「composition pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive resin composition for soft X rays which has high sensitivity, high resolution, and a rectangular pattern shape and also has a superior LER characteristic and superior dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解像性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた特性を有する軟Ｘ線用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an undercoat forming composition having a high n value, a low k value, transparency and high etching resistance, containing substantially no sublimable component, and used in resist pattern transfer.例文帳に追加

ｎ値が高く、ｋ値が低く透明でかつエッチング耐性が高く、更に昇華性成分が極めて少ない、レジストパターン転写時に使用される下層膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyimide resin composition which has excellent positive photosensitive characteristics and good resolution in pattern formation, is less liable to warp because of relieved thermal stress, and is easily worked.例文帳に追加

ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、熱応力を緩和して反りの発生が少なく、加工性の容易な感光性ポリイミド樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a liquid resin composition which substantially avoids discoloration and reflectance reduction of a white coating film thereof due to exposure to UV and heat history, and which enables to form a pattern at a small light exposure.例文帳に追加

ＵＶ照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少なく、かつ、低露光量でパターン形成可能な液状樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an aqueous photopolymerizable resin composition improved in odor of a solvent, storage stability and coloring and excellent in curing properties, a pattern-forming property, etching resistance and release resistance of a cured product.例文帳に追加

溶剤臭気や保存安定性や着色が改善され、硬化物の硬化性、パターン形成性、エッチング耐性、耐剥離性に優れた水性光重合性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is developable with water and having high pattern forming accuracy, and to provide a transfer sheet using the same, a plasma display panel and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

水現像が可能で、パターンの形成精度が高い感光性組成物を提供し、またそれを用いた転写シートおよびプラズマディスプレイパネルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper film, which can form a copper film having a predetermined pattern without needing an etching step, and to provide a composition which can be used therefor.例文帳に追加

エッチング工程がなくても、所定のパターンを有する銅膜を形成することを可能とした銅膜の形成方法、およびそのために使用することができる組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition sufficiently effective in improving resolution and resist removal characteristic, a photosensitive element, a method of forming a resist pattern, and a method of manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像度及びレジスト剥離特性の向上に十分効果のある感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in sensitivity, limit resolution, roughness properties, exposure latitude (EL), post exposure bake (PEB) temperature dependency and depth of focus (DOF), and a resist composition.例文帳に追加

感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性、及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, having high sensitivity, superior resolution and adhesion, a photosensitive element that uses the same, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

高感度で且つ解像度・密着性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for h-line exposure having high sensitivity to an h-line and excellent in resolution of a resist pattern, and a photosensitive dry film using the same.例文帳に追加

ｈ線に高い感度を有し、レジストパターンの解像性に優れたｈ線露光用感光性樹脂組成物、および、これを用いた感光性ドライフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type cross linkage forming positive type photoresist composition having high resolution, excellent in etching resistance and capable of forming a resist pattern adaptable to a recent tendency to form a thinner film.例文帳に追加

高解像性で耐エッチング性に優れ、しかも最近の薄膜化に対応しうるレジストパターンの形成が可能な化学増幅型の架橋形成ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern for manufacturing a semiconductor device, a forming method thereof, a method for manufacturing coating composition for forming a micropattern, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターン形成用コーティング組成物の製造方法及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which imparts adequate heat resistance and mechanical characteristics even when heat-treated at a low temperature of ≤220°C, a method for producing a pattern, and electronic components.例文帳に追加

２２０℃以下の低温下の加熱処理でも十分な耐熱性と機械特性を与えるネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which has a high level of resolution, a good pattern shape and a satisfactory depth of focus, and at the same time, has no significant defects after the development and has excellent plasma etching resistance.例文帳に追加

高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To obtain a copolymer having an excellent focal depth margin and excellent line-end foreshortening resistance without impairing basic properties as a resist such as a pattern shape, dry-etching resistance, heat resistance, etc., and a radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、焦点深度余裕に優れると共に、ラインエンドフォアショートニング耐性に優れる。 - 特許庁

To provide a pigment composition for a color filter which has low viscosity and excellent fluidity and storage stability and which can form a pattern with sharpness, high transparency, high definition and reproducibility.例文帳に追加

低粘度で流動性、貯蔵安定性に優れ、鮮明で、透明性が高く、高精細で再現性のあるパターンを形成することができるカラーフィルタ用顔料組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer giving a resist pattern, which has good line width roughness while exhibiting high resolution in a lithography process, and a positive photoresist composition containing the polymer.例文帳に追加

リソグラフィプロセスにおいて解像度が高いながら、ライン幅ラフネスも良好なレジストパターンを与える重合体、及びこの重合体を含むポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Each of the pellet shaped rubber composition is plasticized by continuously feeding at a respective charging rate based on a changing pattern of the mixing ratio previously determined.例文帳に追加

ペレット状のそれぞれのゴム組成物を、予め定められた混合比の変化パターンに基づいたそれぞれの供給速度で連続供給してこれらのゴム組成物を可塑化する。 - 特許庁

The resist pattern is obtained by forming a base blocking antireflection film from the above composition on a resist coating film formed on a substrate, irradiating the resist with radiation, and developing.例文帳に追加

レジストパターンは、基板上に形成したレジスト被膜上に当該組成物から塩基遮断性反射防止膜を形成したのち、放射線を照射し、現像することによって形成される。 - 特許庁

