ表示される。 - 特許庁

To provide a curable composition having reduced residue around a pattern even when a pixel size is reduced, from which a color filter for color separation of a solid-state imaging device with favorable color irregularity can be formed.例文帳に追加

ピクセルサイズが小さくなってもパターン周辺の残渣が少なく、色むらが良好な固体撮像素子の色分離用カラーフィルタを形成しうる硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition that can give a cured film with high resolution, having low warpage and no pattern embedment by reflow, in the process of low-temperature baking at 200°C or lower.例文帳に追加

２００℃以下の低温焼成時において、低反りかつリフローによるパターン埋まりが起こらない高解像度の硬化膜を得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-curing composition capable of forming a hardened material that is excellent in light shielding effects and fine pattern formability, and has resistance properties under a mild condition, and a cured material thereof.例文帳に追加

遮光性に優れ、微細パターンの形成性が良好であり、耐性を備えた硬化物を穏和な条件で形成可能な光硬化性組成物及び硬化物を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition capable of reducing the discoloring of a white coating film, due to UV irradiation and a thermal history, and the lowering of reflectance, and forming a pattern with a low amount of exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射，熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

Then, by using an ashing gas, which is the gaseous mixture of O_2 and N_2 for which the composition rate of N_2 is 50% or higher, plasma ashing is performed at the substrate temperature of 200°C or higher, and the resist pattern 3 is peeled off.例文帳に追加

そして、Ｏ_2とＮ_2の混合ガスでありＮ_2の組成比が５０％以上であるアッシングガスを用い、基板温度を２００℃以上にしてプラズマアッシングを行い、レジストパターン３を剥離する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition improved in fluidity and coating stability, and a photoresist pattern forming method and a display substrate production method using the same.例文帳に追加

流動性及びコーティング安定性が向上した感光性樹脂組成物並びにこれを利用したフォトレジストパターンの形成方法及び表示基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as sensitivity, resolution, pattern shape and line edge roughness when KrF excimer laser light, an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a relief pattern includes steps of applying and drying the above photosensitive polymer composition on a supporting substrate, exposing, developing, and heat treating it.例文帳に追加

前記感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程、加熱処理する工程を含むレリ−フパターンの製造法及び電子部品。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive resin composition suitable for use as an etching mask material, particularly a mask material for etching gold, excellent in resolution during pattern formation and also in etching properties.例文帳に追加

パターン形成時の解像度に優れ、しかもエッチング性に優れる、エッチング用マスク材、特に金エッチング用マスク材として好適なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for forming a fine pattern, which is capable of accurately forming an optimum (fine) image for various electronic components by a relief reversal printing method.例文帳に追加

各種電子部品として所望される最適（微細）な画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

Further, the diffuse reflection layer with a reflectance gradient is also made by printing paint having a similar composition to the translucent substrate by controlling dot density of a dot pattern.例文帳に追加

また、同様組成の塗料をドットパターンのドット密度を制御して透光性基板に印刷することにより反射率の勾配を付与した拡散反射層として形成される。 - 特許庁

When the substance is gathered on a conductive pattern by a foreign substance removal probe, the foreign substance or the scraped residue of the foreign substance is subjected to composition analysis by Auger electron spectroscopy or secondary ion mass spectrometry.例文帳に追加

異物除去探針で導電性のパターン上に集めた場合にはオージェ電子分光または二次イオン質量分析法で異物または異物の削り滓を組成分析する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device, excellent in the change with time of preservability and excellent further in density dependence.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、経時保存性が優れ、更に疎密依存性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution and line edge roughness without spoiling basic physical properties as a resist, such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、解像度およびラインエッジラフネスに優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type crosslinkable positive type resist composition having high resolution, excellent in etching resistance and capable of forming a resist pattern adaptable to a recent tendency to form a thinner film.例文帳に追加

高解像性で耐エッチング性に優れ、しかも最近の薄膜化に対応しうるレジストパターンの形成が可能な化学増幅型の架橋化ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The photosensitive polyimide precursor composition contains a polyimide precursor (A), a photopolymerization initiator (B) and a plasticizer (C) and the pattern forming method and the electronic component using the same are provided.例文帳に追加

（Ａ）ポリイミド前駆体、（Ｂ）光重合開始剤及び（Ｃ）可塑剤を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品。 - 特許庁

NEW OXIME ESTER COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING THE SAME, POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法 - 特許庁

To obtain a resin composition for a color filter, which is excellent in polymerization property and produces neither scratch nor chip on a pixel pattern, by active energy ray irradiation and/or heating.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射および／または加熱により重合性に優れ、かつ画素パターンに傷および欠けを生じることのないカラーフィルタ用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pigment composition for a color filter which has low viscosity and excellent fluidity and storage stability and which can form a pattern with sharpness, high transparency, high definition and reproducibility.例文帳に追加

低粘度で流動性、貯蔵安定性に優れ、鮮明で、透明性が高く、高精細で再現性のあるパターンを形成することができるカラーフィルタ用顔料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a photosensitive or radiation sensitive composition having satisfactory sensitivity to light and suitable for lithography using short-wavelength light such as far ultraviolet light.例文帳に追加