To obtain a resin composition for a color filter, which is excellent in polymerization property and produces neither scratch nor chip on a pixel pattern, by active energy ray irradiation and/or heating.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射および／または加熱により重合性に優れ、かつ画素パターンに傷および欠けを生じることのないカラーフィルタ用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A metal pattern of chromium oxide is deposited on the upper surface of a glass substrate, and a covering resin layer comprising a cured product of an acrylic resin and a urethane-based resin composition is applied on the coated resin layer.例文帳に追加

ガラス基板の上面に酸化クロムの金属パターンを被着させ、その上にアクリル系樹脂及びウレタン系樹脂組成物の硬化物からなる被覆樹脂層を被覆形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition using electron beams or X rays having high resolution and capable of forming a rectangular and excellent pattern profile and improving development defects.例文帳に追加

高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a photosensitive or radiation sensitive composition having satisfactory sensitivity to light and suitable for lithography using short-wavelength light such as far ultraviolet light.例文帳に追加

光に対する感度が十分あり、遠紫外光等の短波長光を用いたリソグラフィには適した光または放射線感応性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The concrete board comprises a hardened body of a composition containing at least cement, pozzolan fine powder, fine aggregate having ≤2 mm particle diameter, a water reducing agent and water and has a pseudo rock pattern on the surface.例文帳に追加

少なくとも、セメント、ポゾラン質微粉末、粒径2mm以下の細骨材、減水剤、及び水を含む配合物の硬化体からなるコンクリート板であって、表面に擬岩模様を有するコンクリート板。 - 特許庁

To provide a granular fertilizer composition capable of realizing the diversified duration of fertilizer effect or elution pattern and supplying fertilizer components suitably to crops.例文帳に追加

より多様な肥効持続期間や溶出パターンを実現することができ、作物に対してより好適に肥料成分を供給することを可能にする粒状肥料組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst composition exhibiting high activity in a short time, a photocatalyst-containing layer and a pattern forming body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒組成物や光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a water-soluble resin composition for forming fine photoresist patterns by efficiently reducing the size of a contact hole pattern of a photoresist in a semiconductor process.例文帳に追加

半導体工程のフォトレジストのコンタクトホールパターンの大きさを効率よく減少することによって、微細なフォトレジストパターンを形成することのできる水溶性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamide ester composition useful for the production of electric/electronic materials, having a wide film thickness region in which i-line exposure is possible, and capable of giving a high resolution polyimide pattern.例文帳に追加

電気・電子材料の製造に有用な、ｉ線露光可能な膜厚領域が広く、かつ高い解像度のポリイミドパターンを与え得る感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for short wavelength lithography such as electron beam lithography or EUV lithography, capable of giving a pattern having good sensitivity, resolution and shape.例文帳に追加

電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、感度、解像度及び形状が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency particularly to ArF excimer laser light and excellent in basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition giving a resist pattern with a suppressed change in line width when observed with a scanning electron microscope(SEM) in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、得られたレジストパターンを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察したときに、線幅の変動が軽減したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive polyamic acid ester composition capable of shortening processing time in a development step in the production of a relief pattern and having high resolution and storage stability.例文帳に追加

レリーフパターン製造時の現像工程における処理時間を短縮可能で、かつ高い解像度と保存安定性を有する感光性ポリアミド酸エステル組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, giving a photoresist having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power and excellent in PED stability in the formation of a contact hole pattern in the production of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造におけるコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にＰＥＤ安定性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having high sensitivity, good pattern forming property and excellent adhesion to a substrate even when a colorant is contained at high concentration, and to provide a color filter and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、高感度、良好なパターン形成性、基材との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of providing a resist which improves shrinkage of a pattern in observation with SEM (scanning electron microscope) while retaining excellent dry etching resistance and does not require removal of metal.例文帳に追加

優れたドライエッチング耐性を維持したまま、ＳＥＭ観察時にパターンの縮みが改良され、、金属を除去する必要がないレジストを提供し得るポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition having high sensitivity, wide defocus latitude when zone illumination is used and hardly generating side lobe when a pattern is formed by using a half-tone phase shift mask.例文帳に追加

高感度で、輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of reducing a watermark defect and forming an excellently shaped resist pattern, and to provide a resist film using the same and a patterning method.例文帳に追加

ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

[3] A method for producing a transparent film is provided in which a layer comprising the radiation sensitive resin composition described in the above [1] is formed on a substrate, exposed, and developed to form a pattern.例文帳に追加

〔３〕前記〔１〕に記載の感放射線性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、該層を露光したのち現像してパターンを形成する透明膜の製造方法。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which prevents a shape failure of a wire in a circuit with a fine pattern and can manufacture a printed wiring board (or film) that does not cause a short circuit.例文帳に追加

微細パターンの回路配線の形状不良を防止し、ショート発生のないプリント配線板（あるいはフィルム）を製造し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

NEW COMPOUND, METHOD FOR SYNTHESIZING THE SAME, INK, INK CARTRIDGE, RECORDING UNIT, INKJET RECORDING APPARATUS, RECORDING METHOD, LIQUID COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, ARTICLE, ENVIRONMENTAL HISTORY-DETECTING METHOD AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

新規化合物とその合成方法、インク、インクカートリッジ、記録ユニット、インクジェット記録装置、記録方法、液体組成物、パターン形成方法、物品、環境履歴検知方法及び記録媒体 - 特許庁

To provide a multi-colored pattern coating composition forming a flat coated film capable of expressing a colorful design by integrating a base color with patterned colors and excellent in weather resistance and a soil- preventing property.例文帳に追加

背景色と模様色が複合して、多彩な意匠感を表現できる耐候性および防汚性に優れたフラットな塗膜を形成することができる多色模様塗料組成物。 - 特許庁