光に対する感度が十分あり、遠紫外光等の短波長光を用いたリソグラフィには適した光または放射線感応性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A metal pattern of chromium oxide is deposited on the upper surface of a glass substrate, and a covering resin layer comprising a cured product of an acrylic resin and a urethane-based resin composition is applied on the coated resin layer.例文帳に追加

ガラス基板の上面に酸化クロムの金属パターンを被着させ、その上にアクリル系樹脂及びウレタン系樹脂組成物の硬化物からなる被覆樹脂層を被覆形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.例文帳に追加

高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The resist pattern is obtained by forming a base blocking antireflection film from the above composition on a resist coating film formed on a substrate, irradiating the resist with radiation, and developing.例文帳に追加

レジストパターンは、基板上に形成したレジスト被膜上に当該組成物から塩基遮断性反射防止膜を形成したのち、放射線を照射し、現像することによって形成される。 - 特許庁

The concrete board comprises a hardened body of a composition containing at least cement, pozzolan fine powder, fine aggregate having ≤2 mm particle diameter, a water reducing agent and water and has a pseudo rock pattern on the surface.例文帳に追加

少なくとも、セメント、ポゾラン質微粉末、粒径2mm以下の細骨材、減水剤、及び水を含む配合物の硬化体からなるコンクリート板であって、表面に擬岩模様を有するコンクリート板。 - 特許庁

To provide a granular fertilizer composition capable of realizing the diversified duration of fertilizer effect or elution pattern and supplying fertilizer components suitably to crops.例文帳に追加

より多様な肥効持続期間や溶出パターンを実現することができ、作物に対してより好適に肥料成分を供給することを可能にする粒状肥料組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst composition exhibiting high activity in a short time, a photocatalyst-containing layer and a pattern forming body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒組成物や光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency particularly to ArF excimer laser light and excellent in basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a water-soluble resin composition for forming fine photoresist patterns by efficiently reducing the size of a contact hole pattern of a photoresist in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体工程のフォトレジストのコンタクトホールパターンの大きさを効率よく減少することによって、微細なフォトレジストパターンを形成することのできる水溶性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamide ester composition useful for the production of electric/electronic materials, having a wide film thickness region in which i-line exposure is possible, and capable of giving a high resolution polyimide pattern.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能な膜厚領域が広く、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え得る感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, giving a photoresist having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and excellent in PED stability in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造におけるコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にＰＥＤ安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for short wavelength lithography such as electron beam lithography or EUV lithography, capable of giving a pattern having good sensitivity, resolution and shape.例文帳に追加

電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、感度、解像度及び形状が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition giving a resist pattern with a suppressed change in line width when observed with a scanning electron microscope(SEM) in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したときに、線幅の変動が軽減したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition capable of shortening processing time in a development step in the production of a relief pattern and having high resolution and storage stability.例文帳に追加

レリーフパターン製造時の現像工程における処理時間を短縮可能で、かつ高い解像度と保存安定性を有する感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供すること。 - 特許庁

[3] A method for producing a transparent film is provided in which a layer comprising the radiation sensitive resin composition described in the above [1] is formed on a substrate, exposed, and developed to form a pattern.例文帳に追加

〔３〕前記〔１〕に記載の感放射線性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、該層を露光したのち現像してパターンを形成する透明膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having high sensitivity, good pattern forming property and excellent adhesion to a substrate even when a colorant is contained at high concentration, and to provide a color filter and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度、良好なパターン形成性、基材との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of reducing a watermark defect and forming an excellently shaped resist pattern, and to provide a resist film using the same and a patterning method.例文帳に追加

ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity, wide defocus latitude when zone illumination is used and hardly generating side lobe when a pattern is formed by using a half-tone phase shift mask.例文帳に追加

高感度で、輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of providing a resist which improves shrinkage of a pattern in observation with SEM (scanning electron microscope) while retaining excellent dry etching resistance and does not require removal of metal.例文帳に追加

優れたドライエッチング耐性を維持したまま、ＳＥＭ観察時にパターンの縮みが改良され、、金属を除去する必要がないレジストを提供し得るポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents a shape failure of a wire in a circuit with a fine pattern and can manufacture a printed wiring board (or film) that does not cause a short circuit.例文帳に追加

微細パターンの回路配線の形状不良を防止し、ショート発生のないプリント配線板（あるいはフィルム）を製造し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, RECORDING UNIT, INKJET RECORDING APPARATUS, RECORDING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, ARTICLE, ENVIRONMENTAL HISTORY-DETECTING METHOD AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁

To provide a multi-colored pattern coating composition forming a flat coated film capable of expressing a colorful design by integrating a base color with patterned colors and excellent in weather resistance and a soil- preventing property.例文帳に追加

背景色と模様色が複合して、多彩な意匠感を表現できる耐候性および防汚性に優れたフラットな塗膜を形成することができる多色模様塗料組成物。 - 特許庁